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国際特許分類[G11B5/855]の内容

国際特許分類[G11B5/855]に分類される特許

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【課題】良好なパターン転写が可能な紫外線硬化性樹脂材料を用いて磁気記録媒体を得る。
【解決手段】2−メチルー2ーアダマンチルアクリレート、2-エチルー2-アダマンチルアクリレート、及び1,3−アダマンタンジメタノールジアクリレートのうち少なくとも1種、イソボルニルアクリレート、多官能アクリレート、及び重合開始剤を含有するか、または上記アクリレートの少なくとも1つ、重合開始剤、及びフッ素系アルコールを含有するパターン転写用紫外線硬化性樹脂材料を用いた磁気記録媒体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】従来の連続媒体から区別したパターニングされた媒体を識別するパターン転写ステップを統合した複数の基板の処理装置などの技術を提供すること。
【解決手段】ハードディスクドライブに用いるためのハードディスク上に磁気記録層をパターニングするためのインライン処理システム。ディスクは、MDCと呼ばれるラウンドプレート形状ホルダ(plate−like holder)の垂直方向に同時に両側に処理される。複数(10個程)のディスクは、MDCのダイヤルキャリアでホールディングされ、1つの処理ステーションから他の処理ステーションに移動する。MDCのダイヤルキャリアは、1つまたは複数の処理源がディスクを同時に処理できるように各処理ステーションで、正常から70°までの回転及び/または角度を提供する。このような構成は、時間節約及び要求される処理源の数と大きさの減少を提供する。磁気媒体のパターニングのためのマスク改善処理、及び充填と平坦化処理は共に用いられ、また開示される。 (もっと読む)


【課題】パターンサイズの異なる各種凹凸パターンをそれぞれのパターンの描画位置精度を確保して正確に描画可能とする。
【解決手段】DTMまたはBPMの記録メディアに形成する微細パターンを、レジスト11が塗布されたモールドの原盤10に、電子ビーム描画装置により電子ビームEBを走査して描画する際に、前記微細パターンにおける、メディア用サーボパターン12およびデータトラック間のグルーブパターン15による第1の凹凸パターン、円周に沿って環状にパターン形成された円環状位置決めマーク17およびトレサビリティー用製品識別マーク19による第2の凹凸パターン、転写時のポイント状位置決めマーク18による第3の凹凸パターンのうち少なくとも2種を、同一真空チャンバー43内で1枚の原盤に連続して電子ビーム描画する。 (もっと読む)


【課題】磁気記録媒体の記録面に形成されるレジストにインプリント法によりパターン転写する際に使用されるワーク用スタンパを繰り返し使用してもパターン欠陥の増加を抑制し、磁気記録媒体の製造コストを低減すること。
【解決手段】凸型の親ニッケルスタンパからの反転パターンで作製される複製元の凹型のニッケルスタンパ1の表面に酸化膜2を形成する工程と、該酸化膜上にカーボン膜3を堆積する工程と、該カーボン膜上にニッケル薄膜4を成膜する工程と、該ニッケル薄膜4上にニッケル電鋳層を形成して凸型の複製ニッケルスタンパ5を形成する電鋳工程と、該電鋳工程後に、前記酸化膜2と前記カーボン膜3の間を分離して前記複製元の凹型のニッケルスタンパ1から、前記カーボン膜と前記ニッケル薄膜とが被着された前記凸型の複製ニッケルスタンパ5を剥離する工程とを含む磁気記録媒体用ニッケルスタンパの製造方法とする (もっと読む)


【課題】高価なモールドもしくはテンプレートを容易に複製することができ、その複製物をレプリカモールドとして安価で量産性に優れた光ナノインプリントに適用することが可能な光硬化性転写シートを提供する。
【解決手段】官能基当量が300〜10000g/molの熱硬化性の官能基を分子内に2つ以上有する変性ポリジメチルシロキサン(A)、光重合性化合物(B)及び熱硬化剤(C)を含有する光硬化性樹脂組成物が熱硬化された層を有することを特徴とする光硬化性転写シート。光硬化性樹脂組成物層は熱硬化性の官能基が水酸基の場合には分子内に2つ以上のイソシアネート基を有するイソシアネート化合物(C1)を含有し、熱硬化性の官能基がエポキシ基の場合には酸無水物(C2)を含有し、好ましくは、更に熱硬化反応促進剤(D)及び/または光重合開始剤(E)を含む。 (もっと読む)


