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国際特許分類[F27B5/05]の内容

国際特許分類[F27B5/05]に分類される特許

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【課題】建設の手間を最適化し、炉の構造を小型化して熱処理プロセスの省エネルギー化を促進すると共に、機能的なユニットにおいてガス供給及び装入によって影響を受けるが、装入物が上から処理室内に装入される場合にも下から装入される場合にも同様に適用可能であるように構成されることにより、熱処理プロセスにおける真空炉の有用性を高めた縦型真空炉を提供する。
【解決手段】金属半製品の熱処理用の縦型真空炉、好適には、垂直に立てて置かれた状態(直立形態)または吊り下げられた状態(吊下形態)で装入される装入物(例えば長尺丸物ワーク群)を処理するための縦型真空炉であって、処理室2の側周部に複数の第1のガス供給開口部1.3が配置され、処理室2の上部または下部に少なくとも1つの第2のガス供給開口部2.1が配置された縦型真空炉を提供する。 (もっと読む)


【課題】複数の被接合部材相互をろう付接合して得た接合部材に対して、曲げ加工を施す場合に、接合部品のろう付部の割れを抑える。
【解決手段】 二枚の被接合板をろう付接合して接合部品を作製し(S21)、この接合部品に対して一次曲げ加工(S23)及び二次曲げ加工(S24)を施して、曲げ加工品を製造する。一次曲げ加工(S23)後で、二次曲げ加工(S24)前には、接合部品に対して、ろう付部の拡散処理を行う熱処理(S24)を実行する。 (もっと読む)


本発明は、基板(20)を熱加工するための熱処理内側チャンバ(3)であって、壁(10)を備え、該壁(10)は、熱処理内側チャンバ(3)の内室(24)を包囲し、熱加工の間に基板(20)を支承するための支承装置(8)を備え、熱処理内側チャンバ(3)の内室(24)にエネルギを導入するためのエネルギ源(11)を備え、壁(10)の内側面の少なくとも一部は、エネルギ源(11)により導入される出力を反射するように形成されるものにおいて、壁(10)の内側面の少なくとも一部は、少なくとも赤外線高反射性の材料から成ることを特徴とする。さらに本発明は、基板(20)を熱加工するための熱処理内側チャンバ(3)であって、壁(10)を備え、該壁(10)は、熱処理内側チャンバ(3)の内室(24)を包囲し、熱加工の間に基板(20)を支承するための支承装置(8)を備え、熱処理内側チャンバ(3)の内室(24)にエネルギを導入するためのエネルギ源(11)を備えるものにおいて、壁(10)の少なくとも一部を冷却するための冷却装置(14)を設ける。
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【課題】真空熱処理装置のシーリング用Oリングの劣化を防止する。
【解決手段】加熱容器(3)を排気ポンプへ結合し且つ真空処理チャンバ内に収容する接合チャンバの開口周囲フランジ(13)と加熱容器(3)の開口周囲フランジ(15)との接合面はOリング(21)でシーリングされる。接合チャンバの開口フランジ(13)の開口縁にひさし状の突起部(24)を設け、約1μ程の接合面の隙間から輻射熱が入りOリングを加熱しないような構成によって、Oリングの劣化を防止している。 (もっと読む)


【課題】真空加熱処理作用が終了した被処理物へ対して加圧又は冷却用の気体を供給するとき、当該気体中に水分が含有されていると、その水分が被処理物に水分が付着することになり、被処理物に不良が発生するので、不良品の発生しない加圧冷却処理方法を提供する。
【解決手段】処理室24内を加圧又は冷却する際に気体供給源より送給される気体の温度及び蒸気圧を露点調整手段14によって調整し、気体を室24内に導入する時、当該処理室24内の露点が少なくともドライ・クリーンルーム内における気体の露点と同じか少なくともそれより僅かに低い露点になるように調整する。 (もっと読む)


