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国際特許分類[G05D7/01]の内容

物理学 (1,541,580) | 制御;調整 (21,505) | 非電気的変量の制御または調整系 (4,282) | 流量の制御 (382) | 補助動力のないもの (38)

国際特許分類[G05D7/01]に分類される特許

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【課題】流体の流量制御を簡単、かつ連続的に変動無く行う。
【解決手段】圧力流体の流路に連通した圧力室2にその圧力によりピストン作用するプランジャー6を設けて、プランジャーによりニードルバルブ状の弁体6を作動させる。プランジャーはコイルスプリング8の押圧力が圧力室の圧力、若しくは負圧と平衡する関係におかれ、弁の開度は調整ネジ9によって行う。
予め、調整ネジによる弁体の開度とそれに平衡する圧力との関係を確認しておき、流体入口3を導入すべき流体供給源、出口4を圧力流体の流路に接続して、調整ネジにより弁体の開度を設定する。
該流路の圧力とコイルスプリングの押圧力により開放された弁体から流体が供給されると、流路圧力が低下、若しくは上昇し、その圧力変化に応じて弁体の開度がコイルスプリングの押圧力に抗して調整されて連続的に平衡状態に至るまで、弁体の開度が制御される。 (もっと読む)


【課題】流量制御装置の二次側流体の圧力変動が発生した場合であっても流体流量の安定化を高精度で実現することができる流量制御装置及びその方法を提供する。
【解決手段】流体供給部11から所定の流体使用部15に対して流通する流体の供給ラインLに配される流量制御装置10であって、流体供給部側に配置される第1圧力制御弁部20と、第1圧力制御弁部と圧力損失部40を介して流体使用部側に配置される第2圧力制御弁部60とを含み、第1圧力制御弁部は、一次側流体の圧力変動に対して第1弁室22内に配置された第1弁部30が第1弁座25に対して進退して二次側流体を所定の圧力に維持する第1圧力制御機構C1を備えており、第2圧力制御弁部は、二次側流体の圧力変動に対して第2弁室62内に配置された第2弁部70が第2弁座65に対して進退して一次側流体を所定の圧力に維持する第2圧力制御機構C2を備えている。 (もっと読む)


【課題】 限られた占有スペース内で必要なコンダクタンスを精度よく求めて、所定のガス流量を安定よく、かつ、再現性よく設定することができるガス流量制御方法を提供する。
【解決手段】 ガス配管2の途中に設けられる流量制限部材8に、予め設定された径及び長さで、かつ、角部のない切り溝15を機械加工することによってコンダクタンスを所定の公式に基いて算出可能な単一の制限流路16を形成し、その単一制限流路16によるコンダクタンスCと圧力差(P1−P2)とにより、プロセスチャンバー1へ供給されるガス流量Qを設定する。
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【課題】特に半導体製造等に使用される流量調節弁に関し、ダイヤフラムの膜部の応力を小さくしてヒステリシスエラーを低減させることにより、弁部の開閉時における作動の再現性を実現し、制御の応答性や安定性を向上させることができる空圧式流量調節弁を提供する。
【解決手段】弁座25をシールする弁部35と第1開口側21に配された第1ダイヤフラム40と第2開口側22に配された第2ダイヤフラム50とを一体に有する弁機構体30が配置され、第1,第2ダイヤフラム40,50を加圧手段60,70によって弁室20方向に加圧して流量を制御するようにした弁において、第1,第2ダイヤフラム40,50の外周をサポートリング45,55によって挟持して、第1,第2ダイヤフラム40,50のダイヤフラム部の膜部最大径L1,L2と膜部最小径S1,S2を2分した位置での中間直径距離M1,M2をオリフィス径Oの約0.5〜2倍の範囲内とした。 (もっと読む)


【課題】大がかりな可動部や電気的な制御装置を不要とし、水位の変動にかかわらず常に略許容放流量の放流することができる調整池の放流量調整装置および調整池を提供する。
【解決手段】調整池1の放流量調整装置2は、調整池1の放流口15に設置されてオリフィスを形成する可動板21と、調整池1に貯留された雨水に浮かぶフロート29と、フロート29と可動板21とを直接または動力伝達機構を介して連結する天秤棒28および動力伝達棒26とを有している。また、前記動力伝達機構が、動力伝達棒26に連結された駆動側ピニオンおよび可動板21に設置された従動側ラック、若しくは、可動板21に当接する偏心カムである。さらに、放流口15が断面矩形で、可動板21の一方の辺が曲線であって、可動板21の並進もしくは回動に伴う放流口15の開口面積の変化率が、放流口15の開口面積が狭くなるほど小さくなる。 (もっと読む)


