【課題】フォトマスクにおけるパターンの欠陥を高精度且つ短時間に検査できる。
【解決手段】同一パターンが繰り返される繰り返しパターンを備えた画素パターン領域９と、この画素パターン領域の周辺に設けられて、繰り返しパターンのない周辺パターン領域１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄとを有するフォトマスク１０におけるパターンの欠陥を検査するフォトマスクの欠陥検査方法において、上記フォトマスクには、画素パターン領域及び周辺パターン領域が存在しない空きスペース２１に、周辺パターン領域１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄのパターンとそれぞれ同一のパターンが配列された検査用パターン領域２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃ、２０Ｄが設けられ、これらの周辺パターン領域と検査用パターン領域とを比較することにより、当該周辺パターン領域におけるパターンの欠陥を検査する。 （もっと読む）

【課題】シート上に散布された紛体の目付分布、目付量を非接触でリアルタイム計測を可能とする、紛体の目付測定方法を提供する。
【解決手段】平面基材上に載置された紛体に光を照射し、前記紛体により散乱、回折もしくは反射された光または前記粉体からの蛍光発光の強度を測定し、この測定値と予め作成しておいた検量値と比較することにより粉体の目付を測定することを特徴とする紛体の目付測定方法。 （もっと読む）

【課題】 撮像手段の傾きによる検査精度の低下の様子を把握できる検査装置を提供する。
【解決手段】 基板１０Ａ上のマークを撮像する撮像手段１７と、撮像手段の出力に基づいてマークの画像を取り込み、該画像から基板に対する撮像手段の傾きを求める画像処理手段１８とを備える。 （もっと読む）

【課題】ＣＲＴやＰＤＰなどのディスプレイデバイスの表示領域全体における輝度値を高精度、高速に測定し、画質検査を効率よく行う。
【解決手段】ディスプレイデバイスに所定の画像を表示させた後、撮像手段を用いて前記ディスプレイデバイスを撮像することにより前記撮像手段の各画素において画像データを得るステップと、輝度計を用いて前記ディスプレイデバイスの所定領域の輝度を測定して輝度測定値を得るステップと、前記画像データを用いて得られる前記所定領域での輝度値と前記輝度測定値とに差があるとき、その差を無くすように前記撮像手段の各画素の前記画像データを補正して補正画像データを得るステップとを有する。 （もっと読む）

【課題】検査対象物の内部キズが維持基準を満足するものか否かを正確に検査し得るキズ検査用基準ゲージを高品質で製作し得るキズ検査用基準ゲージの製造方法を提供する。
【解決手段】キズ検査用基準ゲージ１は第１のピースと第２のピース３とを拡散接合により一体化し、その内部に維持基準に対応する凹溝等を封止形成したものからなり、このキズ検査用基準ゲージは、第１のピース２又は第２のピース３の接合面２ａ，３ａや端面に予めレーザ加工等により凹溝等４を加工し両者を合体しＨＩＰ装置により拡散接合して形成される。 （もっと読む）

【課題】実際の半導体プロセスおいて発生する微小欠陥に対応した欠陥検出感度を十分に保証し、特に欠陥検査装置の照明手段の光源交換後の感度調整を判断する指標として製造管理に利用する。
【解決手段】パターン８と、サイズの異なるコーン欠陥であり、シリコン基板１上にランダムに形成された擬似欠陥部７とを備えた欠陥検出感度校正標準基板を用いて、欠陥検査装置の照明部２１におけるランプ２１ａの交換後の感度調整を判断する指標として製造管理に利用する。 （もっと読む）

【課題】背面からテストを実行するための半導体ウェハを準備する方法の提供。
【解決手段】ウェハ３００におけるテスト対象のダイ３２５を選択するステップと、ダイ３２５の対角線を測定するステップと、スクライブライン３２０ａおよび３２０ｂを越えて延在するダイ３２５上のエリアを薄型化するステップと、該薄型化エリア３５０内にインサート３６０を載置するステップと、ダイ３２５までの光路を不明瞭にしないように、インサート３６０の周辺エリアに接着剤３８０を塗布するステップとを含む。インサート３６０は、ドープされていないシリコンから作られることが有益である。 （もっと読む）

【課題】 基板の欠陥を検出する基板検査装置において、精度の高い基準画像データを取得でき、基準基板の製造を容易に行うことができるようにする。
【解決手段】 基板Ｔを水平状態に支持するステージ部５，６と、前記基板Ｔを前記ステージ部５，６の表面５ａ，６ａに沿って一方向に搬送する搬送機構７と、前記搬送方向に直交する略直線状の照射光を前記基板Ｔの表面Ｔａの照射領域に照射するライン照明ユニット２３と、前記照射領域からの反射光を受光して撮像するカメラユニット２４と、前記照射領域に対してその長手方向に移動可能な基準ユニット２７と、該基準ユニット２７に設けられ、前記照射領域を通過する表面に基準パターンを形成したキャリブレーション用の基準基板とを備える基板検査装置１を提供する。 （もっと読む）

【課題】 被検査基板の欠陥を検出する基板検査装置において、被検査基板の検査効率を向上できるようにする。
【解決手段】 被検査基板Ｔを水平状態に支持するステージ部６と、ステージ部６に対して被検査基板Ｔをその表面Ｔａに沿う方向に搬送する搬送機構と、搬送方向に直交する略直線状の照射光を被検査基板Ｔの表面Ｔａの照射領域に照射するライン照明ユニットと、照射領域からの反射光を受光するカメラユニットと、被検査基板Ｔに対向し、ライン照明ユニットの照射光が入射するステージ部６の表面６ａに、照射領域の長手方向にわたって形成される略直線状の溝１３と、溝１３内部に複数に分割して配置され、照射領域を通過する表面３３ａに基準パターンを形成した基準基板３３と、基準基板３３がステージ部６の表面６ａから突出する位置と溝１３内部に没入する位置との間において、基準基板３３を移動させる出没機構３１とを備える基板検査装置を提供する。 （もっと読む）

紙などの平面の物体の裏面における印刷画像の目に見える裏写りを定量化するための画像解析方法に関する。白色の基準物体を用いて照射レベルが設定される。白色基準画像が、コンピュータメモリに格納される。裏面に印刷画像を有する平面の物体の画像が、コンピュータメモリに格納される。目に見える裏写りを特徴付けるために、２つの画像のピクセル単位の比が計算され、比の平均値が計算される。測定は、照射レベルおよび画像の濃淡の両方に実質的に左右されない。
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