【課題】モード変更やこれに伴うパラメータ調整といった面倒な作業を行うことなく、電子顕微鏡の倍率変更をシームレスに行えるようにする。
【解決手段】第一倍率制御モードで設定されるパラメータ値セットと、第二倍率制御モードで設定されるパラメータ値セットとを記憶するためのパラメータ値セット記憶手段１８９と、電子線撮像手段１１で撮像される電子顕微鏡画像の電子顕微鏡倍率を調整するための電子顕微鏡倍率調整手段と、倍率制御モード切替手段による倍率制御モードの切り替えに伴って、パラメータ値セット記憶手段１８９に記憶されたパラメータ値セットを切り替えて設定するためのパラメータ値セット設定手段１８８とを備え、倍率制御モード切替手段が、電子顕微鏡倍率調整手段で調整される表示倍率が所定の倍率制御モード切替倍率に達したとき、第一倍率制御モードと第二倍率制御モードとを切り替える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、パターンから放出される電子を適正にパターン外に導くための電界を形成する電子ビーム走査方法、及び走査電子顕微鏡の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するために、帯電を形成するための電子ビームを、試料に照射する際に、試料上に形成されたパターンのパターン中心を対称点とする第１の位置と第２の位置に、第１の電子ビームを照射した後、対称点を中心とした第１と第２の位置と同一の半径上であって、第１と第２の照射位置との間の２つの中心位置に更に第１の電子ビームを照射し、更にその後、半径上の既走査位置間の中心位置への第１の電子ビームの照射を繰り返す。 （もっと読む）

【課題】本発明は、小型で高効率の二次信号電子の検出系を実現することを目的とする。
【解決手段】一次電子線を走査するために用いる偏向器を用い、試料から放出される二次信号電子に対してのみ偏向作用する電磁界を重畳的に発生する。すなわち、一次電子線に対しては電界の偏向作用と磁界の偏向作用が相殺され、かつ、二次信号電子に対しては偏向作用が働く電界及び磁界を重畳させるオフセット電流及びオフセット電圧を、一次電子線を走査させる電界又は磁界を発生する偏向器に発生させる。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子線装置において、短時間かつ高精度にビーム電流を測定することおよび設定することが可能な計測技術を提供すること。
【解決手段】荷電粒子源を試料に照射し、その試料から発生する信号を検出する荷電粒子線装置において、荷電粒子ビームを試料上に収束または照射する荷電粒子光学系と、荷電粒子線の走査によって試料から発生する信号を検出する検出手段と、荷電粒子ビームの電流を測定するための検出素子と、荷電粒子の走査を実現する偏向電極、あるいは偏向コイルを備え、これを制御する電圧もしくは電流を印加する制御部と、荷電粒子ビームの光学条件を記憶可能な演算装置を具備し、予めビーム電流のピーク電流が得られる条件を記憶しておくことで、光学条件に応じてビーム偏向範囲を参照することで、ビーム偏向を検出素子近傍のみに制限し、荷電粒子ビームの電流値を計測する。 （もっと読む）

【課題】電子源の交換後、蛍光板上で電子線の位置を確認することができないような光軸のずれがある状態でも光軸の自動調整が可能な電子顕微鏡を提供する。
【課題手段】蛍光板の電流を測定して電子線が蛍光板に照射されているか否かを判断し、照射されていない場合は、偏向器を制御して電子線が蛍光板に照射されるように電子線を移動させ、照射されている場合は、当該電流の大きさが極大であり、かつ蛍光板に照射されている電子線の画像から得られる輝度の大きさが極大となるように、偏向器を制御するものである。 （もっと読む）

【課題】微小ピクセルによる高感度検査を、ステージをスキャン移動させながら効率的に行える電子線検査装置、方法及び記憶媒体を提供する。
【解決手段】本発明による電子線検査装置では、検査対象物がステージ移動方向と垂直な方向に分割された非連続な２つ以上の検査領域を有する場合、電子線走査制御手段は、電子線走査手段が検査領域に挟まれた非検査領域に照射電子線を照射しないように、照射電子線の走査幅を制御する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、予備照射領域内に異なる複数の材質が含まれていたり、予備照射領域内のパターンの密集度が位置によって異なるような試料であっても、帯電の不均一さを抑制することが可能な荷電粒子ビーム照射方法、及び荷電粒子線装置の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するために、予備照射領域を複数の領域に分割し、当該複数の領域に対し、異なるビーム照射条件のビームを用いて、帯電を付着する荷電粒子ビーム照射方法、及び荷電粒子線装置を提案する。上記構成によれば、予備照射領域内で、各位置の帯電の差異を抑制し得るような照射条件に基づいて、予備照射領域に対する帯電の付着が可能となるため、荷電粒子ビームや試料から放出される電子に対する電界の影響を抑制することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】
複数本の二次電子ビーム調整を、効率良く実施することのできる半導体検査装置および欠陥検査方法を提供することを目的とする。
【解決手段】
被検査対象物に複数の照射光を照射する照射光学系と、前記照射光学系により照射され、該被検査対象物から放出される複数の光を検出する検出光学系と、前記検出光学系で検出した複数の光に基づく信号の強度を比較する比較部と、前記比較部で比較された結果に基づき該複数の光の位置と前記検出光学系における該複数の光の検出位置とのずれ量を算出する補正量算出部と、該複数の光に基づく信号を処理して該被検査対象物の検査を行う処理部とを備える演算処理部と、を備え、前記検出光学系は、さらに、前記補正量算出部で算出されたずれ量に基づき前記照射光学系を調整する制御部を有することを特徴とする検査装置である。 （もっと読む）

【課題】高感度にＲＯＩ領域の欠陥発生頻度や特性尤度の効率的なモニタリングをする。
【解決手段】ステージの連続移動に同期して、マトリクス状に配置した複数の電子線をステージ移動方向に間引いて回路パターンに照射し、発生する二次電子等を取得し、同一領域で取得した画像を加算平均することで高速にしかも高ＳＮの画像を取得し、取得画像より回路パターンの欠陥を判定する。ステージ移動と垂直方向への移動時に隣接領域ではなく、間引いて画像取得することで、ＲＯＩ領域のみ、又は回路パターン全体の欠陥発生頻度や特性尤度を効率的にモニタリングする。 （もっと読む）

【課題】ビーム偏向器内部での空間電荷効果によるイオンビームの広がりを抑制し、イオンビームを効率良くターゲットに輸送する。
【解決手段】このイオン注入装置は、イオンビームの中心軌道の進行方向をＸ方向とすると、広がりを有するイオンビームの全体形状をＸ方向に実質的に平行となるように磁界によってイオンビームを偏向させるビーム偏向器を備えている。ビーム偏向器は一対の磁極と、磁極上に設けられた絶縁部材と、絶縁部材上に配置されイオンビームが通過する空間を挟んで相対向するとともに、イオンビームの進行方向に沿って非対称なアインツェルレンズを構成する少なくとも１つの電極組と、電極組に電圧を印加するための少なくとも１つの電源とを備えている。 （もっと読む）