【課題】 この発明は、所望の耐久性を有する貴金属チップ、具体的には、耐消耗性、耐剥離性、及び耐チップ割れ性に優れた貴金属チップを備えたスパークプラグを提供することを課題とする。
【解決手段】 この発明のスパークプラグは、Ｍｐ(Ｍｐは、Ｐｔ、又はＰｔとＰｄとからなる元素群であり、Ｐｄは貴金属チップの質量に対して２０質量％以下である。)、Ｃｕ、及びＭ（Ｍは、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｒｕ、Ｒｅ、及びＷからなる元素群から選ばれる少なくとも１種である。）を合計で９５質量％以上含有し、かつ、前記Ｍｐ、Ｃｕ、Ｍの質量比が特定の範囲にあり、かつ、溶接面積Ｓ(ｍｍ^２)、チップ出寸法Ｈ(ｍｍ)、かぶり寸法Ｌ(ｍｍ)、及びチップ／溶接部間距離ｈ(ｍｍ)が、次の条件を満たすことを特徴とする。(a)Ｈ≦０．１３Ｓ＋１．１８、(b)Ｓ≦５、(c)０．１≦ｈ、又は０．０３≦Ｌ （もっと読む）

【課題】耐酸化消耗性、火花消耗性にも優れ、使用時の放電特性も考慮したプラグ電極用の材料を提供する。
【解決手段】本発明は、Ｃｕを５質量％以上〜３０質量％以下、Ｒｈを０．１質量％以上〜１０質量％未満含み、残部Ｐｔからなるプラグ電極用材料である。本発明では、ＣｕとＲｈの２種の金属を複合的に合金化することで、放電電圧の低減、火花消耗への耐久性の向上を図るものであり、いずれか一方の金属のみの添加では、火花消耗性の改善効果が薄く、放電電圧の低減効果が期待できない。 （もっと読む）

【課題】 この発明は、所望の耐久性を有する貴金属チップ、具体的には、耐消耗性、耐剥離性、及び耐チップ割れ性に優れた貴金属チップを備えたスパークプラグを提供することを課題とする。
【解決手段】 この発明のスパークプラグは、(1)Ｍｐ(Ｍｐは、Ｐｔ、又はＰｔとＰｄとからなる元素群であり、Ｐｄは貴金属チップの質量に対して２０質量％以下である。)、Ｃｕ、及びＭ（Ｍは、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｒｕ、Ｒｅ、及びＷからなる元素群から選ばれる少なくとも１種である。）を合計で９５質量％以上含有し、かつ、前記Ｍｐ、Ｃｕ、Ｍの質量比が特定の範囲にある、又は(2)前記Ｍｐ、Ｃｕ、Ｍの質量比(Ｍｐ，Ｃｕ，Ｍ)が特定の範囲にあり、かつ溶接面積Ｓ(ｍｍ^２)、チップ出寸法Ｈ(ｍｍ)、かぶり寸法Ｌ(ｍｍ)、及びチップ／溶接部間距離ｈ(ｍｍ)が、次の条件を満たすことを特徴とする。(a)Ｈ≦０．１３Ｓ＋１．１８、(b)Ｓ≦５、(c)０．１≦ｈ、又は０．０３≦Ｌ （もっと読む）

【課題】火花放電部位において貴金属チップ部材を用いるスパークプラグにおいて、貴金属チップ部材の剥離を抑制することを目的とする。
【解決手段】スパークプラグは、スパークプラグの軸線方向に延在する中心電極と、端部が中心電極の端部と対向して中心電極との間で火花ギャップを形成する接地電極と、を備える。中心電極と接地電極のうち少なくとも一方の端部は、溶接面を有する貴金属チップ部材と、一方の面が前記貴金属チップ部材の溶接面と抵抗溶接され、他方の面が電極母材と抵抗溶接された中間部材と、を備える。貴金属チップ部材における溶接面に垂直な方向の厚さをＴａとし、中間部材における一方の面に垂直な方向の厚さをＴｂとした場合において、Ｔｂ＞Ｔａを満たす。 （もっと読む）

