国際特許分類[C11D1/10]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 動物性または植物性油,脂肪,脂肪性物質またはろう;それに由来する脂肪酸;洗浄剤;ろうそく (22,504) | 洗浄性組成物;単一物質の洗浄剤としての使用;石けんまたは石けん製造;樹脂石けん;グリセリンの回収 (20,192) | 本質的に表面活性化合物を基とする洗浄剤組成物;その化合物の洗浄剤としての用途 (5,217) | 陰イオン性化合物 (2,158) | カルボン酸またはその塩 (704) | アミノカルボン酸;イミノカルボン酸;それらの脂肪酸縮合物 (165)
国際特許分類[C11D1/10]に分類される特許
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ポリオール組成物
【課題】毛髪洗浄後のしっとり感とまとまり感を髪に付与できる毛髪洗浄剤用の組成物を提供することである。
【解決手段】成分(A)一般式(1)に示す化合物と、成分(B)ジヒドロキシル化合物とを含有することを特徴とする組成物。
【化1】
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皮膚洗浄剤組成物
【課題】洗浄時に良好な泡立ち等、良好な使用感が得られる皮膚洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】(A)、(B)および(C)を含有する皮膚洗浄剤組成物。(A)炭素数8〜22の脂肪酸塩(B)炭素数8〜22のアルキルイミノジ酢酸塩(C)式(1)で示されるアルギニン誘導体
(Rは、水素等を表す。)
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身体用液体洗浄剤
【課題】泡立ち性、泡質などの泡特性の優れた、かつ、洗浄後の肌がしっとりと仕上がり、しかも経時的に優れた液体安定性を有する液体状の身体用洗浄剤の提供。
【解決手段】一般式R1−COOM1(I)で示される高級脂肪酸塩(A)を14〜28質量%、一般式R2−CONH−CH(COOM2)−CH2COOM2(II)で示されるN−アシルアスパラギン酸又はその塩(B)を0.2〜4質量%及び、ヒドロキシプロピルメチルセルロース(C)を0.05〜0.5質量%を必須成分として含有することを特徴とする身体用液体洗浄剤。更に、一般式R3−CONH−C2H6−N+(CH3)2−CH2COO−(III)で示される脂肪酸アミドプロピルベタイン(D)を0.5〜6質量%、及び/又は一般式R4−CO−N(C2H4OH)−R5(IV)で示される脂肪酸アルカノールアミド(E)を0.5〜5質量%配合したものがより好ましい。
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洗浄剤組成物および洗浄方法
【課題】 本発明の目的は、アミラーゼ、セルラーゼおよびペクチナーゼから選ばれる少なくとも1種の酵素と、浸透性・湿潤性に優れかつ酵素の活性を阻害しないアニオン界面活性剤とを含み、作業環境性、浸透性、湿潤性、洗浄性に優れた洗浄剤組成物および洗浄方法を提供することである。
【解決手段】 本発明は、アミラーゼ、セルラーゼおよびペクチナーゼから選ばれる少なくとも1種の酵素(A)と、炭素数8〜18の脂肪族アミンのアルキレンオキサイド付加物をアニオン化したアニオン界面活性剤(B)とを含む、洗浄剤組成物である。
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非水組成物
【課題】安定性に優れた非水組成物を提供することである。
【解決手段】下記一般式(1)で示される成分(a)多鎖多親水基型化合物と成分(b)油性成分又は非水溶媒とを含有し、かつ実質的に水分を含有しないことを特徴とする非水組成物。
【化1】
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新規ジカルボン酸型化合物
【課題】加水分解安定性、生分解性を有し、優れた界面活性を示す新規ジカルボン酸型化合物を提供する。
【解決手段】ジカルボン酸型化合物は、式(1)で示される化合物である。
CnH2n+1は直鎖状の又は分岐状のアルキル基を示し、nは1〜22の整数を示し、R1は炭素原子数1〜22のアルキレン基を示し、R2は炭素原子数1〜22のアルキル基を示し、R3は、水素原子または、メチル基を示し、Xは、水素イオン、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、又はアンモニウムイオンを示すが、但し、前記R1及びR2は−R1−CH−CH−R2部分が炭素原子数9〜25の炭化水素構造をなすように選択される。
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固形洗浄組成物
【課題】 本発明の解決すべき課題はアミノ酸系固形洗浄組成物において、その良好な外観を損なうことなく、使用感の改善を図ることにある。
【解決手段】N−アシルアミノ酸塩を主成分とする固形洗浄組成物であって、
前記N−アシルアミノ酸に対する対イオンは、エタノールアミンからなる対イオン30〜60%と、N−メチルタウリン及びヒポタウリンからなる群より選択される対イオン5〜25%と、アルカリ金属ならなる対イオン25〜60%と、を含み、
前記N−アシルアミノ酸の対イオンによる中和度は、1.7〜2.0であることを特徴とする固形洗浄組成物。
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固形洗浄組成物
【課題】本発明の解決すべき課題は、アミノ酸系固形洗浄組成物において、その良好な外観を損なうことなく、保形性、溶け減りの改善を図ることにある。
【解決手段】 N−アシルアミノ酸塩を主成分とする透明洗浄剤組成物であって、
ポリオキシアルキレンアルキルエーテル R−(AO)nH
(ここで、RはC14〜C36の直鎖または分岐の炭化水素基、AOはエチレンオキサイド基、プロピレンオキサイド基、ブチレンオキサイド基から選択される残基であって、nは15〜50、かつIOB値が1.2〜1.4である)を0.5〜3質量%含み、
また、前記N−アシルアミノ酸に対する対イオンは、エタノールアミンからなる対イオン40〜60%と、カリウムイオンならなる対イオン40〜60%と、を含み、
前記N−アシルアミノ酸の対イオンによる中和度は、1.6〜2.0であることを特徴とする固形洗浄組成物。
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洗浄剤
【課題】泡立ち、泡の持続時間、及び泡のきめ細かさに優れるポリオキシエチレン脂肪酸エステルカルボン酸塩が配合された洗浄剤の提供。
【解決手段】ポリオキシエチレン脂肪酸エステルカルボン酸塩、N−アシルアミノ酸塩、アルキルグルコシド、及びベタイン型両性界面活性剤が配合された洗浄剤。この洗浄剤は、毛髪の洗浄にも用いられる。
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洗浄組成物、洗浄方法、及び半導体装置の製造方法
【課題】配線構造や層間絶縁構造を損傷することなく、半導体基板上のプラズマエッチング残渣やアッシング残渣を十分に除去しうる洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物を用いた洗浄方法及び半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】(成分a)水、(成分b)ヒドロキシルアミン及び/又はその塩、(成分c)塩基性有機化合物、並びに、(成分d)有機酸、を含み、pHが7〜9であることを特徴とする、半導体用基板上に形成されたプラズマエッチング残渣及び/又はアッシング残渣除去用の洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物を用いた洗浄方法及び半導体装置の製造方法。
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