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国際特許分類[G11B5/855]の内容

国際特許分類[G11B5/855]に分類される特許

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【課題】高S/Nを有するビットパターンドメディアを製造でき、パターン欠陥の発生を抑制でき、製造を比較的短時間で行えるインプリントモールド及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ビットパターンドメディアにおいて磁性体領域の元となるドット状の凸部が基板の主表面に形成されており、前記ドット状の凸部が前記基板の主表面において所定の方向に一定周期で形成されているインプリントモールドにおいて、前記ドット状の凸部は、前記基板の主表面を削って形成された、複数の連続的な平面視ライン状の溝が交わってなる格子状の溝部に囲まれることによって形成され、前記一定周期において、前記ライン状の溝の幅は、前記ドット状の凸部の幅よりも小さい。 (もっと読む)


【課題】ブロック共重合体自己組織化方法、パターン化基板およびパターン化テンプレートを提供する。
【解決手段】リソグラフィを行ない、基板上に第1のパターンを形成する工程と、ブロック共重合体自己組織化を行ない、基板上に第2のパターンを形成する工程とを含む方法、パターン化基板テンプレート、およびリソグラフィ技術と自己組織化技術との組合せを含む方法が提供される。パターン化基板は、第1および第2のパターンを含んでもよい。 (もっと読む)


【課題】ディスクリート型の磁気記録媒体の製造に用いられる原盤を作製する場合に、レジストパターンの倒れ等の発生を抑制する。
【解決手段】本発明は、同心円状をなす複数のトラックが溝によって分離された磁気記録媒体の製造に用いられる元型の原盤を作製する方法であり、原盤のベースになる円盤状の基板上に複数のレジストパターン32Tを形成する工程を有する。かかる工程は、基板上にレジスト膜を形成する成膜工程と、レジスト膜を露光することにより、レジスト膜の一部を可溶部とし他部を不溶部とする露光工程と、露光後のレジスト膜を現像する現像工程とを有する。露光工程においては、基板半径方向Xで隣り合うレジストパターン32T間にこれと一体構造で架橋部34が残存するように、レジスト膜を露光し、現像工程においては、レジストパターン32Tを架橋部34で支持することで倒れ等を抑制する。 (もっと読む)


【課題】検出器の分解能に起因するエラーの発生を抑制する。
【解決手段】データ部とサーボ部とが基板上に形成され、磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤において、データパターンは以下の条件(1)及び(2)を満たすようにデータ部内に配置されている。(1)各々のトラックのサーボ部からデータ部に向かう方向において、データパターンの検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンから、サーボ部に最も近いデータパターンまでの距離が、検出器における分解能の自然数倍である。(2)各々のトラック内において、データ部内のデータパターンから、該データパターンと隣接して形成された別のデータパターンまでの距離が、検出器における分解能の自然数倍である。 (もっと読む)


【課題】 両面インプリント装置において、下面側スタンパ装置の下側スタンパ上に位置決めされて載置された未硬化レジスト塗布ディスクが下面側スタンパ装置の移動の際に位置ズレを起こさないための方法を提供する
【解決手段】 前記方法は、(a)未硬化レジストが両面に塗布されているディスクを、前記下面側スタンパ装置に実装された、微細転写パターンを有する下側スタンパの上面に位置決めして載置するステップと、(b)前記下側スタンパと前記ディスク下面側との界面に存在する前記レジストのうち、前記スタンパの微細転写パターンにかからない部分の少なくとも一部分にUV光を照射するステップと、(c)前記UV光照射部分のレジストを硬化させて前記ディスクを前記下側スタンパの上面に部分的に仮固着させるステップとからなる。 (もっと読む)


【課題】 磁気記録層が所定のパターンに加工された磁気記録媒体において、良好な記録再生特性を得る。
【解決手段】 磁気記録層が、面内方向に規則的に配列された、コバルト及びプラチナを含む記録部と、記録部間に設けられ、イットリウム、ランタン、及びセリウムからなる群から選択される少なくとも一種の軽希土類金属及びホウ素を含有する非記録部とを含む。 (もっと読む)


【課題】インプリント装置のマスクと基板との間隙に、短時間で、マスク付近のガスを減少させる性質を有する気体を満たすことできるようにする。
【解決手段】基板上に樹脂を塗布する工程と、前記樹脂が塗布された基板を基板ステージによって、マスク直下のパターンのショット位置に移動させる工程と、前記樹脂を塗布した位置から前記ショット位置までの移動経路上で前記基板上に、少なくとも、前記樹脂に対して高可溶性または高拡散性のいずれか一方の性質を有する気体を供給する工程とを有し、前記樹脂が塗布された基板のショット領域が前記気体の供給位置を通過する前から前記気体の供給を開始するインプリント方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】サーボ領域を半径によらず一定の角度のパターンで形成することを可能にするとともに、データ領域を半径によらず一定の間隔のパターンで形成することを可能にする。
【解決手段】基板を回転させる回転機構と、移動機構と、電子銃と、電子線をブランキング制御信号に基づいてブランキングもしくは偏向制御信号に基づいて偏向、またはブランキング制御信号および偏向制御信号に基づいてブランキングおよび偏向させる偏向器と、ステージにおける描画半径位置に応じて変化する周期を有する第1基準クロック信号を発生する第1クロック信号発生回路と、第1基準クロック信号と独立な周期を有する第2基準クロック信号を発生する第2クロック信号発生回路と、第1基準クロック信号および第2基準クロック信号に基づいて、ブランキング制御信号および偏向制御信号のうちの少なくとも一方の制御信号を発生する制御信号発生回路と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】自己組織化材料を用いて製造されるパターンの高精度化を図ったパターンの形成方法,およびインプリント用モールドの製造方法を提供する。
【解決手段】実施形態のパターンの形成方法では,基板上に,第1の層,感光層を順に形成し,前記感光層の第1,第2の領域それぞれを第1,第2の露光量で露光し,第1の溶媒によって,第1の領域を溶解し,露出した第1の層をエッチングし,第2の溶媒によって,感光層の未露光の第3の領域を溶解し,自己組織化材料を第3の開口内に形成する。 (もっと読む)


【課題】 優れたパターンを有した磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】 磁気記録層上に凹凸パターンを有するマスクを形成し、前記マスクの凹部に対応する前記磁気記録層の領域の磁性を失活することを含むパターンド媒体の製造方法であって、前記磁気記録層の上部に設けた注入深度調節層を介したイオンビームの照射によって、前記磁気記録層の磁性を失活することを含み、磁性の失活の進行に伴って、前記注入深度調節層の膜厚が減少し、イオンビーム侵入深さが深くなるパターンド媒体の製造方法。 (もっと読む)


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