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国際特許分類[G01L9/12]の内容

国際特許分類[G01L9/12]に分類される特許

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【課題】 接合に伴う面内歪みの低減がなされた圧力センサを提供すること。
【解決手段】 受圧基板10に形成されたダイアフラム11の対向面10a側に可動電極13が、対向基板20における可動電極13と対向する領域に対向電極21が形成され、両基板10,20は、受圧基板10の対向面10aに形成された導電膜14a,14cを介して陽極接合される。対向基板20の対向面20aには導電膜14aとの接合領域に沿って、スリット24が形成されている。スリット24の周辺部は、変形のしやすい変形容易部として機能し、この変形容易部の変形によって対向基板20側の面内歪みは吸収される。また、スリット24によって接合面における受圧基板10に対する追従性も良くなるので、受圧基板10側の面内歪みも緩和される。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、上述の課題を解決するためになされたもので、基準圧力の安定性が良く、外
圧の絶対値の検出精度に対する信頼性に優れた圧力センサ、およびその製造方法を提供す
ること。
【解決手段】 受圧基板10に形成されたダイアフラム11の対向面10a側に可動電極
13が、対向基板20における可動電極13と対向する領域に対向電極21が形成され、
両基板10,20は、受圧基板10の対向面10aに塗布された接合材14a,14bを
介して接合される。また、対向基板20の底面20bには、上面30a側に凹部31を有
するケース体30が接合され、底面20bと凹部31とで囲まれた空間が封止されて気密
室32が形成される。気密室32と対向面10a,20a間の狭小空間とは連通口24に
よって連通されており、共に圧力基準室を構成する。 (もっと読む)


【課題】共晶接合を行う際に発生する接合不良を解決する静電容量型圧力センサを提供する。
【解決手段】絶縁材料から成る固定基板3と、固定基板の上面中央部に順次積層されたAu固定電極膜4及び誘電体膜5と、該固定基板の上面外周縁に積層されたAu接合膜23aと、誘電体膜と対向する位置に薄肉部21を備えるとともにAu接合膜23aと対向する位置にAu接合膜6aを備え、Au接合膜23aとの間をAu−Sn接合膜23cを介して溶融接合される可動基板21と、該薄肉部の少なくとも一部に形成され且つ固定電極膜と対向する位置関係にある可動電極膜22と、を備え、該可動電極膜と該誘電体膜との間に微小ギャップの気密空間Sを備えた圧力センサ1において、固定基板側のAu接合膜面、或いは可動基板側のAu接合膜面にバリアメタルとしてのNi接合膜23bを介在させて、可動基板側或いは固定基板側のAu接合膜と溶融接合させた。 (もっと読む)


センサハウジングと、センサハウジング内に配置されたヒータ殻体と、ヒータ殻体に作用可能に連結されたヒータと、ヒータ殻体内に受容されたセンサと、ヒータ殻体の外側にてセンサハウジング内に配置され且つ、センサから信号を受け取り得るようにされたエレクトロニクス組立体とを含む変換器組立体である。組立体は、また、ヒータ殻体の外側にてセンサハウジング内に配置された取り付け板400も含む。取り付け板400は、該取り付け板から伸びるアーム402と、エレクトロニクス組立体が取り付け板400に固定される箇所である少なくとも1つの取り付け箇所404とを有している。アーム402は、センサハウジングに固定され、また、取り付け板400は、アーム402と取り付け箇所404との間の熱伝導を妨害し得るようアーム402に隣接する開口406を含む。
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センサコンデンサ(CP)を外付けし、基準コンデンサ(CR)、サンブリングコンデンサ(C)、およびサンブリング増幅器(22)を含み、センサコンデンサ(CP)が接続された入力端子(16)をそなえる集積化された読み出し回路上に静電容量−電圧変換器(14)を実現した静電容量−電圧変換方法。この方法は、a)直列接続されたセンサコンデンサ(CP)と基準コンデンサ(CR)に基準電圧(Vref)を印加し、センサコンデンサ(CP)と基準コンデンサ(CR)の間の相互接続ノード(A)の電位にサンブリングコンデンサ(C)を充電するステップと、b)サンブリングコンデンサ(C)をサンブリング増幅器(22)の入力に接続するステップとを含む。この方法は更に、c)直列接続されたセンサコンデンサ(CP)と基準コンデンサ(CR)にステップa)と逆の極性で基準電圧(Vref)を印加し、センサコンデンサ(CP)と基準コンデンサ(CR)の間の相互接続ノード(A)の電位にサンブリングコンデンサ(C)を充電するステップと、d)サンブリングコンデンサ(C)をステップb)と逆の極性でサンブリング増幅器(22)の入力に接続するステップとを含む。
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【課題】精度や信頼性がより高い、絶対圧測定用の静電容量型圧力センサ及びその真空室の真空度を評価する評価方法を提供する。
【解決手段】 ダイヤフラム3の圧力により変位する可動電極6と、該可動電極6に対向して設けられた固定電極5とを真空室内4に備え、該可動電極6と該固定電極5との間の静電容量を計測することにより、ダイヤフラム内の圧力を計測する静電容量型圧力センサにおいて、前記真空室内4に外部に端子が引き出される一対の真空度計測用端子7c、7dを設けた。真空度計測用端子7c、7dの一方に高電圧を印可し、他方の電極から放電電流を計測することにより、真空室4内の真空度を計測して真空度を評価する。 (もっと読む)


