紫外放射用の光学素子（１００）は、第一の流体（１０４）及びその第一の流体（１０４）と非混和性のものである第二の流体（１０６）を含有する流体チャンバー（１０２）を含む。それら第一の及び第二の流体（１０４，１０６）は、前記の光学素子の光軸を横切って延在するメニスカス（１１４）にわたって相互に接触したものである。それら流体の少なくとも一方は、遠紫外放射のような、紫外放射について実質的に透明なものである。その光学素子（１００）は、レンズ又はミラーであることができると共に調節可能な光学的性質を有することもある。それら光学素子は、データ担体用のマスターを作る道具のような光学系、レーザー系、又はリソグラフィー系において使用されることもある。それら流体の一方は、気体であることもある。
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マイクロリソグラフィ投影露光設備が、焦点面（２８）上に対象物（２４）を投影し、かつ曲面（Ｓ）を備えたレンズ（Ｌ３）を有する投影レンズ系（２０）を含む。液体または固体の媒質（３４）がこの投影レンズ系（２０）内に設置され、曲面（Ｓ）に対して対象物（２４）の投影のために使用され得る領域にわたって直接境界を接する。この投影露光設備はまた、投影操作中に媒質（３４）の加熱によって引き起こされる像面の湾曲を減少させる、調節可能なマニピュレータ（Ｍ）を含む。
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【課題】荷電粒子線遮蔽膜に露光貫通孔が存在しないことに起因するマスク作製時の荷電粒子線遮蔽膜の破損を防止することができるマスク作製方法を提供する。また、被照射体へ照射するパターン精度を向上させることができるマスクを提供する。
【解決手段】パターンが配置されないパターン配置可能領域の荷電粒子線遮蔽膜１に通風貫通孔１ｂを形成した後に、荷電粒子線遮蔽膜１に冷却用ガスを吹き付けた状態で、荷電粒子線遮蔽膜１をドライエッチングすることによりパターン形成を行う。荷電粒子線遮蔽膜１のドライエッチングにおいて、パターンが配置されないパターン配置可能領域の荷電粒子線遮蔽膜１に通風貫通孔１ｂが形成されていることから、当該通風貫通孔１ｂを介して冷却用ガスが流動し、荷電粒子線遮蔽膜１にかかる圧力が緩和される。 （もっと読む）

【課題】光効率およびコントラストレベルの高いリソグラフィシステムを提供する。
【解決手段】放射の投影ビームを形成する照明系と、所望のパターンにしたがって投影ビームをパターニングするパターニングデバイスと、パターンビームを基板のターゲット部分へ投影する投影系と、照明系と表面とのあいだに配置された可変偏光素子２００とを有しており、可変偏光素子は少なくとも２つのモード、すなわち第１の直線偏光、これに直交する第２の直線偏光、および円偏光のうち、選択された１つのモードで駆動される。 （もっと読む）

【課題】 超微細なパターンと、精度の要求されない大面積パターンとを含むパターンを、高精度にかつ短時間で形成することができるハイブリッドリソグラフィ方式によるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 基板１１上の加工膜に、超微細パターンと大面積パターンを形成するパターン形成方法において、加工膜を超微細パターンに形成するための電子線レジストパターン膜を電子線描画により形成し、加工膜を大面積パターンに形成するためのフォトレジストパターン膜をフォトリソグラフィにより形成した。 （もっと読む）

【課題】 光学装置において、ケーブルにより移動ステージの運動性を損なわない光学特性測定装置を提供すること。
【解決手段】 光学特性測定装置２は、ウエハステージＷＳＴに配置され露光装置の光学系の波面収差を測定する波面収差計測ユニット３５と、ウエハステージＷＳＴの動作に合わせて波面収差計測ユニット３５に接続されるケーブル４の動作を制御するケーブル制御装置とを備え、ウエハステージＷＳＴが移動しても、ケーブル４がその運動性が損なうことがない。 （もっと読む）

本発明は、追加のリソグラフィック処理ステップを必要とせずに、酸化アルミニウム構造を有するマイクロデバイスを製造する方法を説明している。それ故に、追加のマスクは必要ない。ある環境下において、酸化アルミニウムの壁は、エッチング処理において、下にある金属構造の傾斜した壁のすぐ上に現れることが明らかである。これら金属構造の壁が傾斜しているという事実は、ここで不可欠である。本発明による方法を用いて、金属構造の傾斜した壁の上に正確に調整される酸化アルミニウム構造が製造される。これら調整された酸化アルミニウム構造は例えば、微細流体流路、マイクロウェッティングディスプレイ、電気泳動ディスプレイ又はＦＥＤ(field emitting display)における壁として使用される。
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【課題】大面積の基板を１回の走査で露光するリソグラフィ装置と方法を提供する。
【解決手段】照明システムは、個別制御可能の要素のアレイでパターン形成したビームを供給し、ビームをレンズアレイに通して基板の目標部分へ投影し、アレイの各レンズはビームの各部分を基板へ配向し、変位システムは、基板とビームを相対的に変位させ、ビームは所定の走査方向に基板全体で走査される。投影システムを各トラックに沿って各ビームを走査するように位置決めする。各トラックはビーム１本で走査する第一部分と、隣接トラックと重なりビーム２本で走査する第二部分を有する。第一部分への各ビーム部分の最大強度は第二部分へのビーム部分の最大強度より大きいので、第一と第二部分はほぼ同じ最大強度の放射線に露光する。隣接ビームをこのように重ねビーム強度を変調すると異なる光列の光学的フットプリントが継合わされ１回の走査で大面積の基板を露光できる。 （もっと読む）

【課題】 ウエハ１ロット（２５枚程度）を露光する間にベースラインが変動しオーバーレイ精度が悪化する。オーバーレイ精度悪化を防ぐためベースライン計測を頻繁に行うとスループットが悪化する。
【解決手段】 レチクル顕微鏡，オフアクシス顕微鏡ともにＵＬ鏡筒に配置されたマークを観察し、常時計測器系と投影光学系の相対位置ずれを測定し補正することによりベースライン計測間隔の間のオーバーレイ精度悪化を最小限にする。 （もっと読む）

【課題】光学システムにおける放射線ビーム中の望ましくない放射線の強度を小さくするリソグラフィ装置およびデバイス製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のリソグラフィ装置は、所定の波長または所定の波長範囲を有する所望の放射線、および他の波長または他の波長範囲を有する望ましくない放射線を含む放射線ビームを伝送するようになされた照明システムと、放射線ビームの断面にパターンを付与するようになされたパターニング構造を支持するようになされた支持構造と、基板を保持するようになされた基板テーブルと、パターンを付与された放射線ビームを基板のターゲット部分に投射するようになされた投影システムとを有し、また使用に際して、リソグラフィ装置の少なくとも一部に、所望の放射線の少なくとも一部に対して実質的に透過性であり、且つ望ましくない放射線の少なくとも一部に対して実質的に透過性の小さいガスを含む。 （もっと読む）