【課題】食器洗浄機による食器の洗浄において優れた洗浄力を示し、且つ食器の使用、洗浄の繰り返しによる色素汚れの付着遅延性にも優れた食器洗浄機用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）珪酸塩及び炭酸塩からなる群より選ばれる１種以上の無機化合物、（Ｂ）有機酸アルカリ金属塩、（Ｃ）（Ｃ−１）ポリアクリル酸又はその塩及び（Ｃ−２）マレイン酸の共重合体又はその塩、並びに（Ｄ）塩素系漂白成分を含有し、（Ｃ−１）成分と（Ｃ−２）成分の質量比（Ｃ−１）／（Ｃ−２）が９８／２〜５５／４５である、食器洗浄機用洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】油分の拭き取りなどの前処理工程を必要とせずに撥水膜塗布作業を行うことができるガラス表面に付着された油分などの汚れ除去機能を有し、かつＰＦＯＳ規制及びＶＯＣ排出規制に対応した水溶液タイプの撥水剤を提供。
【解決手段】（Ａ）ガラス表面に露出したシラノール基と共有結合する変性シリコーンオイルを５〜２０重量％、（Ｂ）研磨剤を１〜１０重量％、（Ｃ）ヒュームドシリカを０.２〜４重量％、（Ｄ）アルコールを１０〜４０重量％、（Ｅ）酸を前記変性シリコーンオイルの５〜３０重量％、および（Ｆ）残部として水を含む油汚れ除去機能を有する撥水剤。 （もっと読む）

【課題】塩素臭や腐食の問題もなく、安全性や取扱い性に優れ、適度な溶解性を保持した、台所流し台や風呂場の排水口等のように雑菌やカビ等の代謝物によりヌメリが発生する箇所に設けられる、ヌメリ防除剤を提供すること。
【解決手段】５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン等の非さらし粉系抗菌剤又は非さらし粉系抗菌剤とテトラキスフェノ−ル類等の多分子系ホスト化合物とからなる包接化合物と、硫酸カルシウム０．５水和物を含有する基材とを加圧成形して非さらし粉系ヌメリ防除剤を作製する。 （もっと読む）

【課題】配線構造や層間絶縁構造を損傷することなく、半導体基板上のプラズマエッチング残渣を十分に除去しうる洗浄組成物、及び前記洗浄組成物を用いた半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】５７〜９５重量％の（成分ａ）水、１〜４０重量％の（成分ｂ）第２級水酸基及び／又は第３級水酸基を有するヒドロキシ化合物、（成分ｃ）有機酸、並びに、（成分ｄ）第４級アンモニウム化合物、を含有し、ｐＨが５〜１０であることを特徴とする、半導体基板上に形成されたプラズマエッチング残渣除去用の洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物により、半導体基板上に形成されたプラズマエッチング残渣を洗浄する工程を含む、半導体装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】無リンまたは低リン酸塩自動食器洗いシステムにおける混合無機沈着物を最小限にする配合物の提供。
【解決手段】少なくとも２つの成分を有する自動食器洗い洗剤組成物。第１の成分は、少なくとも１種のＣ_３−Ｃ_６カルボン酸モノマーの重合残基およびラクトン末端基を含むポリマー。第２の成分は、ニトリロ三酢酸、エチレンジアミン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、グリシン−Ｎ，Ｎ−二酢酸、メチルグリシン−Ｎ，Ｎ−二酢酸、２−ヒドロキシエチルイミノ二酢酸、グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−二酢酸、３−ヒドロキシ−２，２−イミノジスクシナート、Ｓ，Ｓ−エチレンジアミンジスクシナート、アスパラギン酸−二酢酸、Ｎ，Ｎ’−エチレンジアミンジコハク酸、イミノジコハク酸、アスパラギン酸、アスパラギン酸−Ｎ，Ｎ−ジアセタート、ベータ−アラニン二酢酸、ポリアスパラギン酸、これらの塩およびこれらの組み合わせから選択されるビルダー。 （もっと読む）

【課題】配線構造や層間絶縁構造を損傷することなく、半導体基板上のプラズマエッチング残渣を十分に除去しうる洗浄組成物、及び前記洗浄組成物を用いた半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】（成分ａ）水、（成分ｂ）ヒドロキシルアミン及び／又はその塩、（成分ｃ）塩基性化合物、（成分ｄ）有機酸、並びに、０．１重量％以上、０．５重量％未満の（成分ｅ）無機酸及び／又はその塩、を含み、ｐＨが６〜８であることを特徴とする、半導体基板上に形成されたプラズマエッチング残渣除去用の洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物により、半導体基板上に形成されたプラズマエッチング残渣を洗浄する工程を含む、半導体装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】油から、臭気成分であるアルデヒド類を簡便且つ効果的に除去する方法の提供。
【解決手段】アルデヒド類を含有する油を、洗浄液を用いて洗浄することにより前記油中のアルデヒド類を洗浄液に溶解して分離する油純化工程を有することを特徴とする、油中の臭気成分除去方法。 （もっと読む）

【課題】ＨＣＦＣの代替化合物を用いた処理液のアルコール濃度を一定に維持でき、水が付着した物品の水切り乾燥を安定して実施できる水切り乾燥方法、および水切り乾燥システムの提供を目的とする。
【解決手段】水が付着した物品と、特定の含フッ素エーテルを主成分とし、アルコール類を含む処理液４１とを接触させて物品から水を分離し、該物品を乾燥させる水切り乾燥工程と、処理液４１をエーテル層（ａ１）と水層（ｂ１）に二層分離する工程と、エーテル層（ａ１）に、前記アルコール類を含むアルコール濃度４０〜６０質量％のアルコール水溶液（ｃ）を接触させて、アルコール濃度を調整したエーテル層（ａ２）を得る工程と、前記エーテル層（ａ２）を処理液４１として供給する工程と、を有する水切り乾燥方法。また、該水切り乾燥方法を実施できる水切り乾燥システム。 （もっと読む）

【課題】ポストアッシュ及び／又はポストエッチフォトレジストに限定されないが、これらのような残渣を基材から除去するための水系組成物、及びそれを含む方法を提供すること。
【解決手段】ある態様における、残渣を除去するための組成物は、（ａ）水、（ｂ）ヒドロキシルアミン、ヒドロキシルアミン塩化合物及びこれらの混合物から選択される少なくとも１種のもの、並びに（ｃ）水溶性有機酸を含まないという条件付の腐食防止剤を含み、添加された有機溶剤を実質的に含まない。 （もっと読む）

ビルダー組成物は、キレート成分Ａ）、ビルダー成分Ｂ）、ポリマー成分Ｃ）、及び場合によりアルカリ成分Ｄ）及び／又はリン含有成分Ｅ）を含む。キレート成分Ａ）は、ａ１）メチルグリシン−Ｎ−Ｎ−二酢酸（ＭＧＤＡ）及び／又はそれらのアルカリ塩、並びに／又はａ２）Ｎ，Ｎ−ビス（カルボキシメチル）−Ｌ−グルタメート（ＧＬＤＡ）及び／又はそれらのアルカリ塩、並びに／又はａ３）エチレンジアミンテトラ酢酸（ＥＤＴＡ）及び／又はそれらのアルカリ塩を含む。ビルダー成分Ｂ）は、ｂ１）金属ケイ酸塩、及び／又はｂ２）金属炭酸塩、及び／又はｂ３）金属クエン酸塩を含む。ポリマー成分Ｃ）は、ｃ１）アクリル酸−マレイン酸コポリマー、及び／又はｃ２）ポリアクリル酸（ＰＡＡ）を含んでよい。 （もっと読む）