【課題】焦点合せを欠陥候補の撮像領域外で行って、撮像画像の帯電やコンタミネーションを防ぐとともに、焦点のずれのない撮像画像を得ることができるレビュー装置及びレビュー方法を得る。
【解決手段】試料を移動させて、欠陥候補の位置を含む撮像領域に電子ビームを位置付け、電子ビームの光軸を平行移動させて、欠陥候補の画像を撮像する領域の外の焦点合せ領域に光軸を位置付け、焦点合せ領域で電子ビームを偏向させるとともに、電子ビームの焦点位置を変えながら、焦点合せ領域から発生した二次信号の強度を取得し、該二次信号の強度に基づいて合焦点位置を求め、その後、焦点合せ領域に位置付けられた電子ビームの光軸を欠陥候補の位置に移動させ、撮像領域に電子ビームを照射して発生する二次信号から画像を形成する。 （もっと読む）

【課題】ブランキング用偏向器と、成形用偏向器と、走査用の主偏向器及び副偏向器とを有するビーム照射手段により荷電粒子ビームを試料に照射する描画装置において、各偏向器の高周波での偏向精度の悪化を防止して、描画精度を向上できるようにする。
【解決手段】ブランキング用偏向器２３は、棒状の内部電極２３１と、内部電極２３１を荷電粒子ビームＢが通過する空隙を存して囲う筒状の外部電極２３２とを備える同軸型のものに構成される。内部電極２３１と外部電極２３２は、夫々非導電性材料製の母材２３１ａ，２３２ａの表面に、真空蒸着又はスパッタリングにより金属製の電極膜２３１ｂ，２３２ｂを積層して形成される。また、成形用偏向器、走査用の主偏向器及び副偏向器は、複数対の対向電極を備え、各対向電極は、非導電性材料製の母材の表面に、真空蒸着又はスパッタリングにより金属製の電極膜を積層して形成される。 （もっと読む）

【課題】電子ビームを照射してパターン描画を行う電子ビーム描画方法において、パターンの円周方向配置精度を向上させる。
【解決手段】パターン描画を行う際に、回転ステージの１回転中において、該１回転中に生じるエンコーダからのエンコーダ信号のバラツキのうち、互いに異なる回転数で回転させた複数回転において共通に表れる固定周波数成分を、電子ビームを円周方向に偏向補正することにより補償し、エンコーダ信号のバラツキのうち、固定周波数成分以外の変動周波数成分を、描画クロックのクロック周波数を変化させることにより補償する。 （もっと読む）

【課題】本発明は複合装置におけるビーム照射位置の補正装置に関し、導電体が挿入されても試料観察位置がずれてしまうことのないビーム照射位置の補正装置を提供することを目的としている。
【解決手段】コレクタ電極７へ印加する電圧をオフにした状態で、導電体が試料室１に挿入された時にＳＥＭ鏡筒２からの電子ビームと、ＦＩＢ鏡筒３からのイオンビームの照射位置のずれを補正するためのイメージシフト量を記憶する補正テーブル２１と、ＳＥＭ像又はＦＩＢ装置像を表示する表示手段２２とを具備し、前記ＳＥＭ鏡筒２とＦＩＢ鏡筒３に所定の加速電圧が印加された状態における、前記補正テーブル２１に記憶されているイメージシフト補正量を読み出してＳＥＭ鏡筒２からのイメージシフト信号及びＦＩＢ鏡筒３からのイメージシフト信号に重畳し、この状態で得られた２次電子像を前記表示手段２２に表示するように構成される。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、荷電粒子ビームの偏向方向と試料の傾斜軸に角度ずれが有る場合にも画像の歪みを無くし、試料を正確に観察したり、加工したりすることに関する。
【解決手段】本発明では、荷電粒子ビームの偏向方向と試料の傾斜軸が平行となっていない場合に、荷電粒子ビームの観察方向に対する偏向回転角を求め、荷電粒子ビームの偏向パターンを変形することにより、画像の歪みを補正することに関する。例えば、荷電粒子ビームの偏向パターンを平行四辺形となる。本発明により、試料が傾斜していても、歪みの無い像が得られ、試料の観察や加工を高精度に実施できる。これにより、位置補正マークを自動認識して位置関係を補正する観察や加工も可能となる。 （もっと読む）

