【課題】鉛又は鉛合金を使用することなく、高い電流密度でも使えるクロムめっき用電極とそれを用いたクロムめっき方法及びクロムめっき装置を提供する。
【解決手段】３価クロムを６価クロムに変化させる触媒機能を有する触媒電極素子２と、めっき電流の一部を分流させる機能を有し、且つめっき液が流通可能な流通孔を有する有孔電極素子３とを具備し、前記触媒電極素子２の前記触媒機能を有する面側に前記有孔電極素子を配設したハイブリッド電極１とそれを用いたクロムめっき方法及びクロムめっき装置であり、めっき電流の一部が有孔電極素子３に分流されしかもめっき液は有孔電極素子の流通孔を自在に流通するので高電流密度でめっきすることができ、生産効率を上げることができる。 （もっと読む）

【課題】銅と同等以上の抵抗率の導電層（シード層）を有した基板に対して、より均一な膜厚で、全面に亘って膜質の良好なめっき膜を成膜できるようにする。
【解決手段】基板保持部で保持した基板表面の周縁部に当接して該周縁部をシールするシール材９０と、基板保持部で保持した基板の表面に形成した導電層に接触して通電させるカソード接点８８と、内部にめっき液に浸漬させるアノード９８を収納し、基板保持部で保持した基板と対向する開口端部に多孔質構造体１１０を配置してめっき液室１００を区画形成したハウジング９４を有し、めっき液室１００は仕切り板１５０で複数の部屋１５４ａ，１５４ｂに仕切られ、アノード９８は複数に分割された分割アノード９８ａ，９８ｂから構成されて、各分割アノード９８ａ，９８ｂはめっき液室１００の各部屋１５４ａ，１５４ｂの内部に独立しためっき電流が流せるように配置されている。 （もっと読む）

【課題】めっき対象物が小さい場合にも、バラツキが少なく、効率のよいめっきを行うことが可能な電気めっき装置を提供する。
【解決手段】本発明の電気めっき装置１は、ポンプ１４によってめっき槽１０ａにめっき液９０を供給するものであり、めっき槽１０ａには、めっき液９０が噴出する噴出部２０ａが設けられている。そして、噴出部２０ａの噴流によってめっき対象物が上昇するめっき対象上昇部８０と、めっき対象上昇部８０とは仕切られるものであってめっき対象物９１が下降するめっき対象下降部８１とを有しており、めっき対象物９１はめっき対象上昇部８０とめっき対象下降部８１との間を循環することができる。また、めっき対象下降部８１に陰極である螺旋板４１が配置され、螺旋板４１の上側にめっき対象物９１が接触してめっきが行われる。 （もっと読む）

【課題】従来の電解用電極より耐剥離性及び耐食性に優れた中間層を有し、かつより長い電解寿命を有し、工業的レベルの大電流を流すことの出来る電解用電極とその製造方法を提供する。
【解決手段】あらかじめ金属酸化物層を形成するか又は金属酸化物に変換可能な金属化合物を塗布した後、その表面を酸化して一体化させた金属酸化物層３と基体由来の酸化物である高温酸化皮膜２から成る中間層を形成したバルブメタル又はバルブメタル合金電極基体１の前記金属酸化物層表面に、電極触媒層４を被覆した電解用電極。高温酸化皮膜が電極基体と一体化して耐剥離性が向上し、又あらかじめ金属酸化物層を形成するか又は金属酸化物に変換可能な金属化合物を塗布した後加熱することにより、本来それ自体は電子伝導性に劣る高温酸化皮膜が改質されて電子伝導性が増大し、大きな電流を流すことが可能になる。中間層は電極基体を保護し、より長い電解寿命を実現できる。 （もっと読む）

【課題】被めっき物の寸法が小さい場合にも、被めっき物が陰極線と貫通孔との隙間に入り込むことを防止して、めっき不良をなくし、製品の歩留まりを向上させることが可能な回転バレルめっき装置を提供する。
【解決手段】陰極線６の陰極電極５が配設された方の端部をバレル１内に位置するように配設し、かつ、陰極線６のバレル支持回転軸２の貫通孔７を通過する領域の近傍を、陰極電極５が配設された方の端部側からバレル支持回転軸２の貫通孔７を通過する領域に向かって、直径が徐々に小さくなるようなテーパ形状とし、バレル支持回転軸２の貫通孔７の、バレル１の内部側の開口部と、陰極線６のテーパ形状部１６の外周とが接するようにして、陰極線６のテーパ形状部１６の外周と、貫通孔７のバレル１の内部側の開口部との間に実質的に隙間のない状態でバレル１を回転させることができるようにする。 （もっと読む）

