【課題】エレクトロニクス材料、金属、ガラス、サファイア、樹脂等の洗浄工程で要求される製品表面の高清浄度を実現することができる、水溶性洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルキルアミンオキサイド０．０１〜１０重量％、（Ｂ）硫酸残基を有する陰イオン界面活性剤０．０１〜２０重量％、（Ｃ）スルホン酸基を有する陰イオン界面活性剤０．０１〜２０重量％、（Ｄ）キレート剤０．０１〜２０重量％を含有することを特徴とする水溶性洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】アミノ変性シリコーンを含ませることにより柔軟効果を高めながらも、液体洗剤が黄変するのを防止できる衣料用液体洗剤組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）アミノ変性シリコーン化合物：0.01〜5質量％、（Ｂ）尿素、その複塩又は誘導体：0.5〜30質量％を含有し、（Ａ）／（Ｂ）＝０．０１／１２〜５／１（質量比）である衣料用液体洗剤組成物。 （もっと読む）

【課題】洗浄後の基板の表面のコーティング性を向上する洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】 本発明の親水性表面改質が可能な洗浄剤組成物は、組成物の総重量を基準にして、（ａ）０．０００１重量％以上且つ５重量％以下のポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）、セルロース、ポリアクリル酸（ＰＡＡ）、ポリエチルオキサゾリン及びポリビニルピロリドンからなる群から選ばれる１種以上の水溶性高分子化合物と、（ｂ）０．０１重量％以上且つ５重量％以下の多価アルコール系化合物と、（ｃ）０．０５重量％以上且つ１０重量％以下の第４級アンモニウム水酸化物と、（ｄ）０．０５重量％以上且つ４０重量％以下の特定のグリコールエーテル系有機溶剤と、（ｅ）残量の水とを含む。 （もっと読む）

【課題】色素を含有する濃縮タイプの液体洗浄剤において、高い洗浄力を有すると共に、被洗物への色素染着が抑制された液体洗浄剤を提供すること。
【解決手段】界面活性剤（Ａ）を４０質量％以上と、色素（Ｂ）１５０ｐｐｍ（質量基準）以下と、尿素又はその誘導体（Ｃ）０．５〜１２質量％とを含有する液体洗浄剤。該液体洗浄剤においては、一般式（ｄ１）で表される有機溶剤（Ｄ）をさらに含有することが好ましい。式（ｄ１）中、Ｒ^７は水素原子、ヒドロキシ基、又は炭素数１〜４のアルキル基である。ｍはＰＯの平均繰返し数、ｎはＥＯの平均繰返し数を表し、ｍは０〜２の数、ｎは０〜３の数であり、１≦ｍ＋ｎ≦５である。ＥＯはオキシエチレン基、ＰＯはオキシプロピレン基を表し、ＥＯとＰＯとは混在して配列してもよい。
［化１］
（もっと読む）

【課題】スポンジなどの洗浄道具の除菌性、手洗いによる洗浄性、及び、低温保存安定性に優れた液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）非イオン界面活性剤〔但し（ｂ）を除く〕を１０〜５０質量％、（ｂ）炭素数６〜１０のアルキル基を有するモノアルキルグリセリルエーテル化合物を１〜１０質量％、（ｃ）ポリヘキサメチレンビグアニド及び／又はその塩を０．０１〜２質量％、並びに（ｄ）両性界面活性剤を１〜１０質量％含有する液体洗浄剤組成物であって、（ｅ）炭化水素基を有する陰イオン性化合物の含有量が、（ｃ）の含有量に対して２５質量％以下である液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】 洗浄時において電子材料基板の表面の平坦性を損ねることなく製造時における歩留まり率の向上や短時間で洗浄が可能となる極めて効率的な高度洗浄を可能にする電子材料用洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】 アルカリ成分（Ａ）、下記一般式（１）で表わされるポリオキシアルキレン化合物（Ｂ）および水を必須成分とすることを特徴とする電子材料用洗浄剤。
ＨＯ−（ＥＯ）ｍ−（ＰＯ）ｎ−（ＥＯ）ｍ−Ｈ （１）
［式（１）中、ＥＯはオキシエチレン基、ＰＯはオキシプロピレン基；ｍはエチレンオキサイドの平均付加モル数を表し１〜２５０の数、ｎはプロピレンオキサイドの平均付加モル数を表し１〜１００の数である。式（１）中の（ＥＯ）ｍと（ＰＯ）ｎと（ＥＯ）ｍは、エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドがブロック状で付加している。］ （もっと読む）

【課題】床クリーナとして使用するのに適した固形清浄用製品を提供する。
【解決手段】床クリーナとして使用するのに適した固形清浄用製品が開示されている。固形清浄用製品の製造、使用方法も同様に開示される。 （もっと読む）

【課題】実質的に中性に調整された特定の洗浄剤を含有する洗浄組成物に特有の課題を解決し、半導体基板の金属層、特に窒化チタンの腐食を防止し、しかもその製造工程で生じるプラズマエッチング残渣やアッシング残渣を十分に除去することができる洗浄組成物、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】水と、洗浄剤と、塩基性有機化合物と、酸性有機化合物と、特定の含窒素芳香族環状化合物とを含有させ、実質的に中性に調整された、半導体用基板用の洗浄組成物。 （もっと読む）