【課題】脱脂工程後の焼結工程時においても加熱室内の雰囲気の清浄性を確保することができ、また、加熱室自体の耐久性を向上させることができ、さらに、冷却工程時、材料を短時間で均一に冷却することができる一室型真空炉を提供する。
【解決手段】補助排気管4は炉体1と同軸上に加熱室20内と連通して配置され、可動排気管4aと固定排気管4bとからなる。固定配管4bの外径は可動排気管4aの内径より小径で下部加熱室部20bから加熱室20内に挿通している。可動排気管4aの外径は炉体1内に連通接続する主排気管5の内径より小径で固定排気管4bに外装され、上昇位置と下降位置との間を昇降自在に支持されている。主排気管5の内径は可動排気管4aの外径より大径で可動排気管4aに所定隙間をもって外装されている。可動排気管4aの上昇位置において、可動排気管4aの下端部が主排気管5内に、また、固定排気管4bの下端部が可動排気管4a内に遊嵌状態で位置する。 (もっと読む)


【課題】処理室内に設置した熱処理対象物を冷却するにあたり、前記処理対象物の冷却の不均一を抑制すること。
【解決手段】真空熱処理炉10は、処理室13と、支持部と、回転部16とを含む。処理室13は、熱処理対象物11を加熱し、加熱した熱処理対象物11を冷却ガス12でガス冷却する。支持部は、処理室13内に設けられて、熱処理対象物11の長手方向が処理室13への冷却ガス12の入口から出口に向かうように、熱処理対象物11を支持するものであり、支持部材19と、環状部材20と、取り付け治具21とで構成される。回転部16は、熱処理対象物11と当接しており、自身が回転することで熱処理対象物11を回転させる。 (もっと読む)


【課題】減圧下、加熱を行う工程で、断熱材ケーシングの内部が蒸気で飽和又は飽和に近い状態にならない熱処理炉を提供すること。
【解決手段】真空チャンバー2と、真空チャンバー2内に配置され、その内部に熱処理部4及び熱源5を有する断熱材ケーシング3と、を備え、断熱材ケーシング3には、断熱材ケーシング3の内部と外部を連通する通気孔6が形成されており、通気孔6の通気方向の軸線9上に、断熱材ケーシング3と所定間隔を離隔した状態で配置される断熱面8を有する断熱部材7を有する熱処理炉1。 (もっと読む)


【課題】脱ガス時間が短く、真空保持性が低下しにくい真空熱処理装置を提供することを課題とする。
【解決手段】真空熱処理装置1は、真空中に配置されると共にガスを吸収した被処理物Pが収容される収容室42を持つ回転容器4を備え、被処理物Pを加熱することにより被処理物Pの脱ガス処理を行うことを特徴とする。真空熱処理装置1では、被処理物Pが収容される収容室42を持つ回転容器4そのものが、真空中に配置される。回転容器4の内部と外部とは、共に真空である。つまり、真空境界は、回転する回転容器4の壁部ではなく、回転容器4よりも外部に存在している。したがって、収容室42の真空保持性が低下しにくい。 (もっと読む)


【課題】 炉体から排出される雰囲気ガス流量の変動巾が大きい場合でも、炉体内を所定圧力に維持してばらつきの少ない熱処理品を得ることができる真空排気装置を提供する。
【解決手段】 真空ポンプの回転数制御により、炉体内圧力の制御をおこなう真空排気装置5において、真空ポンプの吸気側と排気側とを、開閉弁A,Bをそなえた流路抵抗の異なる並列状に配設した還流管路12a,12bでバイパス状に接続し、前記開閉弁を開閉制御して、真空ポンプの回転数が下限値に達したとき、全還流管路が閉路状態であれば高抵抗側の還流管路12aを開路状態に切換え、還流管路12aが開路状態であれば低抵抗側の還流管路12bを開路状態に切換え、これらの開路状態で前記回転数が上限値に達したとき、還流管路12bが開路状態であれば還流管路12aを開路状態に切換え、還流管路12aが開路状態であれば該還流管路を閉路状態に切換える切換制御手段を具備した。 (もっと読む)


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