【課題】陰極軸方向（スピン偏極電子の進行方向）への磁気異方性を発現することができ、もってスピン偏極率の測定や磁性体試料の解析・表面分析などを効率よく行うことが可能な電子光学機器を提供すること。
【解決手段】スピン偏極率の測定や磁性体試料の解析を効率よく行うことができる電子光学機器は、スピン偏極電子のスピンの向きを電子の進行方向を含む面内に回転させるスピン回転器と、前記スピン回転器を通過したスピン偏極電子ビームの電子エネルギーを選別するスリットと、を備え、前記スピン回転器は、電場・磁場重畳型の９０°偏向器であり、前記スピン偏極電子のエネルギー分布を測定することができる。 （もっと読む）

【課題】生成された画像、特に、ＦＦＴ画像等に含まれる、検査対象物に起因しないアーチファクトを最小限に抑制する。
【解決手段】粒子ビームを用いて物体の表示を生成する方法、及び粒子ビーム装置。画像を形成するラスタパターンは順次走査、特定の順番によるもの、矩形状またはらせん状に規定されたもの等を含み任意のラスタパターンを用いることができる。ラスタパターン内における画素寿命（ラスタ点寿命）、フライバック時間、画素休止時間のうち少なくとも一つを変化させる。乱数発生器を用いてフライバック期間を変化させたり、個々のラスタ点を乱数方式で通過させることもできる。 （もっと読む）

【課題】複雑な調整機構を用いることなく安定したビームの照射を図ること。
【解決手段】針状のチップ１と、チップ１にガスを供給するイオン源用ガスノズル２とイオン源用ガス供給源３からなるガス供給部と、チップ１との間で電圧を印加し、チップ１の表面に吸着したガスをイオン化してイオンを引き出す引出電極４と、イオンを試料１３に向けて加速させるカソード電極５からなるイオン銃部１９を備え、イオン銃部１９とレンズ系の間に配置された第二のアパーチャ１０と、試料１３にイオンビーム１１を集束させる集束レンズ電極６と対物レンズ電極８からなるレンズ系を備えている集束イオンビーム装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】複雑な調整機構を用いることなく安定したビームの照射を図ること。
【解決手段】針状のチップ１と、チップ１にガスを供給するイオン源用ガスノズル２とイオン源用ガス供給源３からなるガス供給部と、チップ１との間で電圧を印加し、チップ１の表面に吸着したガスをイオン化してイオンを引き出す引出電極４と、イオンを試料１３に向けて加速させるカソード電極５からなるイオン銃部１９を備え、イオン銃部１９より試料１３側に位置し、イオン銃部１９から放出されたイオンビーム１１の照射方向を調整するガンアライメント電極９と、試料１３にイオンビーム１１を集束させる集束レンズ電極６と対物レンズ電極８からなるレンズ系を備えている集束イオンビーム装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】エネルギー選択範囲の変動を防止し、ＳＴＥＭ像に視野カットが発生することを防止する。
【解決手段】試料上で細く絞った電子プローブを二次元的に走査すると共に、透過散乱した電子を電子光学系を介してエネルギーフィルタに導入・検出し、電子顕微鏡像を取得する走査透過電子顕微鏡において、前記エネルギーフィルタはエネルギー分散面上に配置される一対の対向するエッジからなるエネルギー選択スリットを備えると共に、観察条件の変更にかかわらず電子プローブの試料上での水平走査に伴う前記スペクトルの前記エネルギー選択スリット上での移動方向が前記エッジに平行になる又は直交するように前記電子光学系を制御する手段と、電子プローブの垂直又は水平走査に伴い前記エネルギー選択スリット上で前記スペクトルが前記エッジに直交する方向に移動するのを打ち消すように前記エネルギーフィルタを制御する手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】電磁界を発生させずにイオンビームの軌道を制御するイオンビーム軌道制御装置を提供する。
【解決手段】イオンビームＬが入射する反射部１１を備えたイオンビーム軌道制御装置１０であって、反射部１１がイオンビームＬを反射する反射面１１０を有し、その反射面１１０が、イオンビームＬのイオンより原子番号の大きい原子により最表面が構成されている誘電体表面である。 （もっと読む）

【課題】 ビームブランカーの状態を変化させた後、より速やかに所望の動作特性を提供する粒子ビームシステムを得る。
【解決手段】 粒子ビームシステムは、粒子ビームを生成する粒子ビーム源、高圧電源、偏向板５６，５７を有するビームブランカーシステム、および制御回路を備える。制御回路は、２つの偏向板５６，５７の間に第１電流経路６７を形成し、第１電流経路には、偏向板５６から順に、スイッチ７０、高圧電源に接続したノード７２、およびスイッチ７６をこの順序で配列する。制御回路は、偏向板５６と偏向板５７との間に第２電流経路８５を形成し、第２電流経路には、偏向板５６から順に、電圧源９１、スイッチ９０、高圧電源に接続したノード８６を含む直列接続８８、および電圧源９５およびスイッチ９４を含む直列接続９２をこの順序で配列する。 （もっと読む）

【課題】透過波と位相板の貫通孔との間のアライメントを容易化できる透過電子顕微鏡の制御装置を提供する。
【解決手段】透過電子顕微鏡の制御装置２００は、電子線を試料に透過させて得られる透過波および散乱波の通過する所定の面に配置され、貫通孔に透過波を通過させて透過波および散乱波の少なくとも一方の位相を変化させる位相板１２０を有する透過電子顕微鏡１００の制御装置であって、透過波と散乱波を干渉させて得られる透過電子顕微鏡像を取得する像取得手段２１０と、透過電子顕微鏡像をフーリエ変換して、フーリエ変換パターンを得る演算手段２２０と、フーリエ変換パターンから所定の面における透過波と貫通孔の位置関係を求めて、透過波を貫通孔に通過させるための制御情報を生成する制御情報生成手段２３０と、を含む。 （もっと読む）

【課題】少なくとも２種類以上の電気的欠陥を１回の検査で従来よりも高い確率で捕捉可能な検査条件で検査を実行可能な荷電粒子線装置ないし荷電粒子線による検査方法を実現する。
【解決手段】被検査試料上の同一箇所を複数回走査し、一次荷電粒子ビーム走査時の光学条件あるいは出力される画像信号から画像を形成する際の画像形成条件を上記２種類以上の電気的欠陥を捕捉可能な画像を可能な条件に調整する。 （もっと読む）

【課題】装置全体を大きくすることなく、基板への入射イオンビームの均一性を図ったイオンビーム発生装置を提供する。
【解決手段】放電槽２でプラズマを発生させ、引き出し電極７より環状のイオンビームを引き出し、偏向電極３０によって、該イオンビームを環状の中心方向に屈曲させて基板Ｗに対して、傾斜した方向から入射させる。 （もっと読む）