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国際特許分類[C23C20/08]の内容

国際特許分類[C23C20/08]に分類される特許

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【課題】賦形された無機薄膜、パターン化無機薄膜を形成するためのインプリント用組成物であって、凹凸の転写性に優れ、且つ、焼成による凹凸(パターン)の崩れを抑制できるインプリント用組成物を提供する。
【解決手段】本発明のインプリント用組成物は、樹脂製の型を用いて無機薄膜を形成するためのインプリント用組成物であって、金属酸化物粒子と金属酸化物前駆体とを含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】従来技術の欠点が解消され、電極上で使用する際、例えば塩素アルカリ電解において塩素を発生させるために低い過電圧を可能にする、酸化ルテニウムおよび酸化チタンに基づく電気触媒活性成分を含んでなる改良された触媒被膜を提供する。
【解決手段】酸化ルテニウムおよび酸化チタンに基づく電気触媒活性成分および任意に1種以上のドーピング金属元素を含んでなる触媒被膜であって、酸化ルテニウムおよび酸化チタンがルチル型のRuOおよびTiOとして主に存在し、RuOおよびTiOが混合酸化物相として主に存在している触媒被膜。 (もっと読む)


【課題】ゾル−ゲル法に基づいた、特に塩素製造用陽極のための、電極用触媒層の簡単かつ汎用的な製造方法を、先行技術の欠点を解消しつつ開発する。
【解決手段】導電性基材および触媒活性層を含んでなる電極であって、触媒活性層が2種の触媒活性成分に基づき、金属酸化物または混合酸化物または酸化物混合物としてイリジウム、ルテニウムまたはチタンを含んでなり、元素イリジウム、ルテニウムおよびチタンの和に基づいたルテニウムおよび/またはイリジウムの総含量が少なくとも10mol%であり、電極が導電性基材に適用された、NaClおよび/またはNaOHおよび/またはHCl含有水性電解液を透過しない少なくとも1つの酸化物基層を含んでなる、電極。 (もっと読む)


無電解ニッケル(Ni)めっきによって基材を耐摩耗性粒子でコーティングする諸方法。一方法は、槽内に用意されたNi塩含有処理液中に基材を浸漬するステップと、所定の大きさを有する立方窒化ホウ素(cBN)粒子を、cBNの所定の濃度を生じるように処理液に追加するステップと、基材をcBN粒子とともに処理液中に所定の時間維持するステップと、基材を取り出すステップとを含み、取り出された基材は、cBNおよびNiからなる第1の範囲内のコーティングを有する。 (もっと読む)


タイヤのような成形及び押出物品用の補強手段は、自身に結合したシリカゲルの層を有する金属構造体を有している。このシリカゲルは、ゴム配合物の成形/加硫中に遅い硬化段階を必要とせずに、補強手段をゴム配合物に結合させる。このシリカゲルは、150℃以下の温度でゾルを乾燥させることによってゲルが形成されるゾルゲルプロセスにより金属構造体に塗布してもよい。補強手段は、好ましくは、上記シリカゲルでコーティングされた複数のスチールワイヤーから形成されたケーブルである。シリカゲルのゴム配合物への結合をさらに向上させるために、ゴム配合物に有機シラン結合剤を含ませる、又は結合剤として有機シランを含む第2層を補強手段に設けてもよい。補強手段は、タイヤを強化し、幾何学的安定性を付与するのに特に有用である。 (もっと読む)


【課題】、白金や白金族酸化物よりも安価な触媒を用いたガス拡散電極、ガス拡散電極の製造方法、燃料電池および食塩電解セルを提供すること。
【解決手段】基材に触媒が担持されたガス拡散電極において、触媒は、Zr(ジルコニウム)、Ti(チタン)、Nb(ニオブ)、Ta(タンタル)の金属酸化物から構成され、基材は、Tiであり、繊維状または焼結体の多孔性基材である。ガス拡散電極の製造方法では、Zr、Ti、Nb、Taのイオンを含む溶液を用い、ディップコート法などのゾルゲル法により金属酸化物からなる触媒層を形成する。 (もっと読む)


本発明は、少なくとも1種のインジウムアルコキシドと少なくとも3種の溶媒L1、L2及びL3を包含する液状のインジウムアルコキシド含有組成物であって、その際、該溶媒L1は、乳酸エチル、アニソール、テトラヒドロフルフリルアルコール、酢酸ブチル、エチレングリコールジアセテート及び安息香酸エチルから成る群から選択されており、かつ双方の溶媒L2及びL3の沸点の差がSATP条件下で少なくとも30℃である組成物、該組成物の製造法並びに該組成物の使用に関する。 (もっと読む)


【課題】アルカリ可溶性基板に対して、高い密着強度で密着された無電解めっき膜を形成することができる無電解めっき物の製造方法の提供。
【解決手段】アルカリ可溶性基板101上に、金属酸化物層102を形成する金属酸化物層形成工程と、金属酸化物層102上に、カップリング剤及びトリアジンチオールの少なくともいずれかによるパターン状の密着層103aを形成する密着層形成工程と、密着層103a上に、無電解めっきにより、めっき層からなる配線層105を形成するめっき層形成工程とを含むことを特徴とする無電解めっき物の製造方法。 (もっと読む)


本発明は、金属の複合的な支持要素を備えており、当該支持要素の外面がガラス質の保護被覆によって覆われている、調理用の複合的な調理器具に関する。また、本発明は当該調理器具の製造方法に関する。 (もっと読む)


【課題】光の照射のない状態においても長期にわたり親水性を有する膜を提供し、さらに空調機、吸収冷却器、冷凍機器、蒸散機器、熱交換器、ヒートパイプ、ヒートポンプ等の熱交換素子に好適な金属部材を提供することを課題とする。
【解決手段】基材と、該基材上に設けられた親水性膜において、該親水性膜は膜中に分散されたフィロケイ酸塩を含む微粒子とバインダーから形成され、該バインダーが、前記微粒子同士、および、前記微粒子と基材とを接合していることを特徴とする親水性膜。 (もっと読む)


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