【課題】優れた電磁変換特性が得られる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基板１の少なくとも一方の面上に磁性層２を形成する工程と、磁性層２の面上を覆うマスク層３を形成する工程と、マスク層３の上にレジスト層４を形成する工程と、レジスト層４の表面を磁気記録パターンに対応した形状にパターニングする工程と、パターニングされたレジスト層４を用いてマスク層３をパターニングする工程と、パターニングされたマスク層３を用いて磁性層２を部分的に除去する工程と、マスク層３をレジスト層４と共に磁性層２上から除去する工程とを含み、マスク層３及びレジスト層４をドライエッチングにより除去する際に、実質的に酸素、窒素、ハロゲンを含まない還元性のガスを用いる。 （もっと読む）

【課題】レジスト層の下に導電化層を形成してレジスト層にパターンを描画する際の電子線の散乱を低減することにより、パターンの高さ不良やパターン幅のばらつきを低減し、以ってより微細なパターン形状を精度よく形成可能なスタンパの製造方法を提供する。
【解決手段】シリコンへのドーパントのドープ又はポリシリコンの成膜により基板上に導電化層を形成する導電化層形成工程と、前記導電化層上にレジスト層を形成して電子線により描画し、前記導電化層の表面が凹部に露出するレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、前記導電化層を電流シード層として電鋳により前記レジストパターン上に金属めっき層を形成する電鋳工程とを備え、前記基板、導電化層及びレジストパターンを除去して前記金属めっき層をスタンパとする。 （もっと読む）

【課題】鮮明な磁気記録パターンを有する磁性層の平滑化プロセスを高速で行うことを可能とした磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の磁気記録媒体の製造方法は、非磁性基板の上に磁性層を形成する工程と、前記磁性層を部分的に除去し、その面上にＳｉＯ_２からなる非磁性層を形成する工程と、前記磁性層が表出するまで前記非磁性層に研磨加工を施す工程と、を含み、前記研磨加工は、前記非磁性基板を回転させながら、前記非磁性層の表面にセリアスラリーを供給し、走行する研磨テープを前記非磁性層の表面に押し付けることにより行い、前記セリアスラリーは、一次粒子の平均一次粒子径が０．０１μｍ〜１μｍの範囲内であり、平均二次粒子径が０．０５μｍ〜５μｍの範囲内である酸化セリウム粒子を含み、かつ、分散液として水系分散剤または水を用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】鮮明な磁気記録パターンを有する磁性層の平滑化プロセスを適切に且つ高速で行うことを可能とした磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】磁性層２の加工された面上を覆う非磁性層４の表面を磁性層２が表出するまで研磨する際に、磁性層２のうち最上層を構成する磁性粒子を、Ｃｒの含有量が５〜２４原子％のＣｏＣｒ系合金で形成し、非磁性層４を、Ｃｒの含有量が１５〜８０原子％のＣｏＣｒ系合金で形成することによって、磁性層２の表面に対して非磁性層４の表面が盛り上がったり、逆に凹んだりすることを防止し、これらの表面を連続的に平坦化することができる。 （もっと読む）

【課題】サーボエリアおよびデータエリアの微細パターンの描画が基板全面で所定形状に高精度かつ短時間に実行でき、一定ドーズ量で高速かつ正確に描画可能とする。
【解決手段】レジストが塗布された基板上に、電子ビームＥＢの照射をブランキング手段２４に対するオン・オフ信号によって制御し、ビーム偏向動作を偏向手段２２に対する偏向信号の出力によって制御し、サーボエレメント１３およびグルーブパターン１６またはドットパターンを走査して描画する際に、パターン形状を描画するためのパターン形状偏向信号に加えて、ビームスポットの周方向の相対線速度を調整する相対線速度偏向信号を偏向手段に出力し、サーボエリアでの相対線速度＞基板線速度＞データエリアでの相対線速度に設定して描画する。 （もっと読む）

【課題】表面平滑度が高くヘッド浮上特性に優れた有用な磁気記録媒体を高い生産性で製造することを可能とした磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基板１上に磁性層３を形成した後、磁性層３に部分的にイオンを注入することによって、この磁性層３のイオンを注入した箇所の磁気特性を改質して磁気的に分離された磁気記録パターン３ａを形成する磁気記録媒体３０の製造方法であって、磁性層３に部分的にイオンを注入する際に、磁性層３の表面に炭素膜を形成し、炭素膜の厚みをパターニングにより部分的に薄くした後、この炭素膜を薄くした箇所を通して磁性層３に部分的にイオンを注入する。 （もっと読む）

【課題】鮮明な磁気記録パターンを有する磁性層の平滑化プロセスを高速で行うことを可能とした磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の磁気記録媒体の製造方法は、非磁性基板１の上に磁性層２を形成する工程と、前記磁性層２の上にカーボンマスク層２０を形成する工程と、前記カーボンマスク層２０の上にレジスト剥離層２１を形成する工程と、前記レジスト剥離層２１の上に、前記磁気記録パターンに対応した形状にパターニングされたレジスト層３を形成する工程と、前記レジスト層３をマスクにして前記レジスト剥離層２１、前記カーボンマスク層２０、前記磁性層２を部分的に除去する工程と、前記磁性層２が除去された面上を覆い、少なくとも前記レジスト剥離層２１の一部を埋設する非磁性層４を形成する工程と、前記磁性層２が露出するまで前記非磁性層４に研磨加工を施す工程と、を具備してなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】アルミナナノホールを用いたパターン媒体において、バラツキを抑えた磁性ドットを形成するための製造装置ならびに製造方法を提供すること。
【解決手段】アルミナナノホールを形成する陽極酸化処理工程で磁気ディスク媒体の基板の外周に接続する複数の基板電極を用い、基板の中心を角の頂点とし、基板電極の外周方向端部と前記基板の中心とを結ぶ線を角の辺とし、隣接する基板電極の対向する２辺がなす角度をいずれも１８０度未満とすることを特徴とする。
基板電極が半円形状をした２電極からなることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】少ない熱量で基材に磁気記録層を埋め込むことのできる磁気記録媒体の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】コア基材とコア基材の表裏に外装基材を備え、コア基材と外装基材を貼り合せる工程、少なくとも一方の外装基材に磁気記録層を埋設する工程、を有する磁気記録媒体の製造方法において、外装基材のうち、少なくとも一方の外装材が多孔質基材からなり、外装基材に磁気記録層を埋設する工程が、磁気記録層を加圧または加熱加圧により該多孔質基材に埋設することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法とする。 （もっと読む）

【課題】電鋳による複製時にパターン形成不良を生じ難い電鋳用原盤を得る。
【解決手段】Ｓｉ基板の凹凸パターン表面に不純物イオンがドープされ、Ｓｉ基板の膜厚方向の不純物イオン濃度の分布は、凹凸パターン表面から膜厚方向の深さ４０ｎｍまでの間にピークを有し、ピークの不純物濃度は１×１０^２０個／ｃｍ^３ないし２×１０^２１個／ｃｍ^３である電鋳用原盤。 （もっと読む）