【課題】低ＲＡでも高ＭＲ比を有する磁気抵抗効果素子の製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】 酸素や水などの酸化性ガスに対しゲッタ効果の大きい物質が前記ＭｇＯ層を成膜する室内に設けられた構成部材（第１成膜室２１内部の、成膜室内壁３７、防着シールド３６の内壁、仕切板２２やシャッタなど）の表面に被着された成膜室内で前記ＭｇＯ層を成膜するとによって、第１の強磁性層と第２の強磁性層との間にＭｇＯ（酸化マグネシウム）層を有する磁気抵抗効果素子を製造する。ゲッタ効果の大きい物質は、該物質の酸素ガス吸着エネルギーの値が１４５ｋｃａｌ／ｍｏｌ以上の物質であればよく、特に前記磁気抵抗効果素子を構成する物質としてのＴａ（タンタル）が好適である。 （もっと読む）

【課題】 スピン依存バルク散乱抵抗を高く維持したまま、保磁力を低減させた磁性膜を有する磁気抵抗効果素子を提供する。
【解決手段】 磁化方向が固定された強磁性材料を含むピンド層(5A)、非磁性導電材料からなる非磁性中間層(10A)、及び外部磁場の影響を受けて磁化方向を変化させる強磁性材料からなるフリー層(20)がこの順番に積層されてスピンバルブ膜(30)が構成される。一対の電極(2A,2B)が、スピンバルブ膜に、その積層方向の電流を流す。ピンド層及びフリー層の少なくとも一方は、強磁性を示す元素の組成比が第２の層のそれより高い第１の層(8,21)と、非磁性を示す元素の組成比が第１の層のそれよりも高い第２の層(9,22)とが交互に配置され積層部分を含む。この積層部分に、第１の層は少なくとも２層含まれ、第２の層は少なくとも１層含まれる。 （もっと読む）

【課題】 ＧＨｚ帯域で動作可能な磁性薄膜とこれを用いた電子デバイスを得ることを目的とする。
【解決手段】 磁性体層と絶縁体層が交互に積層された磁性薄膜で、磁性体層は第一の磁性体層１と第二の磁性体層２を含み、前記第一の磁性体層１は前記第二の磁性体層２よりも異方性磁界が高く、前記第二の磁性体層２は前記第一の磁性体層１よりも飽和磁化が高いことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 めっきにより磁性膜を形成して磁極とする場合に、めっき膜の析出レートを安定化させ、磁極の形成精度のばらつきを抑え、軟磁気特性にすぐれた磁極を形成し、高密度記録が可能な磁気ヘッドとして提供する。
【解決手段】 Ruからなるめっきシード層２２をめっき給電層として電解めっきにより磁性膜２６を形成することにより、ライトヘッドの磁極を形成する磁気ヘッドの製造方法において、前記Ruからなるめっきシード層２２を形成した後、めっきシード層２２の表面に、めっき膜の析出レートを安定化させるキャップ層３０を形成する工程と、前記めっきシード層２２とキャップ層３０をめっき給電層として前記磁性膜を形成する工程とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高密度記録が可能であると共に、生産歩留まりの低下を回避し、さらには磁気記憶装置の信頼性を向上可能な垂直磁気記録媒体、その製造方法、および磁気記憶装置を提供する。
【解決手段】基板１１と、基板１１上に、軟磁性裏打ち層１２、シード層１３、下地層１４、記録層１５、保護膜１６、および潤滑層１８を順次積層した構成とし、下地層１４は、ＲｕまたはＲｕ合金からなる複数の結晶粒子１４ａからなり、結晶粒子１４ａ同士を互い離隔する空隙部１４ｂを介して基板面内方向に配置され、記録層１５は下地層１４の結晶粒子１４ａ上に堆積した複数の磁性粒子１５ａからなり、磁性粒子１５ａ同士を互い離隔する空隙部１５ｂを介して基板面内方向に配置される。記録層１５の磁性粒子１５ａは、下地層１４の結晶粒子１４ａ上に成長した構成を有する。 （もっと読む）