【課題】 パラジウム合金の薄膜を利用した水素精製において、装置を大きくすることなく、単位時間当たりの精製水素の取出し量を従来よりも大きくできる水素精製装置、さらに水素分離膜の厚みを薄くしても、水素分離膜の機械的強度の低下が少ない水素精製装置を提供する。
【解決手段】 一端が封じられた複数本のパラジウム合金細管と、該細管の開口端部において該細管を支持する管板とによって、セル内部が一次側空間と二次側空間に仕切られ、不純物を含む水素を一次側空間から導入し、パラジウム合金細管を透過させて二次側空間から精製水素を取出す水素精製装置であって、パラジウム合金細管が、開口端部、円筒中央部、及び閉口端部からなり、円筒中央部の筒径が開口端部の管板の位置における筒径よりも大きい水素精製装置とする。 （もっと読む）

【課題】ヒドラジンの分解反応を利用する水素発生方法において、水素を選択性よく高効率で発生させることができる方法を提供する。
【解決手段】イリジウムとニッケルの複合金属からなる、ヒドラジン及びその水和物からなる群から選ばれた少なくとも一種の化合物の分解反応による水素発生用触媒、並びに該触媒を、ヒドラジン及びその水和物からなる群から選ばれた少なくとも一種の化合物に接触させることを特徴とする水素発生方法。 （もっと読む）

【課題】 高着火性及び高耐久性を有するプラズマジェット点火プラグを提供すること。
【解決手段】 このプラズマジェット点火プラグは、中心電極のうち少なくとも先端面を含む先端部が、少なくとも１種の希土類元素の酸化物とＷとを含有し、前記希土類元素の酸化物の合計含有率が０．５質量％以上１０質量％以下であり、Ｗの含有率が９０質量％以上であるか、或いは、Ｉｒを０．３質量％以上３質量％以下、かつＷを９７質量％以上含有する。 （もっと読む）

【課題】 ＦｅＰｔ合金の素地にＳｉＯ_２等の酸化物を含む高密度の磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 一般式：（Ｆｅ_ｘＰｔ_{（１００−ｘ）}）_{（１００−ｙ）}（ＳｉＯ_２）_ｙ、ここで４０≦ｘ≦６０（単位：モル％）、５≦ｙ≦３０（単位：モル％）で表される組成を有する焼結体からなるターゲットであって、その組織が、ＳｉＯ_２相と、ＦｅとＰｔとの固溶体からなるＦｅＰｔ合金相と、ＳｉＯ_２相とＦｅＰｔ合金相との界面において、Ｓｉ、Ｏ、ＦｅおよびＰｔの各元素が相互に拡散することによって形成するＳｉ、Ｏ、ＦｅおよびＰｔを含有する相互拡散相と、で構成されている。 （もっと読む）

【課題】 組織のさらなる微細化が可能であると共にコンタミネーションが少ない磁気記録膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 非磁性酸化物、ＣｒおよびＰｔを含有し、残部がＣｏおよび不可避不純物からなるターゲットの製造方法であって、Ｃｏ、ＣｒおよびＰｔの各元素を単体として又はこれらのうち２種以上の元素を含む合金として粉末にした原料粉末と非磁性酸化物の原料粉末との各原料粉末が混合された一次混合粉末を焼結させて一次焼結体を得る一次焼結工程と、一次焼結体を粉砕して一次焼結体粉末を得る粉砕工程と、前記各原料粉末が混合された二次混合粉末１と一次焼結体粉末２とを混合および粉砕後、焼結させる二次焼結工程と、を有し、二次混合粉末１の平均粒径が０．０５〜３０μｍであり、一次焼結体粉末２の最大粒径が２００μｍ未満である。 （もっと読む）

【課題】パラジウムを主とした歯科用合金を製造するための焼成可能な歯科用合金であって、高い機械的安定性および非常に良好な被研磨性を有する歯科用合金を提供する。
【解決手段】結晶粒微細化制御元素としてタンタル、ニオブ、イットリウム、ジルコニウム、クロム、モリブデンの群からの少なくとも１つの元素を含み、前記歯科用合金は、重量％で、０．０３ないし１のルテニウム、０．０３ないし２の結晶粒微細化制御元素、０ないし１０のスズ、０ないし１０の亜鉛、０ないし１０のインジウム、０ないし１０の銅、０ないし１のガリウム、０ないし１０の白金、０ないし２のイリジウム、０ないし２のロジウム、０ないし２のゲルマニウム、０ないし２のアルミニウム、０ないし２のケイ素、０ないし２のセリウム、０ないし２のランタン、０ないし２の鉄、残部の金、パラジウムおよび銀からなり、上記元素の総計は、１００重量％である。 （もっと読む）