説明

国際特許分類[G11B5/855]の内容

国際特許分類[G11B5/855]に分類される特許

31 - 40 / 388


【課題】 優れたパターンを有した磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】 磁気記録層上に凹凸パターンを有するマスクを形成し、前記マスクの凹部に対応する前記磁気記録層の領域の磁性を失活することを含むパターンド媒体の製造方法であって、前記磁気記録層の上部に設けた注入深度調節層を介したイオンビームの照射によって、前記磁気記録層の磁性を失活することを含み、磁性の失活の進行に伴って、前記注入深度調節層の膜厚が減少し、イオンビーム侵入深さが深くなるパターンド媒体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】充分な離型性を有し、元型モールド上のパターンへの被転写物の充填を良好に行い、精度良くパターンを転写させる。
【解決手段】インプリントにより所定の凹凸パターンを被転写物に転写するためのモールドに設けられる離型層において、前記モールドにおける前記凹凸パターンの凹部に前記離型層越しで前記被転写物を充填するため、エネルギーによる処理によって前記離型層の表面自由エネルギーを変動させることによる表面自由エネルギーの最適化がなされている。但し、前記エネルギーによる処理とは、熱エネルギー及び/又は光エネルギーによる処理のことである。 (もっと読む)


【課題】高記録密度の磁気記録媒体の製造において、耐久性および磁気転写性能の向上した磁気転写用マスター基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】当該磁気転写用マスター基板は、表面に信号配列に対応した凹部を有する非磁性基体と、前記凹部内に埋め込まれ、前記非磁性基体の表面より一部が突出している強磁性体と、前記非磁性基体表面および前記強磁性体の少なくとも一部を覆う非磁性保護膜とを含み、前記強磁性体の非磁性基体表面より突出した部分の基板に垂直に切断した際の断面における角部における曲率半径が1nm以上10nm以下であり、前記強磁性体の非磁性基体表面より突出した部分の高さが2nm以上であり、前記非磁性保護膜表面から前記強磁性体頂部までの高さが前記曲率半径よりも小さい。 (もっと読む)


【課題】剥離性、耐久性に優れたスタンパーを提供する。
【解決手段】基板、触媒活性をもつ導電性下地層、及び触媒活性をもたない凸状パターンが順に形成され、かつ触媒活性を有する導電性下地層が露出した領域を有する原盤を用い、凸部パターン間及び導電性下地層が露出した領域に無電解めっきにより非晶質導電層を堆積させてスタンパー凸部を形成し、非晶質導電層及び導電性下地層を電極として凸状パターン及び非晶質導電層からなるスタンパー凸部上に電気めっきを行い、結晶性金属からなるスタンパー本体を形成し、及び原盤からスタンパー凸部及びスタンパー本体からなるスタンパーを剥離するスタンパーの形成方法。 (もっと読む)


【課題】本発明は、正確なドットパターンを有したインプリントモールドの製造方法、およびそれを利用した、正確なドットパターンを有した磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に、第1の壁面および第2の壁面を有するガイドであって、少なくとも一方の前記壁面と前記基板の露出した表面とによって規定される角度が131°以下であるガイドを複数形成し、前記第1の壁面、前記第2の壁面および前記基板表面によって規定されるガイド溝領域に、スフェアを形成して相分離する自己組織化材料を塗布し、前記自己組織化材料を自己組織化させてドットパターンを形成し、前記ドットパターンをマスクとして、前記基板をエッチングして前記ドットパターンを転写し、前記ドットパターンが転写された前記基板を型としてインプリントモールドを形成することを特徴とするインプリントモールドの製造方法。 (もっと読む)


【課題】自己組織化リソグラフィーにより作成されるサーボ信号領域のドット配列の乱れを抑制し、サーボ信号の品質低下を防止した磁気記録媒体を得る。
【解決手段】自己組織化によりパターン形成された複数の磁気ドットを含む磁気記録媒体において、そのバースト部は、幅方向の中央部の磁気ドットの密度よりも、その周縁部の磁気ドットの密度の方が高い。 (もっと読む)


【課題】本発明は、非磁性部を構成する樹脂の選択の幅を広げることが可能であり、かつ磁気記録媒体の表面を平滑な面にすることのできる磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録再生装置を提供することを課題とする。
【解決手段】非磁性基板の表面に磁性層を形成し、次いで、磁性層のうち、非磁性部の形成領域に対応する部分をエッチングすることで、非磁性部が形成される溝と、磁性層よりなる磁気記録部とを形成し、次いで、磁気記録部の表面に、溝を埋め込むように活性エネルギー線硬化性官能基を有した樹脂を塗布し、次いで、板材の平滑な面が樹脂の表面と接触するように、板材を樹脂に押圧して、樹脂の表面を平滑な面にし、次いで、板材を樹脂から除去し、その後、平滑な表面を有した樹脂のうち、磁気記録部の表面よりも上方に位置する部分をエッチングにより除去することで、溝に非磁性部を形成する。 (もっと読む)


【課題】アライメントマークが形成された台座付き基板を作製するにあたって、アライメントマークと台座の相対的な位置ずれを低減し、パターン精度を向上させる。
【解決手段】本発明は、第1の主面側に凸状の台座が設けられ、かつ、台座の上面にアライメントマークが形成された基板を作製する方法であって、基板1の第1の主面上に光反射率が高いハードマスク層を形成した後、それを台座の外径とアライメントマークの形状にあわせてエッチングしハードマスク2aを形成する工程と、ハードマスク2aを覆うように基板1上にネガ型のレジスト層6を形成する工程と、ハードマスク2aによる光の反射を利用してレジスト層6を露光することにより、ハードマスク2aの直上に位置するレジスト層6を不溶化する工程と、そのレジスト層6を現像してレジストパターン6aを形成した後、それをマスクに用いて基板1をエッチングすることで台座を形成する工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】エッチングを利用してパターン形成を行う場合に、形成すべき微細パターンの狭ピッチ化が進展しても、当該パターン形成を高精度に行えるようにする。
【解決手段】基板2上にハードマスク層3を有するマスクブランクス1において、前記ハードマスク層1は、前記基板2の側から第一層5と第二層6とが配される積層構造を有する。前記第一層5は、前記基板2に対してエッチングを行う際にマスクとなる層である。前記第二層6は、前記第一層5に対してエッチングを行う際にマスクとなるとともに、前記ハードマスク層3上に形成されるレジストパターン4をマスクにしてエッチングが行われる層である。そして、前記第一層5に対するエッチングの間は前記第二層6が当該第一層5のマスクとして機能するエッチング選択比を有した材料によって、当該第二層6を形成する。 (もっと読む)


【課題】 描画手段の描画位置と基板との相対位置に基づいて、高精度なパターン描画を実現する技術を提供することを目的とする。
【解決手段】 ベースプレート24の主走査方向の位置情報を検出するための移動位置検出手段70と、主走査方向に移動するベースプレート24が所定の位置を通過したことを検出するための通過検出手段40が配設されている。通過検出手段40で検出される通過位置情報と、通過検出手段40でベースプレート24が特定の位置を通過したことが検出された時に移動位置検出手段70で検出される測定位置情報とから、移動位置検出手段70の検出に係る位置情報の遅れを補正するための補正量を算出し、補正量と測定位置情報とからベースプレート24の修正位置情報を算出し、修正位置情報に基づいて描画手段30の描画タイミングの動作を制御し、高精度にパターンを描画することができる。 (もっと読む)


31 - 40 / 388