【課題】絶縁性を有すると共に、永久磁石として機能し、かつ従来よりも残留磁化を向上させ得る磁性薄膜の製造方法、磁性薄膜及び磁性体を提供する。
【解決手段】磁性薄膜３を形成する際に、絶縁性を有すると共に、永久磁石として機能するイプシロン型酸化鉄系化合物を含む磁性粒子を含有した塗工液に対して所定の強さの外部磁場を印加し、当該塗工液を固化して磁性薄膜３を形成するようにしたことにより、当該イプシロン型酸化鉄系化合物を含む磁性粒子を磁化方向へ規則的に配向させた状態で固化させることができ、かくして、絶縁性を有すると共に、永久磁石として機能し、かつ従来よりも残留磁化を向上させ得る磁性薄膜３の製造方法、磁性薄膜３及び磁性体１を提供できる。 （もっと読む）

【課題】 基体が３次元的な複雑な形状を有していても均一に成膜でき、かつ生産効率の高いフェライト薄膜の製造装置を提供すること。
【解決手段】 基体１を加熱昇温する昇温室２０と、前記の加熱昇温された基体にフェライト薄膜を成膜する成膜室３０と、前記のフェライト薄膜が成膜された基体を冷却する冷却室４０と、前記基体の搬送を担う搬送装置とを有し、基体１は搬送装置により搬送されて昇温室２０、成膜室３０、冷却室４０を当該順に通過し、昇温室と成膜室間、および成膜室と冷却室間はそれぞれ開閉シャッター１７を介して互いに接合されている。各室はそれぞれ回転台３、基体１を設置する台座２を備え、基体１は台座２とともに搬送装置により搬送される。 （もっと読む）

【課題】磁性膜を基体に付着させる際の適切な形成条件を定め、磁性膜の膜厚が２μｍを超えるような場合であっても剥離の生じないような磁性膜付着体の製造方法を提供すること。
【解決手段】磁性膜５を基体３に付着してなる磁性膜付着体１０の製造方法を提供する。この製造方法は、基体３を準備する工程と、交互に積層された有機物膜６及びフェライト膜７からなる磁性膜５を基体３上に形成する工程とを備える。この製造方法において、磁性膜５を形成する工程は、２０μｍ以下の膜厚を有するフェライト膜７をフェライトメッキ法により形成する工程と、０．１μｍ以上２０μｍ以下の膜厚を有する有機物膜６であって当該有機物膜６の膜厚ｔとヤング率Ｅとの比ｔ／Ｅが０．０２５μｍ／ＧＰａ以上である有機物膜６を形成する工程とを交互に行うものである。 （もっと読む）

【課題】 フェライト膜の製造方法において、均一な電磁気特性を有する膜が得られ、溶液の利用効率を高めた製造方法を提供する。
【解決手段】 反応液を供給する反応液ノズルＡ３ａ，反応液ノズルＢ３ｂと、酸化液を供給する酸化液ノズルＡ４ａ，酸化液ノズルＢ４ｂが回転軸を挟まず回転軸から等距離に配置し、好ましくは反応液を供給する反応液ノズルと、酸化液を供給する酸化液ノズルを一対として当該ノズルが複数対配置する。 （もっと読む）

【課題】
基材表面に形成された、白金層または銀層の面に対して垂直方向に高い保磁力を持つ垂直磁気異方性を有する磁性体膜を製造する方法、および当該製造方法により基材表面に形成された、白金層または銀層の面に対して垂直方向に高い保磁力を持つ垂直磁気異方性を有する磁性体膜を提供する。
【解決手段】
基材９表面に形成された、（００１）面方位を有する白金層１上に鉄成分が５０原子％を超える鉄白金粒子２を含む液を塗布して塗布層３を形成する工程Ｓ１、あるいは基材９表面に形成された、（００１）面方位を有する銀層１上に鉄成分が４０原子％以上６０原子％以下の鉄白金粒子２を含む液を塗布して塗布層３を形成する工程Ｓ１と、鉄白金粒子２および白金層１表面上の付着物（５、６）を除去する工程Ｓ２と、加熱する工程Ｓ４とを含むことを特徴とする磁性体膜８の製造方法、および当該方法により製造される磁性体膜。 （もっと読む）

