【課題】自動化で安定的に液体同位元素を作製する時の圧力を制御でき、液体同位元素を作製する時、より良い安全性が得られるターゲット物質コンベヤシステムを提供する。
【解決手段】少なくとも、第１、２と３の調節弁を有する圧力制御機構と、第２の調節弁に連接される送りユニットと、第３の調節弁と送りユニットに連接されるターゲットチェンバと、ターゲットチェンバの一側に設置される陽子線照射ユニットと、ターゲットチェンバに連接される保管ユニットとが備えられるターゲット物質コンベヤシステムである。 （もっと読む）

本発明は、ガス放電光源のための電極素子１、２及び電極素子１、２の一方又は双方を持つガス放電光源に関する。電極素子１、２は、回転軸２２のまわりに回転方向に回転可能な電極ホイール７であって、２つの側面２５の間に外周面２４を持つ電極ホイール７を有する。電極ホイール７の外周面２４及び側面２５の一部をカバーする電極ホイールカバー８が備えられる。カバー８は、カバー８と、外周面２４及び側面２５の径方向外側部分との間に、円周方向に冷却チャネル１２を形成するように構成され、更に、カバー８と前記円周方向に冷却チャネル１２を延長した位置における外周面２４との間にギャップ２３を形成するように構成される。ギャップ２３は、冷却チャネル１２よりも小さな流れ断面を持ち、電極ホイール７の回転の間に、外周面２４に形成される液体物質の膜の厚さを制限する。ギャップ２３の代わりに、カバー８は、冷却チャネル１２を通って流れる該液体物質からの斯かる膜の形成を抑制するように構成されても良い。冷却チャネル１２は同時に、冷却チャネル１２を通って循環する該液体物質により、電極ホイール７の冷却を可能とする。カバー８の提案される設計により、電極ホイール７の効率的な冷却が実現され、斯かる電極素子を持つガス放電光源を動作させるための高い電力を可能とする。
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【課題】Ｘ線撮像において、最も適したエネルギーの特性Ｘ線を従来のＸ線に付加できるＸ線発生装置を提供する。
【解決手段】従来と同様のターゲット（１次ターゲット層）の内側にＸ線撮像に最も適したエネルギーの特性Ｘ線を発生する原子を含む２次ターゲット層を配置する。従来の装置では、１次ターゲット層で発生する１次Ｘ線のうち、被検体と逆方向に放射されるものは無駄になっていたが、そのＸ線が２次ターゲット層で光電効果を起こし、最もＸ線撮像に適したエネルギーの特性Ｘ線を発生する。この特性Ｘ線は、１次ターゲット層を透過して被検体方向に射出される。 （もっと読む）

本発明は、ガス放電光源用の電極デバイスに関しており、また、当該ガス放電光源を作動させる方法に関している。電極デバイスは、回転軸3の周りで回転可能な電極車輪1と、前記電極車輪1の回転の間、電極車輪1の外周表面18の少なくとも一部に適用される液体材料の膜の厚みを限定するために配置されたワイパー・ユニット11 と、を有する。ワイパー・ユニット11は、外周表面18とワイパー・ユニット11の拭き取り端19との間にギャップ17を形成するよう、及び回転の間、電極車輪1の側面から外周表面18への液体材料の移行を禁止又は少なくとも減じるよう、設計され、配置されている。提案された電極デバイスがあると、電極車輪1は、液滴の形成も無く、より高い回転速度で回転することができ、結果として、斯様な電極デバイスをもつガス放電光源のより高い出力パワー及びより高いパルス周波数を生じる。
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【課題】ターゲット部内に残留する^１８Ｏガスの回収効率を向上できるＯガス回収装置及びＯガス回収方法を提供する
【解決手段】^１８Ｏガスに陽子ビームを照射して^１８Ｆガスを生成するターゲット部３に^１８Ｏガスを供給すると共に、^１８Ｏガスを液化貯留することによってターゲット部３から^１８Ｏガスを吸引する回収ボンベ１３を備えたＯガス回収装置１において、ターゲット部３と回収ボンベ１３とを連絡すると共に、^１８Ｏガスが双方向に流動するメインライン１９と、メインライン１９をバイパスするバイパスライン２１と、バイパスライン２１上に配置されると共に、ターゲット部３から回収ボンベ１３に向けて^１８Ｏガスを移送するダイヤフラムポンプ３５と、を備える。回収ボンベ１３を冷却してターゲット部３から^１８Ｏガスを液化回収した後、ターゲット部３に残留する^１８Ｏガスをダイヤフラムポンプ３５によって回収する。 （もっと読む）

