国際特許分類［C23C18/12］の内容
化学；冶金 (1,075,549) | 金属質材料への被覆；金属質材料による材料への被覆；化学的表面処理；金属質材料の拡散処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般；金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般 (47,648) | 金属質への被覆；金属材料による材料への被覆；表面への拡散，化学的変換または置換による，金属材料の表面処理；真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般 (43,865) | 液状化合物または溶液のいずれかからなる被覆形成化合物の分解による化学的被覆であって表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの；接触メッキ (2,675) | 熱分解によるもの (191) | 金属質材料以外の無機質材料の析出に特徴のあるもの (105)
国際特許分類［C23C18/12］に分類される特許
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クロマトグラフィシステムおよび用途に用いるためのポリシラザン熱硬化性ポリマー
シリコン、III族金属、IVA族金属、および／またはIVB族金属を含んで成る前駆体材料を、硬化、か焼、および／または熱分解することによって調製することができる、アモルファス（もしくは無定形）非ガラス質セラミック組成物。
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硫化によって鉄合金部材を処理する方法
本発明は、鉄合金部材を硫化によって処理する方法に関する。その方法によれば、その部材は、電流を流すことなく所定濃度の苛性ソーダとチオ硫酸ナトリウムと硫化ナトリウムとを含む水溶液の収容槽に含浸され、前記水溶液は約５分から３０分間かけて約１００℃から１４０℃の間の温度にされる。 （もっと読む）
電気化学的プロセスのための電極及びその製造方法
二酸化スズ含有触媒コーティングを有する電気化学的プロセスのための電極を、スズ（ＩＶ）ヒドロキシクロリドを含む前駆体溶液から出発して製造する。二酸化スズの堆積のプロセスは、高い収率及び改良された再現性を特徴とする。 （もっと読む）
誘電体薄膜の形成方法、誘電体薄膜および電子部品
【課題】用いる基板の結晶格子間隔や配向方向によらずに所望の結晶配向性を有する誘電体薄膜を得ることができ、かつ誘電体薄膜を一方向にほぼ完全に結晶配向させることが可能なゾル−ゲル法を用いた誘電体薄膜の形成方法を提供する。
【解決手段】金属化合物を含む誘電体前駆体溶液を基板上に塗布して誘電体前駆体層を形成する工程と、誘電体前駆体層を乾燥する工程と、誘電体前駆体層を焼成する工程とを有する、ゾル−ゲル法を用いた誘電体薄膜の形成方法において、前記誘電体前駆体層を乾燥する工程は、誘電体前駆体溶液に含まれる溶媒の沸点よりも高温で、かつ誘電体前駆体層の発熱反応が最大となる温度よりも低温で乾燥処理を行い、前記誘電体前駆体層を焼成する工程は、所定の速度で昇温させながら焼成を行う工程を含むことにより、一定方向への結晶配向性を有する誘電体薄膜を形成する。
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マグネシウム合金材の表面処理方法
【目的】 マグネシウム合金材の表面に、孔食や剥離を生じることなくＮｉ−Ｐメッキ層等の如く耐食性，耐摩耗性，摺動性等の諸特性を有するメッキ層を容易に形成する。
【構成】 マグネシウム合金材２の表面２ａにゾルゲル法によるゾルゲルコーティング処理を施して緻密なゾルゲル層５を形成し、しかる後に、前記ゾルゲル層５の表面５ａにメッキ処理（例えば、Ｎｉ−Ｐメッキ処理）を施す。
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