【課題】より小径かつ小ピッチのナノパターンを形成することができるナノ金型の製造方法の提供。
【解決手段】ナノインプリント法に用いられるナノ金型の製造方法であって、Al基板20上に非晶質炭素材料のDLCから成る被エッチング層21を形成する第1の工程と、集束イオンビーム援用化学気相成長により、被エッチング層21上に薄膜パターン22を形成する第2の工程と、薄膜パターン22をマスクとして、酸素ガスを用いたドライエッチングにより被エッチング層21をエッチングし、複数のナノ凸パターン200が形成された成型転写面を形成する第3の工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】鮮明な磁気記録パターンを有する磁性層の平滑化プロセスを高速で行うことを可能とした磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】研磨加工は、非磁性基板1を回転させながら、非磁性基板1の表面にダイヤモンドスラリーSを供給し、走行する研磨テープ105を非磁性基板1の表面に押し付けることにより行い、ダイヤモンドスラリーSは、単結晶のダイヤモンド粒子と研磨助剤とを含み、ダイヤモンド粒子は、その1次粒子径が1〜10nmの範囲、その2次粒子径が50〜100nmの範囲にあり、研磨助剤は、スルホン酸基又はカルボン酸基を有する有機重合物を含む。 (もっと読む)


【課題】鮮明な磁気記録パターンを有する磁気記録媒体を簡便なプロセスで製造することを可能とした磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基板1の上に磁性層2を形成する工程と、磁性層2の面上を覆うマスク層3を形成する工程と、マスク層3の上にレジスト層を形成する工程と、スタンプ5を用いてレジスト層をパターニングする工程と、レジスト層を用いてマスク層3をパターニングする工程と、磁性層2のマスク層3で覆われていない箇所を部分的に除去することにより凹部6を形成する工程と、凹部6が形成された面上を覆う非磁性層7を形成する工程Gと、マスク層3が表出するまで非磁性層7の表面を平坦化する工程Hと、表出されたマスク層3を除去する工程Iと、非磁性層7の突起部分7aを除去する工程Jと、突起部分7aが除去された面上を覆う保護層8を形成する工程Kとを含む。 (もっと読む)


【課題】薄膜化してもコロージョン耐性、機械的耐久性、潤滑層との密着性、ヘッドの浮上安定性に優れた保護層を備えた磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に少なくとも磁性層と炭素系保護層と潤滑層が順次設けられた磁気記録媒体の製造方法であって、前記炭素系保護層は、前記磁性層側に形成される下層と、前記潤滑層側に形成される上層とを備え、炭化水素系ガスを用いて化学気相成長(CVD)法で前記下層を形成し、次いで、炭化水素系ガスと窒素ガスの混合ガスを用いて前記上層を形成した後、該上層の表面を窒素化する処理を施す。 (もっと読む)


【課題】ICカード等を製造する際に発生する磁気ストライプカスは、薄くて軽く静電気に吸着されやすく、粘着ローラーや粘着テープでは完全には除去できない。磁気ストライプカスを効率的効果的に除去する技術を提供する。
【解決手段】ロール供給されたウエブ状シートに対し、少なくとも磁気ストライプベースフィルムから磁気ストライプを転写する工程と、前記ウエブ状シートを断裁する工程と、を有する磁気記録媒体の製造方法において、前記磁気ストライプから生じる磁気ストライプカスを、磁石を利用して吸着除去する工程と、磁気記録媒体とした後に強磁界にて磁気ストライプを初期化する工程とを有することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法である。 (もっと読む)


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