国際特許分類[C11D3/37]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 動物性または植物性油,脂肪,脂肪性物質またはろう;それに由来する脂肪酸;洗浄剤;ろうそく (22,504) | 洗浄性組成物;単一物質の洗浄剤としての使用;石けんまたは石けん製造;樹脂石けん;グリセリンの回収 (20,192) | 1/00に包含される洗浄性組成物の他の配合成分 (8,529) | 有機化合物 (4,880) | 重合体 (1,476)
国際特許分類[C11D3/37]に分類される特許
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変性されたポリアミノアミドを含む洗剤組成物
改良された土壌洗浄及び土壌分散用の変性されたポリアミノアミド及び界面活性剤系を包含する洗剤組成物。 (もっと読む)
スルホン化/カルボキシル化ポリマーを含有する表面処理組成物を用いた表面を処理する方法
家庭用、施設用、工業用及び/又は商業用の表面を処理する方法であって、水溶性のスルホン化/カルボキシル化ポリマーを含有する表面処理組成物に表面を接触させる工程を含む方法が提供される。 (もっと読む)
変性したポリアミノアミド
本発明は、粒子状の無機固体のための、特に無機顔料、例えば粘土鉱物のための分散剤として使用可能である、新規の変性したポリアミノアミドに関する。前記の新規のポリアミドはまた、ランドリー用洗浄組成物中の灰色化防止添加剤及び洗浄力増強添加剤としても使用可能である。本発明による変性したポリアミノアミドにおいて、このポリマーのアミノの窒素の少なくとも一部が、C1〜C6−アルキル、C6〜C16−アリール−C1〜C4−アルキル及び基Alk−O−A[前記式中、Aは、水素、又は酸性の又はアニオン性の形で存在してよいB1−PO(OH)2、B1−S(O)2OH及びB2−COOHから選択された酸性基であり、その際B1は単結合又はC1〜C6−アルカンジイルであり、かつB2はC1〜C6−アルカンジイルであり、かつAlkはC2〜C6−アルカン−1,2−ジイルである]から選択される炭化水素残基Rと、式(I)−(CH2−CR1R2−O−)pA[前記式中、Aは上記で定義したとおり、R1は独立して、水素、C1〜C12−アルキル、C2〜C8−アルケニル、C6〜C16−アリール又はC6〜C16−アリール−C1〜C4−アルキルから選択され、R2は独立して、水素又はメチルから選択され、かつpは整数であり、但しpは少なくとも10の数平均を有するとの条件付きである]の部分との両者を有する。 (もっと読む)
スルホン化/カルボキシル化ポリマーを含有する表面処理組成物
水溶性のスルホン化/カルボキシル化ポリマーを含有する、家庭用、施設用、工業用及び/又は商業用の表面処理組成物が提供される。 (もっと読む)
粒状組成物
β形のイミドアルカン過カルボン酸の粒状組成物であって、前記過酸を質量パーセントとして表される5%〜80%の量で含み、前記過酸が親水性又は疎水性の特性を有する支持体に支持され、前記粒状組成物が、サイズが0.25mm〜1.4mmであり且つ20℃における過酸の溶解時間t90が10分未満、好ましくは5分未満であり、上述した成分と任意に存在する成分の合計が100%であることを特徴とする前記組成物。 (もっと読む)
パーソナルクレンジング組成物
本発明は、アルキルエトキシル化ポリマー、少なくとも1つの発泡性界面活性剤、アクリレート架橋したコポリマー及び粒子状物質並びに発泡性界面活性剤を含む発泡性クレンジング組成物である。これら組成物は、良好な泡立ちを与え、また容易に洗い流される。前記粒子状物質は、洗浄及び剥離を向上させるか、又は損傷及び/又は(and, or)刺激を与えずにコンディショニング効果を提供する。 (もっと読む)
超臨界流体ベースの組成物を用いたケイ素含有粒状物質除去の向上
Si/SiO2パターン付きの半導体ウェーハ表面から、ケイ素窒化物およびケイ素酸化物などのケイ素含有粒状物質を除去するための方法および組成物が記載される。該組成物は、超臨界流体(SCF)、エッチング液種、共溶媒、表面不活性化剤、バインダー、脱イオン水、および任意に界面活性剤を含む。SCFベースの組成物は、次の加工の前に、ウェーハ表面から汚染粒状物質を実質的に除去し、これにより半導体デバイスのモルフォロジ、性能、信頼度、及び歩留まりが向上される。
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基板上に付着したフォトレジスト及び/又は犠牲反射防止材料のエッチング後除去のための組成物並びにプロセス
その上にフォトレジスト及び/又は犠牲反射防止膜(SARC)材料を有する基板からかかる材料を除去するための組成物及びプロセスを開示する。この組成物は、アルカリ又はアルカリ土類金属塩基との組み合わせの第四級アンモニウム塩基などの塩基成分、あるいは酸化剤との組み合わせの強塩基を含む。例えば、キレート剤、界面活性剤、及び/又は共溶媒種と一緒に水性媒体中でこの組成物を利用して、集積回路製造において基板上の銅、アルミニウム及び/又はコバルト合金などの金属種に悪影響のない状態で、かつ、半導体構築において利用されるSiOCをベースとする誘電材料に損傷のない状態でフォトレジスト及び/又はSARC材料の非常に効率的な除去を達成することができる。 (もっと読む)
アニオン性洗浄性界面活性剤、スルファミン酸及び/又はその水溶性塩類を含む洗濯洗剤組成物
本発明は、(i)スルファミン酸及び/又はその水溶性塩類と、(ii)アニオン性洗浄性界面活性剤と、(iii)0重量%〜8重量%のゼオライトビルダーと、(iv)0重量%〜8重量%のリン酸塩ビルダーとを含む洗濯洗剤組成物に関するものである。 (もっと読む)
洗剤組成物
本発明は、アルキルベンゼンスルホン酸塩10〜40重量%、アルカリ剤7〜40重量%、非イオン性界面活性剤15重量%以下及び泡調整剤0.07〜10重量%を含有してなり、泡調整剤が平均分子量100万超の水溶性有機ポリマーを含有してなる洗剤組成物、前記洗剤組成物を含有する洗濯液を用いて被洗浄物を洗濯する方法、並びに平均分子量100万超の水溶性有機ポリマーを含有してなる泡調整剤に関する。該洗剤組成物は、衣類等を洗濯するのに好適に使用される。 (もっと読む)
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