【課題】ビーム偏向時に荷電粒子ビームが真空ダクト等の障害物と衝突することにより喪失されるのを防止し、ビーム輸送効率を高める。
【解決手段】所定の曲率半径を有する中心軌道に沿って荷電粒子ビーム１を偏向させるものであって、荷電粒子ビームが通過する空間２を介して対向して配置された第１と第２の磁極３ａ、３ｂと、第１と第２の磁極の各々の周囲に巻線され、前記空間に第１の磁極から第２の磁極に向かって磁場を形成する主コイル４ａ、４ｂとを備えている。
さらに中心軌道よりも内周側に配置され、前記空間に第２の磁極から第１の磁極に向かって磁場を形成する第１の補助コイル６ａ、６ｂと、中心軌道よりも外周側に配置され、前記空間に第１の磁極から第２の磁極間に向かって磁場を形成する第２の補助コイル７ａ、７ｂとを備えていることを特徴とする。 （もっと読む）

【目的】偏向信号の通信遅延によるスループットの低下を抑制可能な装置を提供する。
【構成】描画装置１００は、ＸＹステージ１０５の移動に追従させるための荷電粒子ビームの偏向量を、互いに重なり合う時期を持ちながら時差をおいて演算する複数のトラッキング演算部２２，２４と、基板面を仮想分割した複数の小領域の小領域毎に、ビームの照射が終了したことを示す終了信号を入力し、終了信号をトリガとして、複数のトラッキング演算部の一方の出力から他方の出力へと切り替える切り替え部３４と、ステージが移動する中、複数のトラッキング演算部の切り替え前は、複数のトラッキング演算部の一方から出力される信号に基づき第ｎ番目の小領域へ荷電粒子ビームを偏向し、切り替え後は、他方から出力される信号に基づき第ｎ＋１番目の小領域へ荷電粒子ビームを偏向する主偏向器２０８と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子線を試料表面に対して、所望の領域に広範囲の角度で照射可能な荷電粒子線装置を実現する。
【解決手段】イオンビームカラム２０１ａの中心軸の延長線に沿う方向の位置、直交する方向の位置）や傾斜角度（イオンビームカラム２０１ａの中心軸の延長線と直交する面に対する傾斜角度）を調整可能な電極を有する電極部２０４を、試料室２０３内に配置し、電極等により、曲げられたイオンビーム２０１ｂを試料２０２の表面に照射するように構成する。イオンビーム２０１ｂを試料２０２の表面の所望の領域に、試料表面に対して広範囲の角度で照射可能となる。 （もっと読む）

【課題】 観察対象物に加工を施すことなく現状状態そのままでの観察を可能とする走査型電子顕微鏡の提供。
【解決手段】 鏡筒の開口先端部に観察対象物と接触させるシール部材を設け、真空ポンプにより鏡筒内が真空に引かれた場合にシール部材を介して当該鏡筒に観察対象物を吸着させ、鏡筒を観察対象物に直接接触させた状態で密着固定するようにした。すなわち、試料室がないかわりに吸着により観察対象物と鏡筒とが相対的に移動しないように密着固定させる。こうすると、試料室がないにも関わらず、鏡筒内を真空状態に確保することができ、また振動により鏡筒と観察対象物とは相対的に移動しないことから観察時の悪影響が生じない。こうして鏡筒を観察対象物に対し直接マウントすることで、従来では試料室に入りきらない観察対象物であっても加工を施すことなく現状状態そのままで観察を行うことができるようになる。 （もっと読む）

【課題】
高周波ノイズによる荷電粒子線への影響を抑制し、高性能で安定した制御が可能な荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】
偏向用コイル１０１に対して電流の向きが逆となるノイズキャンセル用コイル１０２を設け、ノイズキャンセル用コイル１０２にはハイパス用コンデンサ１０３を介して高周波ノイズ電流のみを通すことで、ノイズ電流と偏向コイル１０１によって生成される磁場１０５とノイズ電流とキャンセル用コイル１０２によって生成される磁場１０６とが互いに打ち消し合うように構成することで、高周波ノイズによる荷電粒子線１０７への影響を除去する。 （もっと読む）