【課題】 特に、高いΔＲＡを維持しながら、プラトー磁界（Ｈｐｌ）を従来に比べて大きくすることが可能な磁気抵抗効果素子を提供することを目的としている。
【解決手段】 前記固定磁性層４を構成する第２固定磁性層４ｃのうち、非磁性材料層５に接する非磁性材料層側磁性層４ｃ１が、Ｃｏ_２ｘ(Ｍｎ_{（１−ｚ）}Ｆｅ_ｚ)_ｘα_ｙ（元素αは、３Ｂ族、４Ｂ族、あるいは５Ｂ族を構成する元素うちいずれか一つであり、ｘ，ｙはいずれも原子％であり、３ｘ＋ｙ＝１００原子％の関係を満たす）で表される第１のホイスラー合金層で形成される。なお含有量ｙは２０原子％以上３０原子％以下で、ＭｎＦｅ中に占めるＦｅ比ｚは、０．２以上０．８以下である。これにより、高いΔＲＡを維持しながらプラトー磁界（Ｈｐｌ）を大きくできる。 （もっと読む）

【課題】 磁気記録媒体及び磁気記録装置に関し、磁性結晶粒を十分微細化且つ均一化し、再現性良く成長させて、Ｓ／Ｎ比を高める。
【解決手段】 Ａｌ系合金基板或いはガラス基板からなる非磁性基板１上に少なくともアモルファス膜２を介してＣｏ層或いはＣｏ合金層のいずれかからなるとともに、互いに分離し、Ｃｒ系下地層（４）で覆われた島状膜からなるシード層３を設ける。 （もっと読む）

【課題】ピン層及びフリー層を有する磁気抵抗効果素子を備え、電流の密度が高くてもノイズを充分に抑制できる磁気ヘッドを提供する。
【解決手段】磁気ヘッド１０は、第１のピン層１４と、絶縁体を含む第１のスペーサ層１６と、外部磁界に応じて磁化方向が変化するフリー層１８と、導電性の第２のスペーサ層２０と、第２のピン層２２と、を有してなり、これらの層がこの順で積層され、積層方向に対して垂直な一方向に第１のピン層１４の磁化方向Ｄ_ｍ１が実質的に固定され、第１のピン層１４の磁化方向と反対の方向に第２のピン層２２の磁化方向Ｄ_ｍ２が固定された磁気抵抗効果素子１２を備える。 （もっと読む）

【課題】軟磁性下地層SULと垂直記録層RLとの間の中間層ILを低スパッタ圧で形成すると、RLの凹凸を低減してディスクの耐食性を改善することができる。しかしながら、低スパッタ圧でILを形成すると、ディスクの保磁力が大きく低下するため記録性能が低下する。
【解決手段】垂直磁気記録ディスクは、酸化物を添加された粒状コバルト合金記録層RLと、軟磁性下地層SUL上に形成された交換ブレーク層としての中間層IL、およびILとRLの間に形成された極薄核生成膜（NF: Nucleation film）を有する。同ディスクの作製においては、ILを従来に比べてかなり低スパッタ圧で堆積させ、それによってRLとその上のオーバーコートOCの凹凸度を低減する。NFとRLは、かなり高いスパッタ圧で堆積させる。その結果、良好な記録特性を有し、改善された耐食性を有するディスクが得られる。 （もっと読む）

【課題】 特に、積層フェリ構造を構成する非磁性中間層の膜厚を特に変更することなく、飽和磁界（Ｈｓ）、スピンフロップ磁界（Ｈｓｆ）及び及び反強磁性結合エネルギー（Ｊ_Ａ）を適切な範囲内に収めることができ、さらに耐熱性にも優れる磁気検出素子を提供することを目的としている。
【解決手段】 非磁性中間層４ｂは下からＲｕ層１１、Ｒｈ層１２、及びＲｕ層１３の順に積層形成されている。これにより、前記非磁性中間層４ｂの膜厚を特に変更することなく（従来から一般的に用いられている膜厚範囲内で調整しても）、飽和磁界（Ｈｓ）、スピンフロップ磁界（Ｈｓｆ）及び反強磁性結合エネルギー（Ｊ_Ａ）を、前記非磁性中間層４ｂをＲｈだけで形成した場合に比べて適度に弱めることが出来る。 （もっと読む）