タッチモード容量型圧力センサにおいて、水晶を圧力センサの検出片として利用することにより、シリコン製の検出片を用いた圧力センサの欠点であったエッチング精度が低いことによるダイヤフラムの厚みコントロールの困難化、それによる検出精度の低下、及び弾性変形における繰り返し再現性の悪さ、を夫々解消することができる水晶式圧力センサを提供する。絶縁材料から成る底板と、該底板の面上に順次積層された下部電極膜及び誘電体膜と、該誘電体膜と対向する位置に薄肉部を備えるとともに底板の面上に固定された検出片と、該薄肉部の少なくとも一部に形成され且つ下部電極膜と対向する位置関係にある上部電極膜と、を備え、該検出片の下面と該誘電体膜との間に微小ギャップの気密空間を備えた圧力センサにおいて、前記検出片は、水晶材料から成ることを特徴とする。
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圧力を測定するためのキャパシタンスダイアフラムゲージ(100)は、シム(122)または他の隆起外周部分を介して本体構造体(110)に設置された、フラッシュダイアフラム(120)を備える。本発明に従う実施形態は、低いヒステリシス特徴を有するフラッシュダイアフラムを有する、キャパシタンスダイアフラムゲージ(CDG)を提供する。このCDGは、利用可能な様式で再現性よく製造され得る、単純な構造体を有する。
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【課題】 力検出センサにおいて、変位部と変形部の複合構造によって決定される2次モードの固有振動数を高くする。
【解決手段】 マイクロホン10は、平行平型ダイアフラム部200と、支持部600、表面側変形部202と、裏面側変形部203を備えている。平行平型ダイアフラム部200は、扁平な形状で形成されている。支持部600は、平行平型ダイアフラム部200の外側に位置している。表面側変形部202は、平行平型ダイアフラム部200の厚み方向で相対的に表面側の周辺を支持部600に接続しており、裏面側変形部203は、平行平型ダイアフラム部200の厚み方向で相対的に裏面側の周辺を支持部600に接続している。平行平型ダイアフラム部200に力が作用すると、表面側変形部202と裏面側変形部203は、平行平型ダイアフラム部200が支持部600に対して平行平型ダイアフラム部200の厚み方向に変位する。 (もっと読む)


【課題】チップ自体の製造、およびその搭載に係る生産性を更に効果的に向上することのできる半導体センサチップの製造方法を提供する。
【解決手段】貫通孔27およびスルーホール34の同時エッチング形成に際して、貫通孔27についてはシリコンウェハ32の下面側から、スルーホール34についてはシリコンウェハ32の上面側からエッチングを行う。これにより、貫通孔27とスルーホール34とをシリコンウェハ32の異なった面にそれぞれ開口させた後、シリコンウェハ32の上面側にめっき処理を行い、貫通孔27内を中空としたまま、スルーホール34のみに導電体を埋め込んで、貫通電極を形成する。 (もっと読む)


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