【課題】 ベースの締付け固定時に発生する応力を吸収緩和することでセンサに歪などの悪影響が及ばないようにして、本来の性能を安定よく確保でき、しかも、複数のセンサ等が設置される場合も低コストで十分な応力緩和機能を発揮できるようにする。
【解決手段】 内部に流体流路を有する本体ブロック1の外面1Aに、圧力センサ7を設置する中央取付部6aを有するセンサ取付用ベース(マスフローコントローラ用ベース)6をその長手方向の両端においてボルト11,11を介して金属ガスケット13を押圧変形させるように締付け固定してなるマスフローコントローラの取付構造であって、ベース6の長手方向両端の固定部位6b,6bより中央取付部6a側寄りの二箇所に、流体導入流路9と干渉しないように切り込み溝14,14を設けている。
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【課題】 絞り弁とバイパス逆止弁との二つの弁機能を一つの弁によって簡単な構造で発揮させることができる流量制御弁を提供する。
【解決手段】 Bポート5側のチャンバー3内の内周面上に設けられた突起6の下面に弁座面7が形成され、突起6の上端部にスピンドル軸受9が形成され、チャンバー3の底面に設けられたスピンドル台11にねじ孔12が形成され、スピンドル13の下部に形成したねじ部14がねじ孔12に螺合されるとともにスピンドル13の上端部がスピンドル軸受9で支承され、スピンドル13が弁盤15に形成されたオリフィス孔18に貫通した状態で、弁盤15がばね16によりスピンドル台11上に支承され、弁盤15に、弁座面7に対して当接離間自在な上面縁部17が形成され、スピンドル13のオリフィス孔18を貫通する部位はテーパー部20として形成され、スピンドル13の上下移動によりオリフィス孔18とテーパー部20との間隙19の大きさを変更可能にしている。 (もっと読む)


【課題】 高い制御性を維持しつつ、高いレンジアビリティで流量を制御することができる流量制御装置及び方法を提供する。
【解決手段】 この流量制御装置は、流体管路1,2,4,5と、該流体管路の途中に配置された平板状の弁支持基板3とを備えている。弁支持基板3には、複数の個別に操作可能な開閉弁11が設置されている。複数の開閉弁11の内から適宜に選択したものを開閉することにより、レンジアビリティの高い流量制御を行うことができる。 (もっと読む)


本体の中に、流入室と、流出室と、前記流入室と前記流出室の間に配置され、一方の側で前記流入室の圧力を受けるとともに他方の側で前記流出室の圧力を受けるピストンとを含み、前記ピストンは前記流入室に向って変位した第1の位置および前記流出室に向って変位した第2の位置の間で可動であり、前記ピストンは前記第1の位置では前記流入室と前記流出室の間で流れを狭め、前記ピストンは前記第2の位置では前記流入室と前記流出室の間で流れを狭めず、さらに、前記ピストンを前記第1の位置に向って付勢する復帰ばねを含んでいる、流れの動的制御をする装置。本発明によれば、前記ピストンには前記流入室から前記流出室へ向って延びる貫通部が貫通しており、前記貫通部を貫流する流れを制限するための流量制限手段が設けられており、前記復帰ばねは、前記流量制限手段により許容される最大の流れが排出されるときに前記ピストンを前記第1の位置から前記第2の位置へ変位させようとする力に、その作用が実質的に一致するように設定されている。前記ピストンは、第1の端部では前記流入室の中に、また第2の端部では前記装置の本体に固定されたシリンダの中に、スライド可能なように取り付けられており、前記流出室と連通するとともに、前記流出室に対してアライメントされているのが好ましく、前記流量制御手段は定置のシリンダの中に取り付けられるのが好ましい。
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【課題】ガス中に望ましくない成分が存在することを知らせるための手段を備えている減圧装置を提供する。
【解決手段】ガスボンベ、コンプレッサ又はガス発生装置のようなガス源1に接続するための入口側接続部と、別のガス管路系に接続するための出口側接続部とを備える減圧装置2が高圧チャンバと低圧チャンバとを備え、使用中に低圧チャンバ内のガス圧が高圧チャンバ内の圧力より低くなるようにこれらの高圧チャンバと低圧チャンバは減圧弁で相互に連結されており、減圧装置は交換可能な表示器用の接続部を備え、この接続部はガス源から来るガスが表示器を通って流れる。 (もっと読む)


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