【課題】気泡の抜けが比較的よいディップ方式を採用し、広い占有面積を占めることなく、バンプ等の突起状電極に適した金属めっき膜を自動的に形成できるようにする。
【解決手段】配線が形成された基板の上に突起状電極を形成するめっき装置であって、基板カセットを置くカセットテーブル１２と、基板に対して濡れ性を良くするためのプリウェット処理を施すプリウェット槽２６と、該プリウェット槽でプリウェット処理を施した基板にめっきを施すめっき槽３４と、めっきされた基板を洗浄する洗浄装置３０ｂと、洗浄された基板を乾燥させる乾燥装置３２と、めっき液の成分を分析し、この分析結果に基づいてめっき液に成分を追加するめっき液管理装置と、基板を搬送する基板搬送装置４０とを備えた。 （もっと読む）

本発明は、ワーク（２）を特に電気メッキにより表面処理するための装置であって、少なくとも１つのプロセス室（４）を有しかつカバー（７）によって閉鎖可能である少なくとも１つの反応器ハウジング（３）と、遮蔽エレメント（５）とが設けられており、該遮蔽エレメント（５）が、空間的にプロセス室（４）に接続されていて、処理したいワーク（２）のための少なくとも１つの収容部（１１）を有している形式のものに関する。本発明によれば、反応器ハウジング（３）と遮蔽エレメント（５）との間に、該反応器ハウジング（３）と該遮蔽エレメント（５）との互いに相対的な配置を規定する位置固定エレメント（６）が配置されており、該位置固定エレメント（６）が、反応器ハウジング（３）および遮蔽エレメント（５）よりも小さな熱膨張率を有している。
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【課題】トレンチやビアホール等の凹部内に選択的にめっきを行って、表面の平坦性が高いめっき膜を形成することができるようにする。
【解決手段】基板Ｗを保持する基板保持部１０と、基板保持部１０で保持した基板Ｗの表面に当接して通電させるカソード１４と、基板保持部１０で保持した基板と対向して設置されるアノード３８及び該アノード３８と基板との間に配置される多孔質体２６を有するアノードヘッド２２と、アノード３８と基板保持部１０で保持した基板Ｗの表面との間にめっき液を供給するめっき液供給部４４と、基板Ｗと多孔質体２６との間に配置され、めっきに際し多孔質体２６を介して基板Ｗの表面に押当てられる表面が平滑な多孔性の接触体５０を有する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、物理的・化学的に極めて安定で、過酷な環境下で使用することが可能な耐久性に優れた多孔質性複合基板を提供することを目的とする。また電極としても使用が可能である。
【解決手段】 基板および該基板に被覆した導電性ダイヤモンド層からなり、該基板が多孔質で開気孔を有し、該導電性ダイヤモンド層を構成する導電性ダイヤモンドが連続している部分が１０００μｍ^２以下であることを特徴とするダイヤモンド被覆基板である。また、前記多孔質基板の開気孔径が０．１μｍ〜１０００μｍであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】特に大面積で、表面に薄く電気抵抗が大きな導電層が形成された基板であっても、この表面に、膜厚の面内均一性の高いめっき膜を形成できるようにする。
【解決手段】基板Ｗを保持する基板保持部と、基板Ｗと接触して基板の表面に通電させる第１の電極８８と、基板保持部で保持した基板Ｗの表面に対面する位置に配置される第２の電極９８と、基板保持部で保持した基板Ｗと第２の電極９８との間に配置される圧力損失が５００ｋＰａ以上または見掛気孔率が１９％以下の多孔質構造体１１０と、基板保持部で保持した基板Ｗと第２の電極９８との間に電解液を注入する電解液注入部１０４と、第１の電極８８と第２の電極９８との間に電圧を印加する電源１１４を有する。 （もっと読む）