【課題】記録層と接する界面層に結晶化能を促進する材料を提供し、高線速度での書換えと高信号信頼性を両立した情報記録媒体を提供する。
【解決手段】酸化物Ｄ１（但し、Ｄ１はＺｒ、Ｈｆ、Ｙ、Ｉｎ、Ａｌ、Ｔｉ、ＣｒおよびＳｉより選ばれる少なくとも一つの元素を有する酸化物）および酸化物Ｄ２（但し、Ｄ２はＳｂ、Ｓｎ、ＴｅおよびＢｉより選ばれる少なくとも一つの元素を有する酸化物）を含む酸化物誘電体層を第２界面層１４および第１界面層１６として備えることを特徴とする情報記録媒体。 （もっと読む）

光記憶媒体が、基板層（２）と、データ層（３）と、データ層（３）上に配置された超解像構造を持つ非線形層（４）とを含み、データを読み取るためのピックアップの回折限界を超えるサイズを有するピットおよびランドがデータ層の第１のレベル（Ｌ１）および第２のレベル（Ｌ２）を確立し、ピックアップの回折限界未満のサイズを有するピットおよびランドがデータ層（３）のさらに別のレベル（Ｌ３、Ｌ４）に配置される。好ましい実施形態では、回折限界未満のサイズを有するピットは第３のレベル（Ｌ３）に配置され、回折限界未満のサイズを有するランドはデータ層の第４のレベル（Ｌ４）に配置される。光記憶媒体は、特に、超解像効果を与えるための相変化材料、例えばＡｇＩｎＳｂＴｅを含む読出し専用光ディスクである。
（もっと読む）

【課題】高温高湿環境下での耐久性に優れた光情報記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】金属系記録層と、金属系記録層に隣接する誘電体層とを基板の上に有する光情報記録媒体をスパッタリング法により製造する方法であって、
Ｉｎ基合金からなる記録層を用意する工程と、
誘電体層の組成に応じて下記条件で誘電体層を成膜する工程、を包含する。
（１）誘電体層がＡｌの酸化物を主成分として含むときは、スパッタ電力：３Ｗ／ｃｍ^２以下、誘電体層の厚さ：５〜７０ｎｍに制御。
（２）誘電体層がＳｉの酸化物を主成分として含むときは、スパッタ電力：３Ｗ／ｃｍ^２以下、誘電体層の厚さ：４〜８ｎｍまたは３０〜７０ｎｍに制御。
（３）誘電体層がＮｂの酸化物を主成分として含むときは、スパッタ電力：２Ｗ／ｃｍ^２以上、誘電体層の厚さ：１０〜１５ｎｍに制御。
（４）誘電体層がＺｎの硫化物を主成分とし、Ｓｉの酸化物を更に含むときは、スパッタ電力：３Ｗ／ｃｍ^２以下、誘電体層の厚さ：２〜１５ｎｍに制御。 （もっと読む）

【課題】ターゲット割れの発生を抑制することができるスパッタリングターゲットを提供することを課題とする。
【解決手段】金属間化合物域の鋳塊を粉砕して得たＩｎを主成分とする主粉末と、前記主粉末とは異なる成分組成の副粉末を混合、焼結して所定の成分組成となるようにして製造されるスパッタリングターゲットであり、その含有成分中の不可避的不純物であるＳｉ、Ａｌ、Ｆｅの合計含有量が、３００質量ｐｐｍ以下であることを特徴とする。また、金属間化合物はＩｎと、ＣｏとＮｉから選ばれる１種以上を含む。 （もっと読む）

【課題】平滑性が良く、欠陥の少ない高品質な転写フィルム基板を形成する。
【解決手段】中心孔を有し表面に機能形状を有する型を回転板に載置する工程と、前記回転板に載置した型上に液状の硬化性樹脂を円環状に塗工する工程と、前記塗工した硬化性樹脂上にフィルム基板を載置・接液する工程と、前記フィルム基板を載置・接液する工程の後、前記回転板を回転させて、前記硬化性樹脂を前記型の上面及び前記フィルム基板の下面全体に広げる工程と、前記回転により広がった前記硬化性樹脂を、前記フィルム基板を介して化学的なエネルギーを供給して硬化させる工程と、前記硬化性樹脂を硬化させる工程により得られる転写層と前記フィルム基板を前記型から剥離する工程とを含む転写基板製造方法において、前記回転板を回転させる工程の前に、前記フィルム基板の表面全体を覆う部材を前記フィルム基板上に配置する工程を有する。 （もっと読む）

【課題】信号品質が十分に高い上に、更に良好な記録特性を得ることができる光情報記録媒体用記録層、および光情報記録媒体、ならびに光情報記録媒体の記録層形成用スパッタリングターゲットを提供することを課題とする。
【解決手段】レーザー光の照射によって記録マークが形成される記録層であって、その記録層は、Ｃｏ、Ｎｉから選ばれる１種類以上の元素を２０〜５０原子％含有し、更にＮｂを５〜２０原子％、またはＬａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｙｂから選ばれる１種類以上の元素を１〜１０原子％含有するＩｎ合金からなる。 （もっと読む）

【課題】クロスイレーズを伴うことなく高速記録消去する。
【解決手段】光照射によって情報を記録層に記録・再生・消去する相変化材料を用いた情報記録媒体において、光照射によって前記記録層に形成されたアモルファス記録マーク周辺の再結晶化幅WRと記録マーク幅WA及びトラックピッチTPが1.0<WR/WA<1.1且つ2/3<WA/TP<4/3を満たす。 （もっと読む）

【課題】 情報記録時に再結晶化リングが発生しにくく、かつ良好な高速記録消去が可能な情報記録媒体を得る。
【解決手段】 基板と、基板上に形成された相変化記録層と、相変化記録層上に形成された反射層とを有する情報記録媒体であって、相変化記録層は、テルルとアンチモン、またはテルルとビスマスを主成分として含有し、その結晶化速度が２ないし１０ナノ秒であり、２００ピコ秒ないし１ナノ秒の半値幅を有する光パルスの照射により、その結晶状態を変化させて記録マークを形成する。 （もっと読む）

【課題】３層以上の情報記録層を持つ多層光記録媒体においても、情報記録層の膜厚や材料、スペーサー層の厚みムラ等の影響を明確に判断・評価することが可能にする。
【解決手段】３層以上の情報記録層を持つ多層光記録媒体に対してレーザー光を照射し、レーザー光の反射光から得られる第１信号を周波数フィルタに通し、ハイパスフィルタを経て得られる第２信号を用いて多層光記録媒体の特性を評価する。 （もっと読む）

【課題】追記可能な複数の情報記録層を備えた多層光記録媒体のコスト低減が図れる製造方法とそれにより製造されるコスト安価で信号品質に優れた多層光記録媒を提供する。
【解決手段】情報記録層が形成された基板と、案内溝が形成されたスタンパとの間に、紫外線の照射波長域に吸収係数を持つ光重合開始剤を含有する紫外線硬化樹脂を塗布・充填する工程と、該樹脂を基板側から紫外線を入射させて硬化させる工程と、該硬化された樹脂からスタンパを離型して中間層を形成する工程と、該中間層上に別の情報記録層を積層する工程と、該別の情報記録層上にカバー層を積層する工程とを含む製造方法により、基板上に追記可能な複数の情報記録層を備え、該基板と対向配設されるカバー層側からの光照射によって記録および／または再生を行う多層光記録媒体を作製する。 （もっと読む）