【課題】
荷電粒子ビーム照射による影響(帯電等)のない、また影響が低減された荷電粒子ビーム装置を提供する。
【解決手段】
荷電粒子ビーム１０１を被対象物１０６に照射し、被対象物からの検出信号１０４を画像データに変換し画面上に表示する荷電粒子ビーム装置であって、荷電粒子ビームを任意の方向に走査し、被対象物上の離散的な位置に照射する荷電粒子ビーム制御部３と、画像データを並び替える画像データ並び替え部５を含む画像処理システム１３とを有する。 （もっと読む）

【課題】 偏向信号源側への負荷の増大を招くことなく、高い周波数での電子ビームの高精度大振幅偏向を可能にする。
【解決手段】 電子ビームを発生する電子源と、電子ビームを集束するレンズと、電子ビームを偏向する偏向器とを有し、電子源から発生した電子ビームを試料面上の所望の位置に照射する電子ビーム描画装置であって、偏向器３１は、偏向信号を外部入力用ケーブル５２を介して入力する共振回路の一部であり、外部入力用ケーブル５２から見たときの共振回路の共振周波数でのインピーダンスが外部入力用ケーブル５２の特性インピーダンスとほぼ等しくなるように設定され、偏向信号の周波数は、共振回路の共振周波数とほぼ一致するように設定されている。 （もっと読む）

【課題】 偏向器等の素子に欠損がある場合においても、スループットの低下を抑えつつ、所望のパターンを形成可能な荷電粒子線描画装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明の荷電粒子線描画装置は、複数の開口を用いて複数の荷電粒子線を形成可能なアパーチャアレイと、複数の主素子と、前記主素子と異なる複数の補助素子とを含む素子アレイと、前記複数の主素子の欠損に関する情報を取得し、該情報にもとづいて前記素子アレイを制御する制御部とを備え、前記制御部は、欠損がない場合には前記主素子のみを用い、欠損がある場合には欠損がある主素子を使用せずに、かつ前記補助素子を使用するように、前記素子アレイを制御することを特徴としている。 （もっと読む）

【目的】より描画時間を短縮させる方法および装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の描画装置１００は、電子ビーム２００を偏向せずに通過させることでビームＯＮさせ、偏向することでビームＯＦＦさせるＢＬＫ偏向器２１２と、電子ビーム２００を偏向して成形する成形偏向器２０５と、電子ビーム２００を試料１０１の所定の位置に偏向する対物偏向器２０８と、を備え、上述した偏向器のうち少なくとも２つの偏向器が、同時期に異なるショットの電子ビーム２００を偏向制御することを特徴とする。本発明の一態様によれば、次のショットを早く照射することができるので、その分、描画時間を短縮することができる。 （もっと読む）

【目的】本発明は、発生された粒子線ビームをレンズにより集束して細く絞って試料上に照射した状態で当該粒子線ビームを偏向器により偏向して平面走査する粒子線鏡筒に関し、粒子線鏡筒を金型によって作るので、量産できること、生産コストが低く、研削盤等によって精度を向上させ、従来の複数回の組立て誤差が無くなり、精度が上がるので、精密な粒子線鏡筒の各パーツの生産ができ、粒子線鏡筒を用いた高分解能用の顕微鏡は高分解能エネルギアナライザ等に適用ができる粒子線鏡筒を作成したり、粒子線鏡筒を透明な素材で作成し、利用者は粒子線ビームの走行状態などを直接に見ることを実現することを目的とする。
【構成】レンズを構成する軸中心に孔を有する複数毎の同軸円板からなるレンズ電極を軸に沿って半割りして一体作成した半割りレンズと、一体作成した半割りレンズの２つを、軸に沿って接合して作成したレンズとを備える。 （もっと読む）