【課題】 デブリの付着をできるだけ低減しつつ、高いＥＵＶを出力することが可能なレーザプラズマ光源を提供する。
【解決手段】レーザプラズマ光源Ａは、複数の貫通孔１５を有し、軸部材１１を中心として回転駆動されるターゲット部材１０と、レーザ光２１を出力するレーザ装置２０と、ターゲット部材１０の回転及びレーザ装置２０のレーザ光照射のタイミングを制御するための制御装置３０と、デブリを吸着するための低温デブリトラップ１２とが設けられている。貫通孔１５にレーザ光２１が照射されると、貫通孔１５内にプラズマが誘起され、プラズマにレーザ光２１が照射されると、ＥＵＶ２３が貫通孔１５の後方に放射される。 （もっと読む）

【課題】遮蔽のための構造を小さくすることができると共に冷中性子を効率よく発生させることができる中性子発生用ターゲット装置及び中性子発生装置を提供する。
【解決手段】 中性子発生装置のターゲット装置２０を、Li(p,n)反応によって中性子を発生するリチウム薄膜２８と、前記リチウム薄膜２８の陽子ビーム入射面を覆うベリリウム薄膜３０と、前記リチウム薄膜２８の陽子ビーム入射面とは反対側の面に固定され前記リチウム薄膜２８及び前記ベリリウム薄膜３０に機械的強度を付与するバッキングフォイル３２とから構成する。リチウム薄膜２８の厚さを、入射した陽子ビームが当該リチウム薄膜２８から出射するまでの間に、そのエネルギーがLi(p,n)反応の閾値以下に低下させる厚さに設定する。これにより、エネルギーの低い冷中性子を効率よく発生することができ、しかも、不要な放射線の発生を抑制できるため、遮蔽のための構造を小さくできる。 （もっと読む）

【課題】プリパルスを用いずに放射線を効率よく発生することができ、デブリの発生を抑えることができる放射線源用ターゲットを提供する。
【解決手段】極端紫外光源粒子１０は、高分子電解質の積層膜から成る泡状構造体１１と、泡状構造体１１に担持されたスズ層１２とから成る。極端紫外光源粒子１０の径を大きくすれば単独の極端紫外光源粒子から成るターゲットとすることができ、極端紫外光源粒子１０の径を小さくして多数を液化不活性ガス等に分散させれば、その分散液の液滴をターゲットとすることができる。このようなターゲットは、１パルスのレーザー光により丁度プラズマ化できる程度の量のプラズマ源物質を有し且つパルスレーザー光の径に対応する大きさにすることにより、極端紫外光を効率よく発生することができる。スズの代わりに金や銅等を使用すれば、極端紫外光以外の放射線を発生する放射線源用ターゲットが得られる。 （もっと読む）

【課題】 ＥＵＶ光源に適した低密度のターゲット材料を容易に供給できる手段を提供する。
【解決手段】 ターゲットをプラズマ化し、生成されたプラズマからＥＵＶ光を放射させるＥＵＶ光源であって、ターゲットは離散的であり、且つ、ターゲットの表面積はターゲットと同一材質かつ同一質量の球形における表面積の１．５倍以上である。 （もっと読む）

【課題】重イオンを加速して更に高速に放出することができるレーザプラズマイオン源用ターゲットおよびレーザプラズマイオン発生装置を提供する。
【解決手段】ターゲット１０は、両主面が略平坦である薄膜からなるものの、一方の主面に突起構造１１を有している。このターゲット１０は、レーザ光９１の照射に伴って飛び出した電子により電子雲９２を生じ、この電子雲９２と表面との間に電場９３を発生させ、該電場９３によりイオンを放出する。矢印で示された電気力線は、ターゲット１０と電子雲９２との間で互いに平行になっておらず、突起構造１１の先端の付近で密になっている。すなわち、電場９３が不均一となっている。 （もっと読む）