【課題】光の利用効率に優れた光変調装置及びプロジェクターを提供する。
【解決手段】入射した光束を変調して画像を形成する光変調装置は、画像を構成する画素毎に変調部８０Ａがそれぞれ設けられた構成を有する。変調部８０Ａは、入射した光束を通過させる第１の位置または入射した光束を遮断する第２の位置に移動可能に構成されたシャッター８８と、シャッター８８を第１の位置または第２の位置に移動させる回路部８６及び電極部８７とを備える。シャッター８８は、帯電された帯電部９１〜９４を備える。駆動手段は、帯電部９１〜９４との間で静電力を発生させる透明電極Ｅ１〜Ｅ４を有し、当該静電力でシャッター８８を第１の位置または第２の位置に移動させる。 （もっと読む）

【課題】複数の光変調器（９１）及び該複数の光変調器の反射面上の複数のフィルター素子（９５）を含む表示装置（９０）が提供される。
【解決手段】複数の光変調器（９１）が、第１の組の光変調器（９２）及び第２の組の光変調器（９４）を含む。複数の光変調器（９１）の各光変調器が、少なくとも第１状態、第２状態、及び第３状態の間で選択的に切り替えられるように構成される。各状態が、異なるスペクトル反射を有する。複数のフィルター素子（９５）が、第１の組の光変調器（９２）に対応する第１の組のフィルター素子（９６）及び第２の組の光変調器（９４）に対応する第２の組のフィルター素子（９８）を含む。第１の組のフィルター素子（９６）が、第２の組のフィルター素子（９８）と異なる分光透過率を有する。 （もっと読む）

【課題】光の利用効率に優れた光変調装置及びプロジェクターを提供する。
【解決手段】入射した光束を変調して画像を形成する光変調装置は、画像を構成する画素毎に変調部８０Ａがそれぞれ設けられた構成を有する。変調部８０Ａは、入射した光束を通過させる第１の位置または入射した光束を遮断する第２の位置に移動可能に構成されたシャッター８８と、シャッター８８に力を加えることでシャッター８８を第１の位置または第２の位置に移動させる圧電素子８７とを備える。シャッター８８は、光変調装置に入射する光束の光軸に直交する平面に対して面外方向に回転することで第１の位置または第２の位置に移動する。 （もっと読む）

【課題】微小電気機械装置のアクチュエーション電圧およびリリース電圧の一方または両方を決定する方法を提供する。
【解決手段】装置に接続された少なくとも１つの電極に少なくとも２つの異なる電位を適用し、少なくとも２つの異なる電位で装置の少なくとも１つの電気的応答を検出することを含む。少なくとも一部分状態を決定することに基づいて、アクチュエーション電圧およびリリース電圧の一方または両方が決定される。装置は、ディスプレイに適した干渉変調器のアレイを含むシステムの一部である。この方法はディスプレイピクセル特性における温度に依存した変化を補償するために使用する。 （もっと読む）

【課題】ＩＭＯＤの非アクティブ領域は、光吸収性であるよう作られることが必要であり、一方所望の光学的応答を向上させるためにＩＭＯＤの或る特定の非アクティブ領域からの反射周辺光の影響を減少させて、光デバイスを覆い隠し又は光デバイス中に光吸収性非アクティブ領域を作ること。
【解決手段】基板と、前記基板上に形成され、膜スタックを包含して光を吸収するように形成された静的光コンポーネントと、前記基板の上の動的光コンポーネントとを有することを特徴とする光デバイス及びその製造方法である。 （もっと読む）

【課題】高品質なエレクトロウェッティングデバイスを容易に製造することを可能とするエレクトロウェッティングデバイス用エマルジョンインクを提供する。また、該エレクトロウェッティングデバイス用エマルジョンインクを用いてなるエレクトロウェッティングデバイスを提供する。
【解決手段】親水性の液体中に疎水性の液体が分散してなるエレクトロウェッティングデバイス用エマルジョンインクであって、疎水セグメントを有する化合物と親水セグメントを有する化合物とからなる非イオン性界面活性剤を含有し、前記疎水セグメントを有する化合物のＳＰ値と前記親水セグメントを有する化合物のＳＰ値との差が４以上であるエレクトロウェッティングデバイス用エマルジョンインク。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ＭＥＭＳ表示要素にデータを書き込むための方法及び装置に関する。
【解決手段】微小電気機械システム（ＭＥＭＳ）表示要素のアレイに表示データのフレームを書き込む方法であって、画像を表示するために前記ＭＥＭＳ表示要素に表示データを書き込む過程と、ＭＥＭＳ表示要素のアレイに対する第１組の列又は行に第１連の交互極性のバイアス電圧を印加する過程と、ＭＥＭＳ表示要素のアレイに対する第２組の列又は行に第２連の交互極性のバイアス電圧を印加する過程とを具備し、前記第１組の列又は行は、隣接の列又は行が、前記第１連の印加及び前記第２連の印加の間に対向する極性のバイアス電圧を受けるように、前記第２組の列又は行で交互配置されることを特徴とする方法。 （もっと読む）

【課題】光変調装置の２層の間のキャビティの深度を制御する方法および装置が提供される。
【解決手段】光変調装置を作る方法は、基板を形成するステップと、基板の少なくとも一部の上に犠牲層を形成するステップと、犠牲層の少なくとも一部の上に反射層を形成するステップと、基板の上に１つまたは複数の屈曲コントローラを形成するステップとを含んでおり、屈曲コントローラは、反射層を動作可能に支持し、犠牲層の除去の際に犠牲層の厚さとはある程度異なる深度のキャビティを形成するように構成されており、深度は基板に対して垂直に測定される。 （もっと読む）

【課題】シャッタ眼鏡を用いる立体映像表示システムにおいて、シャッタ眼鏡の厚さを減らすと共に、開口率を高め、かつ応答速度を速くする立体映像表示装置用シャッタ眼鏡、立体映像表示装置用シャッタ眼鏡を含む立体映像表示システム及び立体映像表示システムの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態に係る立体映像表示装置用シャッタ眼鏡は、左眼シャッタと右眼シャッタを含み、前記左眼シャッタ及び前記右眼シャッタのうちの少なくとも一つは、前記左眼シャッタ及び前記右眼シャッタのうちの少なくとも一つの開閉を制御するメムス素子を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＩＭＯＤの或る特定の非アクティブ領域からの反射周辺光の影響を減少させること。
【解決手段】基板と、前記基板上に形成された第１及び第２の光コンポーネントとを有し、前記第１の光コンポーネントは、２つのモードを有し、該各モードは、前記第１の光コンポーネントに入射した光に対する別々の光学的応答を生じ、前記第２の光コンポーネントは、前記第１のコンポーネントからの周辺光の反射を減少させて光学的応答が周辺光の反射によって劣化させられず、前記第２の光コンポーネントがまた膜スタックを有することを特徴とする光デバイス。 （もっと読む）