【課題】 偏向器アレイに含まれる電極に電位を与えるデバイスの少なさの点で有利な描画装置の提供。
【解決手段】 複数の荷電粒子線で基板に描画を行う描画装置であって、前記複数の荷電粒子線を偏向するための偏向器アレイと、前記偏向器アレイに対して複数の電位をそれぞれ与える複数のデバイスと、前記偏向器アレイに含まれる複数の電極のそれぞれを前記複数のデバイスのいずれかに接続し、かつ、前記複数の電極のうち与えられる電位が等しい電極どうしを接続する接続部と、を有し、前記複数のデバイスに含まれるデバイスの数が前記偏向器アレイに含まれる電極の数より少ない、描画装置とする。 （もっと読む）

【課題】
走査荷電粒子顕微鏡の評価性能を低下させることなく、スループットの向上化を図る。
【解決手段】
走査荷電粒子顕微鏡を用いて半導体ウェハ上に形成された回路パターンの形状を評価する方法において、複数の評価パターンが走査荷電粒子顕微鏡の１視野内に入るように形成された半導体ウェハを走査荷電粒子顕微鏡を用いて撮像して複数の評価パターンを含む画像を取得し、この取得した複数の評価パターンを含む画像の走査荷電粒子顕微鏡の視野に含まれる複数の評価パターンとは異なるパターンを用いて走査荷電粒子顕微鏡を制御して画像の画質を調整し、この画質が調整された走査荷電粒子顕微鏡を制御して複数の評価パターンを含む視野内でイメージシフトにより複数の評価パターンの画像を順次取得し、このイメージシフトにより順次取得した複数の評価パターンの画像を用いてこの複数の回路パターンの形状を評価するようにした。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子線の状態が変化しても、容易に光軸の調整を可能とする荷電粒子線装置、及び荷電粒子線装置の調整方法を提供する。
【解決手段】本発明は、上記目的を達成するために、荷電粒子源と、当該荷電粒子源から放出される荷電粒子線を調節する光学素子と、当該光学素子に対して軸調整を行うアライメント偏向器を備えた荷電粒子線装置において、前記光学素子の条件を変化させた際に得られる２つの画像のパターンの重心を検出する手段と、前記２つのパターンの重心のずれを検出する手段と、前記２つのパターンの重心のずれに基づいて、前記アライメント偏向器の偏向量を算出する手段を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置を提案する。 （もっと読む）

【課題】 荷電粒子線の本数が増加すると、ブランキング偏向器アレイの製造における歩留まりが悪くなってしまう。
【解決手段】 偏向器アレイは、複数の開口が形成されたベース基板と、複数の開口が形成され、前記複数の開口のうち少なくとも一部の開口の両側に設けられた複数の電極対を有する複数の偏向器チップと、を備える。
さらにベース基板の複数の開口に対応する位置に偏向器チップの複数の開口が配置されるように、１枚のベース基板に対して複数の偏向器チップが固定される。 （もっと読む）

【課題】ＴＯＦ−ＳＩＭＳの一次イオンに使用できるほど短いパルス幅のＧＣＩＢを射出できるＧＣＩＢ銃を提供する。
【解決手段】
イオン化室３０から射出されたＧＣＩＢを予め決められた時間だけ通過させる第一のシャッター部４１と、第一のシャッター部４１を通過したＧＣＩＢのうち予め決められた質量範囲外のＧＣＩＢを除去する選別部５９とを有している。選別部５９は、ＧＣＩＢを交互に反射して往復移動させる第一、第二のミラー電極５１ａ、５２ａと、第一、第二のミラー電極５１ａ、５２ａの間に配置され、前記質量範囲内のＧＣＩＢを、予め決められた時間だけ通過させる第二のシャッター部５３と、を有し、前記質量範囲内のＧＣＩＢを選別部５９から射出する。 （もっと読む）