本発明は、反射率が低く外観に斑が無く、残渣が殆ど無い均一な外観を有する電磁波遮蔽用黒化表面処理銅箔の製造方法及びその銅箔に関するものであって、電解メッキ浴に陰極として銅箔を配置し、前記銅薄箔の表面に黒化メッキ層を形成させることにより電磁波遮蔽用表面処理銅箔を製造する方法において、Ｃｏ及び陰極における水素発生を抑制する酸化剤を含む電解メッキ浴を使用して前記銅箔表面に黒色のＣｏ酸化物メッキ層を形成させることを特徴とする。
前記方法によって製造された表面処理銅箔は、反射率が低い黒色の外観を有するので、ＰＤＰ表示画面の輝度を低下させないという長所がある。
さらに、本発明による表面処理銅箔は黒色の外観を有しながらも、外観に斑及び残渣が殆どない均一な外観を有するので、これを利用して製造された電磁波遮蔽用複合材料の不良率が顕著に低くなり、前記複合材料を使用して製造されたＰＤＰ表示画面の外観が優秀になる効果がある。
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【課題】 ノンクロムの表面処理で環境性に優れていると共に、有機樹脂被膜との密着性、接着性、耐食性、耐デント性、耐傷性、耐磨耗性等の諸特性に優れた表面処理金属材料、及びこのような表面処理金属材料の表面処理方法を提供することである。
【解決手段】 金属表面に無機成分を主体とする表面処理層が形成されている表面処理金属材料であって、前記無機表面処理層がＴｉ，Ｏ，Ｆを主成分とすると共に、リン酸イオンを含有しないことを特徴とする表面処理金属材料。 （もっと読む）

ＲＦ−４に対する積層引き剥がし強さを少なくとも８０．４グラム／ミリメートル（４．５ポンド／インチ）にする効果があり１．０ミクロン未満の平均表面粗さ（Ｒｚ）と１．２ミクロン未満の平均ノジュール高さを有するレーザーアブレーション防止層（１００）によって、誘電基板（９２）に積層されるための銅箔（９６）が被覆される。被覆後の箔（９６）は少なくとも４０の反射率の値を有する。被覆後の箔（９６）は通常、ガラス強化エポキシ又はポリイミドのような誘電基板（９２）に積層され、画像形成されて複数の回路トレースとなる。誘電体（９２）を貫通し箔（９６）と誘電体（９２）との境界で終わるブラインドビア（９８）を、穴あけ加工することができる。本発明の被覆後の箔（９６）はレーザーアブレーションに耐えるので、穴あけ加工中レーザーによって箔（９６）に穴（１０２）があかないようにする。
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この発明は、金属基材に腐食防止性及び耐腐食性をそれぞれ提供するための方法、並びにその方法によって得られる生成物に関する。前記方法は、金属基材の少なくとも１つの表面に金属酸化物層を電気化学的に析出させることによって、ＴｉＯ_２、Ｂｉ_２Ｏ_３及びＺｎＯからなる群から選ばれる少なくとも１種の金属酸化物、好ましくはＴｉＯ_２の薄層によって該金属基材を被覆することを含んでなる。同時に、前記金属酸化物層は、その後のコーティング処理（例えば有機物質、例えば、ラッカー、ニス、塗料、有機ポリマー、接着剤等を用いるコーティング）のためのプライマー層としても作用し得る。 （もっと読む）

【課題】 亜鉛系メッキ鋼板の表面に形成させるための、硬質且つ高融点でしかも接着性および化成処理性にも優れた皮膜の化学成分組成と付着量を特定する。
【解決手段】 Ｆｅ−Ｎｉ−Ｏ系皮膜であって、付着量を金属元素の合計で１０〜１５００ｍｇ／ｍ² を共通条件とし、皮膜の、■酸素含有量を０．５〜３０ｗｔ．％未満にするか、■酸素含有量を０．５〜３０ｗｔ．％未満、且つＦｅ／Ｆｅ＋Ｎｉ（濃度比率）を０超〜０．９にするか、■酸素含有量を０．５〜３０ｗｔ．％未満、且つＦｅ／Ｆｅ＋Ｎｉを０．０５〜１．０未満にするか、■酸素含有量を０．５〜１０ｗｔ．％、且つＦｅ／Ｆｅ＋Ｎｉを０．０５〜０．９の範囲内にする。特に、プレス成形性およびスポット溶接性に優れたものを得るためには、皮膜の付着量を金属元素で１０〜１２００ｍｇ／ｍ² 、且つ酸素含有量を０．５〜１０ｗｔ．％でＦｅ／Ｆｅ＋Ｎｉを０．０５〜０．９にする。 （もっと読む）