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国際特許分類[G01P15/125]の内容

国際特許分類[G01P15/125]に分類される特許

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【課題】 静電容量型加速度センサのスティクションの発生と共に基板の歪みによる特性変動をも抑止する。
【解決手段】 静電容量型加速度センサにおける錘として機能する質量部101と、質量部101に両端が支持される可動電極103と、可動電極103と対向して設けられる固定電極104、105と、固定電極104、105を、この固定電極下面の支持基板109に固定する固定アンカ107、108と、を含んで静電容量型加速度センサを構成する。そして、固定アンカ107、108は、固定電極104、105下面の中央部分のみと支持基板109とを接触させて固定する。 (もっと読む)


【課題】基板を貫通するトレンチによって複数の部分領域に分割されてなる領域分割基板およびそれを用いた半導体装置ならびにそれらの製造方法であって、部分領域の側壁に導電層を形成するメリットだけを享受して、該導電層の形成に伴う悪影響を排除することのできる領域分割基板およびそれを用いた半導体装置ならびにそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】基板30の第1表面S1から第2表面S2に亘って、当該基板30を貫通するように形成されたトレンチ31aによって、当該基板30が複数の部分領域Ce,Cea〜Ced,Cek,Celに分割され、前記複数の部分領域のうち、一部の部分領域Cea〜Cedの側壁に、第1表面S1の側から第2表面S2の側に亘って、当該基板30より高い導電率を有する導電層35が形成され、トレンチ31aに絶縁体31bが埋め込まれてなる領域分割基板A20とする。 (もっと読む)


【課題】 積層構造を有する可動質量体に固定された可動電極における反りの発生を抑制する技術を提供する。
【解決手段】 本明細書が開示するMEMSデバイスは、基板と、第1導電領域に第1絶縁領域を介して第2導電領域が積層されて形成されており、基板に対して相対的に移動可動な可動質量体と、基板と可動質量体を連結する弾性支持部材と、基板に固定された固定電極と、可動質量体に固定されており、固定電極に対向して配置された可動電極と、第1導電補強領域に絶縁補強領域を介して第2導電補強領域が積層されて形成されており、可動質量体に固定されており、可動電極を少なくとも両側から支持する補強部材を備えている。 (もっと読む)


【課題】絶縁体層において基板の一方の面と同じ側の面に電極層を形成した際に基板と電極層との間(絶縁体層)で発生する寄生容量を従来よりも低減できるセンサ用構造体、該センサ構造体を用いたセンサ及びアクチュエータを得る。
【解決手段】基板1は、ケイ素などの半導体からなるものであり、一方の面に形成された矩形状の凹部1aと、他方の面において、絶縁体層2における基板1の一方の面と同じ側の面と反対側の面が露出するように形成された開口部1bと、を有したものである。絶縁体層2は、二酸化ケイ素などの絶縁体からなる層であり、基板1の凹部1aの内部に形成されているものである。また、絶縁体層2の厚さは、2μmより大きい寸法を有したものである。このような構成のセンサ構造体は、センサ及びアクチュエータに用いることができる。 (もっと読む)


【課題】大きな加速度が加わった場合にも、上層支持部と下層支持部との境界部分が損傷を受けることがなく、信頼性の高い静電容量型加速度センサを提供する。
【解決手段】基板101と、基板101上に固定された固定電極121、122と、固定電極121、122の上面に対向するように配置された可動電極105と、可動電極105を基板101上面に直交する方向に変位可能に基板101上に弾性支持する弾性支持部180と、を備え、弾性支持部180は、基板101上に固定された絶縁体からなる下層支持部121、122と、下層支持部121、122上に固定された上層支持部117と、基板101上面に沿って長い形状を有し、且つ一端部が上層支持部107に結合され他端部が可動電極105に結合された梁部106と、を有し、下層支持部121、122は、梁部106と上層支持部107との結合部分の直下に位置する部分に空隙部130を有する。 (もっと読む)


【課題】犠牲層の改質度をさらに上げて、犠牲層のエッチングレートを向上させることができる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】犠牲層領域17に対応する支持基板11にレーザ光の焦点54aを合わせ、半導体層13側からレーザ光を照射する。これにより、レーザ光の焦点54aからレーザ光の入射側に伝達する熱応力によって犠牲層領域17に位置する犠牲層12にマイクロクラック12aを形成する。この後、半導体層13の開口部15からエッチング媒体を導入し、マイクロクラック12aが形成された犠牲層12をエッチングして除去することにより、支持基板11に対して構造体22〜24を浮遊させる。このように、犠牲層12にマイクロクラック12aを形成して改質度を向上させているので、犠牲層12の深部にエッチング媒体が入り込みやすくなり、犠牲層12のエッチングレートがさらに向上する。 (もっと読む)


【課題】帰還抵抗の寄生容量による悪影響をなくして、半導体基板上で実用化が可能な、出力ノイズの小さいチャージアンプを提供する。
【課題の解決手段】チャージアンプ1は、非反転入力端子を増幅基準電圧6に接続し、反転入力端子に水晶振動子を有する振動型角速度センサ7から50KHzの周波数信号を入力するとともに、その出力端子は並列接続された帰還抵抗4,5及び帰還容量3を介して反転入力端子に接続したものであって、帰還抵抗4,5の反転入力端子側ほぼ半分に対応する寄生容量8の基板電極を反転入力端子に接続して、出力ノイズを低減したものである。 (もっと読む)


【課題】測定精度の高い物理量センサーを提供する。
【解決手段】本発明の物理量センサーは、支持基板20と、前記支持基板に固定された固定電極指38、39と、前記固定電極指と対向し、印加される物理量に応じて変位する可動電極指36、37とを含む静電容量検出型の物理量センサーであって、固定電極指38、39の一面が支持基板20に固定されている。 (もっと読む)


【課題】電位差によって生じる静電力の影響を抑え、S/N比の低下やセンサ感度の変動を防止できる複合センサを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明に係る複合センサは、第1可動部および第2可動部と、これらの周辺に配置されている第1ダミー部および第2ダミー部を、積層基板の層内に形成して備えている。第1ダミー部と第2ダミー部は電気的に分離されており、第1可動部と第1ダミー部には第1電位が印加され、第2可動部と第2ダミー部には第2電位が印加される。 (もっと読む)


【課題】小型化が可能な加速度センサーを提供する。
【解決手段】基板と、基板上に位置する第1の電極層と、第1の電極層の第1の面と対向して位置する第2の電極層と、第2の電極層を基板に支持する支持部と、を含み、第2の電極層は、上記第1の面に沿った方向に動くことができ、支持部は、第2の電極層が上記第1の面に沿った方向に動くことができるように第2の電極層を基板に支持する。これにより、感度と精度を確保しつつ、基板の面に垂直な方向における加速度センサーの厚みを低減し、加速度センサーを小型化することができる。 (もっと読む)


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