【課題】磁区の発生を抑制し、所定部位における電気分布又は磁化分布を従来よりも正確に確認させ得る磁気転写素子及び光学系装置を提案する。
【解決手段】磁化状態の変化により生じる磁区を細かく寸断するグラニュラー構造に形成され、磁化容易軸が膜面に平行に形成するようにしたことにより、磁気転写情報Ｐを偏光顕微鏡10により観察する際、従来形成されていた磁区Ｇが、グラニュラー構造によって細かく寸断され、これにより大きな磁区Ｇが発生することを抑制できる。よって、磁区Ｇが現れない分、磁気転写情報Ｐのみを認識させることができ、かくして測定対象物中の磁化分布又は電流分布を従来よりも正確に確認させ得る。 （もっと読む）

基板に磁気層を生成する方法であって、重量比６０パーセントのネオジウム鉄ボロン粉末、重量比１０パーセントのフェライト粉末（好適にはストロンチウムヘキサフェライト粉末）、重量比１．４パーセントの触媒、重量比１．１パーセントの分散剤添加物、残りの重量比のマトリックス（好適にはエポキシポリオールマトリックス）という組成の印刷可能ワニスを生成する工程を含む。これら物質は攪拌または混練により混合され、スリーロールミルにより圧延される。好適には、これらは基板にスクリーン印刷により塗布され、その後、摂氏８０度から１２０度で６時間から１２時間早期硬化（pre-cure）され、その後、摂氏２００度から２２０度で３時間硬化される。 （もっと読む）

【課題】バインダー樹脂が不要で、簡単な方法で製造することができ、高い記録密度と耐剥離性とを兼ね備えた磁気記録媒体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】第１の反応性基を有する第１の膜化合物で表面が覆われた磁性微粒子２１と、第１の反応性基と反応して結合を形成する複数の架橋反応基を有する架橋剤１２とを含む混合物を基体３１の表面に塗布し、第１の反応性基と架橋反応基との架橋反応により硬化され磁気記録層が形成された磁気記録媒体１０を得る。 （もっと読む）

【課題】例えば半導体ウェーハ等の基板の表面に露出した金属表面に磁性膜、特に合金磁性膜を選択的かつ容易に成膜することができるようにする。
【解決手段】基板の表面に露出した金属表面に磁性膜を選択的に成膜する磁性膜成膜装置であって、磁性膜成膜装置２２は、めっき槽４０内のめっき液３８に表面を接触させて配置した基板Ｗの周囲に該基板Ｗと平行な磁場を発生させる磁場発生装置３４を有する無電解めっき装置３６からなる。 （もっと読む）

【課題】低周波域ノイズおよび孤立スパイクノイズの低減を可能とした構造の垂直磁気記録媒体とそれを実現するための基板を提供すること。
【解決手段】シリコン基板として多結晶のものを用いることによりＮｉまたはＮｉＰ合金膜等の下地メッキ膜なしに基板上に軟磁性膜をメッキ法で成膜することを可能としている。下地メッキ膜を設けないために顕著なスパイクノイズ低減効果が得られる。１０nm以上１０００ｎｍ以下の厚みの酸化珪素膜１０６を主面に有する直径９０ｍｍ以下の多結晶シリコン基板１０２上に、１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の厚みのメッキ成膜された軟磁性裏打ち層１０２と磁気記録層１０３と保護層１０４と潤滑層１０５が順次積層されて記録媒体とされている。なお、酸化珪素膜１０６と軟磁性裏打ち層１０２との間に１ｎｍ以上２００ｎｍ以下の厚みのＰｄ含有膜１０７を設けるようにしてもよい。 （もっと読む）