【課題】衣類等に付着した汗や皮脂等による黄ばみ、血液、油、酒類の染みといった性質の異なる多種多様な染みを効果的に取り除くことのできる染み抜き剤とその製造方法を提供する。
【解決手段】配合成分全量に対し、エタノール５〜１５重量％、重曹分解液３５〜４５重量％、ｐＨ調整剤１５〜２５重量％、酸素系漂白剤２５〜３５重量％を配合する。上記配合割合で、最初にエタノールを混合容器に投入し、次いで、重曹分解液、ｐＨ調整剤、酸素系漂白剤の順に投入しながらそれぞれを混合し、染み抜き剤溶液を得る。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板を酸性研磨液で研磨した後にアルカリ洗浄する工程を有するガラスハードディスク基板の製造方法であって、研磨工程において研磨速度を維持したまま、アルカリ洗浄工程におけるガラス基板の表面粗さの悪化を抑制し、さらに清浄性を向上できるガラスハードディスク基板の製造方法の提供。
【解決手段】以下の工程（１）及び（２）を含むガラスハードディスク基板の製造方法。
（１）分子内に窒素原子を２〜１０個有する多価アミン化合物を含有するｐＨ１．０〜４．２の研磨液組成物を用いて被研磨ガラス基板を研磨する工程。
（２）工程（１）で得られた基板を、ｐＨ８．０〜１３．０の洗浄剤組成物を用いて洗浄する工程。 （もっと読む）

【課題】ポリエステル系繊維ニットに含まれている油剤やワックス等の油分をよく除去して、染色処理と同時に難燃剤を用いる難燃処理を行う際にも、難燃剤に由来するカス汚れを低減することができる精練剤組成物を提供する。
【解決手段】本発明によれば、
（Ａ）スチレン化フェノールアルキレンオキサイド付加物と共に、
（Ｂ）（i）数平均分子量２００〜１５００の範囲のポリエチレングリコールと、
（ii）一般式（Ｉ）
【化１】


（式中、Ｒ^１及びＲ^２は同一又は異なっていてもよく、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を示し、ｎは１〜４の整数を示す。）
で表わされるオリゴエチレン誘導体とから選ばれる少なくとも１種を含むことを特徴とするポリエステル系繊維ニット用精練剤組成物が提供される。 （もっと読む）

【課題】洗浄性、防曇性、防汚性、帯電防止性、吸湿性などの多機能性を有する防曇化及び／又は防汚化処理用水性組成物、及び防曇化及び／又は防汚化処理用水性組成物が含浸または塗布された基材をも提供する。
【解決手段】防曇化及び／又は防汚化処理用水性組成物は、下記式（１）


で表されるグアニジン骨格を含む非環式グアニジン化合物と、有機カルボン酸、その酸無水物、金属塩、エスエルの中から選ばれる少なくとも１種のカルボキシ化合物と、親水性多孔質無機微粒子とを、水性液中に含む。 （もっと読む）

【課題】バインダー樹脂等の樹脂添加物の溶解性が高く、吸湿性が低い、電子部品パターン形成用溶剤組成物として好適なジプロピレングリコールジアルキルエーテルを提供する。
【解決手段】本発明のジプロピレングリコールジアルキルエーテルは、その２つの末端アルキル基の一方がメチル基であり、もう一方が炭素数５〜１０の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基であることを特徴とする。前記ジプロピレングリコールジアルキルエーテルは電子部品パターン形成用溶剤組成物、特に、カラーフィルタパターン印刷用溶剤組成物として使用することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ゲート絶縁膜や基板などの損傷を抑制ないし防止し、半導体基板表面に付着した不純物、特に、イオン注入されたレジストなどの付着物を効率よく剥離でき、安全性に優れた多剤型半導体基板用洗浄剤、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基板の洗浄時に少なくとも発泡剤と発泡助剤とを混合して使用する多剤型洗浄剤であって、前記発泡剤が炭酸アルキレンと炭酸塩とを含有し、前記発泡助剤が酸性化合物を含有し、さらに酸化剤を組み合わせて用いる半導体基板用洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】タンパク質汚れ洗浄力に優れると共に、保管上の課題や取り扱い上の危険性がない業務用自動食器洗浄機用洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】(A) 無水換算で10〜18質量％のメタ珪酸ナトリウム、
(B) 10〜35質量％のマレイン酸/アクリル酸共重合体のナトリウム塩、
(C) 無水換算で5〜35質量％のクエン酸ナトリウム塩及び/又はクエン酸カリウム塩、及び(D) 25〜60質量％の塩化カリウム、
を含有し、且つ、(B)と(C)成分の総和が25〜50質量％である業務用自動食器洗浄機用粉末洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】金属を電気科学的腐食から保護しながら、良好な洗浄結果を生じる、多金属マイクロエレクトロニックデバイスのための良好な洗浄組成物を提供すること。
【解決手段】本発明は、多金属マイクロエレクトロニックデバイスを洗浄するために適切なマイクロエレクトロニックフォトレジスト洗浄組成物、および引き続いて水を使用するすすぎ工程が存在する場合に、実質的または有意なあらゆる電気化学的腐食を起こさずに、多金属マイクロエレクトロニックデバイスを洗浄することに関する。本発明はまた、このような多金属マイクロエレクトロニックデバイスを、本発明の組成物を用いて洗浄するための方法に関する。 （もっと読む）

【課題】フィトケミカルからなる、常温保存が可能であり、かつ米国や日本における使用禁止成分を含まず、また、使用制限成分を最大配合量以上含まない状態で洗浄力や防腐性を維持できる洗浄剤の提供。
【解決手段】ムクロジ果皮とグリセリンを質量比１：９〜１：１の割合で配合し、ムクロジ果皮に含まれるサポニンをグリセリンによって抽出することにより、フィトケミカルからなる、常温保存が可能であり、かつ米国や日本における使用禁止成分を含まず、また、使用制限成分を最大配合量以上含まない状態で洗浄力や防腐性を維持できる洗浄剤が得られる。 （もっと読む）

【課題】ＳＰＭ洗浄剤に匹敵する洗浄力を発揮し、かつ、ＳＰＭ洗浄剤による半導体基板の損傷を大幅に改善し、半導体基板表面に付着した不純物、特にイオン注入されたレジストなどの付着物を効率よく剥離除去しうる半導体基板用洗浄剤、これを利用した洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】硫酸と、過酸化水素と、炭酸アルキレンとを組み合わせて用いることを特徴とする半導体基板用洗浄剤、並びに、硫酸と過酸化水素と炭酸アルキレンとを組み合わせて、半導体基板に適用して洗浄する半導体基板の洗浄方法。 （もっと読む）