【課題】微細ピッチのパターンを実現可能であってパターニング精度の安定性を向上できる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造方法は、基板上の一部の領域に第１のホトレジストパターンを形成する第１の工程と、少なくとも第１のホトレジストパターンの表面に薄膜を形成する第２の工程と、第１のホトレジストパターンが形成されていない部位に第２のホトレジストパターンを形成する第３の工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】ダブルパターニング法において第一のレジストパターンが、第二のレジストパターンを形成する際に使用されるレジスト液並びに現像液に溶解せず、且つ、第二のレジストパターン形成後においてもその幅、ＬＷＲ及び高さの変化が抑制されるよう、第一のレジストパターンの性状を変性し得るフリージングプロセスに好適なレジストパターン用表面処理剤を提供すること、並びに該表面処理剤を用いたレジストパターンの形成方法を提供すること。
【解決手段】レジストパターンに化学吸着する官能基と重合性基を有する化学種と、溶剤を含有することを特徴とするレジストパターン用表面処理剤。 （もっと読む）

【課題】優れた熱分解性及び感光性を有し、充分な膜厚を有する被膜を形成することが可能な焼結性レジスト組成物を提供する。また、該焼結性レジスト組成物を用いたマイクロ構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】マイクロ構造体の製造に用いられる焼結性レジスト組成物であって、（メタ）アクリル樹脂、光重合開始剤及び有機溶剤を含有し、上記（メタ）アクリル樹脂の含有量が２０〜５０重量％であり、上記（メタ）アクリル樹脂は、分岐構造を有する（メタ）アクリレートに由来するセグメントを４０〜９０重量％、及び、両末端が（メタ）アクリレートで変性されたポリオキシアルキレンエーテルオリゴマーに由来するセグメントを４〜２０重量％含有する焼結性レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】微細ピッチのパターンを実現可能であってパターニング精度の安定性を向上できる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造方法は、基板上の一部の領域に第１のホトレジストパターンを形成する第１の工程と、２種以上の原料ガスを交互に基板へ供給して、少なくとも第１のホトレジストパターンの表面に薄膜を堆積する第２の工程と、第１のホトレジストパターンが形成されていない領域の一部に第２のホトレジストパターンを形成する第３の工程と、
を有する。 （もっと読む）

【課題】ヒートモード型のフォトレジスト層に凹部を形成する際に発生する異物の影響を抑制することができる凹部形成方法と、この方法を用いた凹凸製品の製造方法、発光素子の製造方法および光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】ヒートモードの形状変化が可能なフォトレジスト層１２に光源を含んで構成される光学系５０から集光した光を照射することでフォトレジスト層１２に複数の凹部１５を形成する凹部形成方法であって、フォトレジスト層１２の凹部形成面１２Ａを重力方向に向けて凹部１５を形成する。 （もっと読む）

【課題】アルカリ現像可能で、解像性に優れるネガ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）特定の繰り返し単位を有するポリヒドロキシアミド：１００質量部、（Ｂ）特定のエステル化合物：１〜４０質量部、（Ｃ）光酸発生剤：１〜１５質量部、を含むことを特徴とするネガ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】露光時の重合硬化性を高め、低温加熱もしくは無加熱処理でのパターン構造物や保護膜の形成を可能とする。
【解決手段】樹脂と、下記構造部分（Ｉ）を有する重合性化合物〔構造部分（Ｉ）中、Ｘは、水素原子又はメチル基を表す。＊は、結合手を表す。〕と、光重合開始剤とを含む感光性樹脂組成物である。前記重合性化合物は、分子中に構造部分（Ｉ）を２つ又は３つ以上有することが好ましい。
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【課題】現像性に優れている感光性組成物、並びに該感光性組成物を用いたパターン膜の製造方法を提供する。
【解決手段】シロキサンポリマーを少なくとも含むアルカリ可溶性ポリマー１００重量部と、キノンジアジド化合物３〜１００重量部とを含有し、シロキサンポリマーの重量平均分子量が５００〜６００００の範囲内にある感光性組成物、並びに該感光性組成物を基板２上に塗工し、基板２上に感光性組成物層１を形成した後、感光性組成物層１を部分的に露光することにより、露光部１ａの感光性組成物層１を現像液に可溶にし、次に感光性組成物層１を現像液で現像することにより、露光部１ａの感光性組成物層１を除去し、未露光部の感光性組成物１からなるパターン膜１Ａを形成するパターン膜１Ａの製造方法。 （もっと読む）

【課題】微細なパターンを簡便かつ効率的に形成可能なパターン形成方法を提供する。
【解決手段】基板上に所定のパターンを形成するパターン形成方法であって、（１）上記所定のパターンの一部のパターンが形成された第一のレジストパターンを得る工程と、（２）第一のレジストパターンとこの第一のレジストパターンを被覆した第一の被覆層とを備える第一のエッチング用マスク層を形成する工程と、（３）基板をエッチング処理する工程と、（４）上記所定のパターンの残部のうち少なくとも一部のパターンが形成された第二のレジストパターンを得る工程と、（５）第二のレジストパターンとこの第二のレジストパターンを被覆した第二の被覆層とを備える第二のエッチング用マスク層を形成する工程と、（６）更にエッチング処理する工程と、を有し、（４）〜（６）工程を順に１回以上繰り返すことによって所定のパターンを得るパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】フラットディスプレイ等の絶縁膜材料として、ポジ型の感光特性を有し，透明性
、感光性、耐熱性が高く、かつ誘電率の低い材料を実現する。
【解決手段】
（ａ）成分：Ｒ１ＯＣＯＡＳｉＸ３（Ｒ１、Ａは有機基を示し、Ｘは加水分解性基）で表
せられるシロキサン樹脂、
（ｂ）成分：酸の作用により分解しうる官能基を有し，酸の作用によりアルカリ現像液に
対する溶解性が増大する溶解阻止化合物，
（ｃ）成分：光または電子線の照射により酸を発生する化合物である，酸発生剤，
（ｄ）成分：（ａ）成分を溶解可能である溶媒，
を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物であって、組成物中の（ａ）成分の配合割合が５
〜５０重量％であるシリカ系ポジ型感光性樹脂組成物を絶縁膜材料として用いる。 （もっと読む）