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国際特許分類[G21K5/08]の内容

物理学 (1,541,580) | 核物理;核工学 (13,075) | 他に分類されない粒子線または電磁放射線の取扱い技術;照射装置;ガンマ線またはX線顕微鏡 (3,185) | 照射装置 (1,473) | 照射されるターゲットまたは物体の保持具 (277)

国際特許分類[G21K5/08]に分類される特許

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【課題】中性子発生装置のターゲット部を、容易に回収できるターゲット回収装置を提供する。
【解決手段】中性子減速装置7は、ターゲット6を有するターゲット装置5を収容する収容室8aを有する。ビームダクト11に対して中性子減速装置7を相対移動させ、収容室8a内からターゲット装置5を露出させる。ターゲット装置5の鉛直下方に回収容器43を配置しておき、ターゲット装置とビームダクト11とを着脱自在に接続する主接続手段13の接続を解く。すると、ビームダクト11から離脱したターゲット装置は落下し、回収容器43に収容される。その結果として、ターゲット装置5と一緒にターゲット6をビームダクト11から取り外して容易に回収できる。 (もっと読む)


【課題】ターゲット内でのブリスタリングの発生を容易に抑えることができるターゲット装置を提供する。
【解決手段】陽子線Lの照射を受けて中性子を発生する物質からなる固体状のターゲット10と、ターゲット10に接する冷却板15とを備え、冷却板15には、ターゲット10によって塞がれると共に、冷却水Wが通過する螺旋溝17が形成されているターゲット装置5とした。このターゲット装置5では、ターゲット10から熱を奪う冷却水Wの流路をターゲット10に接するように形成できるため、ターゲット10を透過した直後の陽子線を冷却水Wで捕捉できる。従って、ターゲット10内でのブリスタリングの発生を抑え、さらに、陽子線Lが他の金属部材などに進入してブリスタリングを発生させてしまうことを低減できる。その結果として、ターゲット10内でのブリスタリングの発生を抑えやすくなる。 (もっと読む)


【課題】小型化を図ることを可能にした中性子線回転照射装置を提供する。
【解決手段】 中性子線回転照射装置1は、イオンビームが照射されて中性子を発生するターゲット7を有する中性子発生部2と、中性子を減速する減速材9と、中性子発生部2の出射側に設けられたコリメータ3と、イオンビームを偏向させるための2つの偏向電磁石4,5と、イオンビームを輸送するビームダクト6とを備える。ターゲット収容部10とビームダクト6Cとを連通する連通口10aは、ターゲット収容部10の頂部10bよりも低い位置に配置され、イオンビームのターゲット7への照射方向F1と中性子の取出方向F2とがなす角度αは90°である。 (もっと読む)


【課題】高輝度の電子線が照射された場合においても、ターゲット上に形成された電子線照射部の温度上昇を抑制し、熱応力によるターゲットの荒れを抑制するとともに、ターゲットの飛散を抑制して、高輝度のX線を安定して発生させる。
【解決手段】所定の電子線を発生させるための電子線源と、前記電子線の照射を受けて電子線照射部を形成し、この電子線照射部から所定のX線を生成するターゲットとを具え、前記ターゲットは、前記電子線照射部を中心として一定の半径rの曲率を有する半球状又は半円柱状の凸部を含むようにしてX線発生装置を構成する。 (もっと読む)


【課題】逆コンプトン散乱により発生する硬X線ビームの出射方向を、その特性(高指向性、準単色性等)を損なうことなく変化させることができる硬X線ビーム走査装置および方法を提供する。
【解決手段】電子ビーム1とレーザ光3とを衝突させて発生する硬X線ビーム4の出射方向を変化させる硬X線ビーム走査装置10。電子ビームとレーザ光の所定の衝突点5に入射する電子ビームの入射角度αを変化させるビーム入射角制御装置32を備え、衝突点に入射する電子ビームの入射角度αを変化させる。 (もっと読む)


【課題】1次X線の混入がほとんどない単色X線を発生させることができ、しかも放熱性に優れているため、大強度のX線を発生することができるX線発生装置を提供する。
【解決手段】放熱性に優れた回転陽極のエッジ付近1次ターゲット層と2次ターゲット層を重ねて設置する。2次ターゲットで発生した特性X線は、回転陽極に近接したスリット20より、ベリリウム層30を介して電子ビームに対して垂直方向に取り出す。1次X線は、1次ターゲット層と、遮蔽材によって吸収されスリット20からは、射出されない。 (もっと読む)


【課題】分散安定性に優れ、安定したEUV発光が得られ、極端紫外光発生装置のモリブデン/シリコン多層膜反射鏡の不要な加熱に繋がるEUV発光を抑制でき、かつ、デブリの発生を抑制できる極端紫外光発生装置用ターゲット材料およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の極端紫外光発生装置用ターゲット材料は、平均粒子径が200nm以下の錫微粒子を、有機溶媒を成分とする分散媒中に分散してなることを特徴とする。本発明の極端紫外光発生装置用ターゲット材料の製造方法は、平均粒子径が200nm以下の錫微粒子100質量部に対して、分散剤を2質量部以下含有する錫微粒子水分散液を調製し、この錫微粒子水分散液を濃縮して濃縮液を調製した後、有機溶媒により前記濃縮液を希釈することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、2つの空間の間の分離素子として機能する、電子線を通す窓、及び、このような窓を製造する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】電子線を通す窓であって、キャリヤ基板から分離された電子線を通す箔と、動作状態において、前記電子線を通す箔の中心領域を支持する前記箔の周辺領域に接続された保持素子であって、前記電子線を通す箔および前記保持素子は、2つの別の部分として構成され、前記保持素子は、9×10−6/K以下の線膨張係数を有する材料で構成された、保持素子と、前記保持素子に前記箔を接合するため、前記箔と前記保持素子の間に設置された接合層と、を有することを特徴とする、電子線を通す窓。 (もっと読む)


【課題】実用上十分な強度のX線を発生し得る、異極像結晶を用いたX線発生装置を提供する。
【解決手段】内部に高真空または低圧ガス雰囲気を維持する容器1と、容器内に配置された異極像結晶4と、異極像結晶の温度を昇降させる温度昇降手段3、5〜7と、容器内における温度昇降手段によって熱励起された異極像結晶から生じる電界の到達範囲内に配置され、異極像結晶からの電子線の照射を受けるX線発生用金属ターゲット8を備える。金属ターゲットは、異極像結晶から間隔をあけてこれに対向して配置されるとともに、異極像結晶に向かってのびる先の尖った突起を少なくとも1つ有し、突起の先端部において異極像結晶から生じる電界の強度が増大する。 (もっと読む)


【課題】より大きい線量の放射線を放射すること。
【解決手段】荷電粒子を加速する加速装置と、その荷電粒子が照射されることにより放射線を放射するターゲット52とを備えている。このとき、ターゲット52は、平坦でなく曲面であり、かつ、縁73が平面72上に配置される部分を含んでいる。このようなターゲット52は、平坦であるターゲットに比較して、その荷電粒子が照射される部分の面積が大きく、その部分の単位面積当たりの発熱を低減することができる。このとき、装置は、ターゲット52に照射する荷電粒子の線量を増加させることができ、放射する放射線の線量を増加させることができる。 (もっと読む)


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