【課題】中空部材の陽極酸化処理により生成される皮膜の厚みを、均一にすることができる中空部材の製造方法及び陽極酸化処理用治具を提供する。
【解決手段】中空部材１００の製造方法は、中空部を有した中空部材１００の製造方法であって、中空部材１００を電解液６２に浸す浸液工程と、中空部材１００の中空部内に補助電極５０を配置し、電解液６２に浸された中空部材１００を陽極とし、中空部材１００の中空部内に配置された補助電極５０と電解液６２とを陰極として通電し、前記中空部材１００に陽極酸化処理を施す通電工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】アノード電極に安定して電源を供給することができるとともに、電解液の浸透が防止でき、しかも、アノード電極の設置が容易な電解メッキ用アノード電極取付構造を提供する。
【解決手段】上面に突起部１３を有する給電プレート５と、該給電プレート５の上面に前記突起部１３を食い込ませた状態で載置されたアノード電極６とを備える。 （もっと読む）

【課題】Ｓｎ−Ｂｉ合金メッキ膜を形成する電解メッキ工程において、製造コストを抑えて、被メッキ処理物の表面に所望する組成のＳｎ−Ｂｉ合金メッキ膜を形成することのできる技術を提供する。
【解決手段】金属ケース３０内に投入された金属固体Ｓｎ３２と金属ケース３０とが直接接触するのを防ぐための絶縁シート３３を、金属固体Ｓｎ３２と金属ケース３０との間に設ける。さらに、金属ケース３０内に不活性ブロック３４を配置して、この不活性ブロック３４の上に絶縁シート３３（及びアノードプレート３１）を介して複数の金属固体Ｓｎ３２を配置し、また、金属ケース３０をアノードバック３５内に配置する。 （もっと読む）

【課題】表面処理装置において、被処理物に対する導電性の安定化を図ることにより、処理時間の短縮化が図れ、良質の表面処理が得られるようにする。
【解決手段】処理槽１０と、処理槽１０内でバスケット６を保持するバスケット保持手段１１とを有し、処理槽１０には、バスケット６の出し入れに応じて槽上部を開閉可能にする蓋１６が設けられており、この蓋１６には、処理槽１０の槽上部を閉鎖する状態とされたときに槽内部へ挿入される配置で陰極２０が設けられている。 （もっと読む）

【課題】 消耗性Ｓｎ電極ブロックの支持面が侵食されにくく、かつ、研磨等による補修にも容易に対応できるＳｎメッキ用電極支持体を提供する。
【解決手段】 Ｓｎメッキ用電極１において、消耗性陽極金属ブロック２０を載置するＳｎメッキ用電極支持体５の電極載置面２を、従来のカーボンに替えてＴｉ系金属により構成した。 （もっと読む）

【課題】亜鉛−ニッケル浴用アルカリ性めっき浴槽において不所望の副反応を阻止すること。
【解決手段】アノードをアルカリ性のめっき浴から隔離する。 （もっと読む）

【課題】基板等の回路にかかる力を緩和する能力を有する導電性微粒子、及び、基板間の距離を一定に維持する方法を提供する。
【解決手段】樹脂からなる基材微粒子の表面が１層以上の金属層に覆われてなる導電性微粒子であって、前記樹脂の熱分解温度が３００℃以上であり、かつ、前記金属層を構成する金属のうち少なくとも１つが融点１５０〜３００℃の合金及び／又は金属である導電性微粒子。 （もっと読む）

【課題】電圧異常によるめっき不良を回避し得、かつ、めっき膜厚分布の均一性の悪化を防止することができ、アノードメンテナンス周期を伸ばし、めっきザラ等不良を低減することができる電気めっき方法及び電気めっき装置を提供する。
【解決手段】電気めっき液が収容されためっき槽内に、電気めっき液が流通可能でアノードスライムを通過させないアノードバッグ又は隔膜を配設してアノード室を区画形成し、このアノード室内にアノードを配置させると共に、アノード室以外に被めっき物を配置し、この被めっき物をカソードとして前記アノードとの間に電圧を印加し、被めっき物を電気めっきする方法において、前記アノードを振動もしくは搖動させるか、又はアノード室内の電気めっき液をアノードに対向して流動させ、このめっき液流をアノードに当てて、アノードに付着しているアノードスライムを強制的に離脱、除去させながらめっきを行う。 （もっと読む）

【課題】ピストンおよび遮蔽体を保持装置に固定し、保持装置、ひいてはピストンを直流電圧源に電気的に接続するのに手間がかかるという背景技術の欠点を取り除く。
【解決手段】保持装置が実質的に皿状に形成され、内室の底に配置されており、保持装置の中央に、縦長に形成されたセンタリング装置が配置されており、該センタリング装置の長手方向軸線が、保持装置の平面に対して平行に位置し、かつセンタリング装置の長さが、ピストンの、スカートエレメントの領域における半径方向の内径に等しく、その結果、ピストンが、そのピストントップとは反対の側で、センタリング装置に被せ嵌め可能であり、該センタリング装置の長手方向軸線がその際ピン孔の軸線に対して垂直に、かつピストンのピストン軸線に対して垂直に位置するようになっており、かつカバーが保持装置の半径方向外側の縁部に固定されているようにした。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の熱管理のために構成された熱スプレッダと他の部品をめっきする方法を提供する。
【解決手段】細長い上方チャネル１２２と細長い下方チャネル１２１とを形成する複数の非導電性シールド１３０と、入口を通って下方チャネルに入り、上方チャネルに向かって流れるように、あらゆるめっき溶液を向けるように配向された一連の入口を備えるめっき溶液スパージャと、上方チャネルおよび下方チャネルの外部に、その全長に沿って配置された複数のアノードとを備える、改良方法およびめっきシステム１００。方法は、加工物９００をめっき溶液に浸漬させることと、加工物を少なくとも部分的にチャネルの内部に配置することと、アノードと加工物との間に電流を流し、加工物をチャネルの全長に沿って移動させることとを含む。 （もっと読む）