【課題】試料台のドリフトの影響による画像の歪を補正するため、観測用画像より短時間に補正用参照画像を計測し、観測用画像の形状を補正用参照画像の形状を比較することにより補正し、観測用画像の歪を低減する。試料台の移動が停止するまで待たずに、また、より少ない画像より歪を補正することが必要とされる。
【解決手段】観察のために取得する画像と同一の位置と倍率で、歪補正のための参照用画像を計測する。このとき、参照用画像においては、ドリフトの影響を低減するため、本来の観測用画像より短時間で計測を実行する。参照用画像と観測用画像の形状を比較し、観測用画像の形状を、参照用画像の形状に合わせて補正することにより、観測用画像の形状を補正する。 （もっと読む）

【課題】 絶縁体パターンであっても，撮影中一次荷電粒子線照射起因帯電の影響を抑制し，二次荷電粒子の検出率の変化を抑制することにより視野内の計測歪みを抑制することのできる走査型荷電粒子顕微鏡を提供する。
【解決手段】 試料８上の二次元領域に対し，荷電粒子線４のライン走査の方向が交互に反転するように走査して走査領域の画像を形成する走査型荷電粒子顕微鏡において，荷電粒子線４の走査ライン間距離は，試料８に荷電粒子線４を照射したときの，試料８の帯電特性又は試料８の明度の視野内均一性に基づいて調整される。 （もっと読む）

【課題】回路パターンの検査が妨げられることなく、焦点補正を行うことができる回路パターン検査装置及び方法を提供する。
【解決手段】回路パターン検査装置では、同一の回路パターンを有する複数のチップ領域（ダイ）を有する半導体ウエハを検査するとき、チップ領域毎の検出用画像５２２，５２３，５２４をモニタ５０に表示し、チップ領域毎の検出用画像５２２，５２３，５２４から、回路パターンの欠陥を検査する。また、チップ領域毎の検出用画像５２２，５２３，５２４から所定の画像領域を切り出し、切り出した画像を用いて自動焦点補正を行う。 （もっと読む）

【課題】走査画像のコントラストやブライトネスをより適切に調整することができる走査型電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】試料上に電子ビームを走査する走査部と、電子ビームの照射によって試料から生じる電子を検出する検出器１２と、走査制御部からの走査情報と検出器１２からの検出信号とを対応させて画像データを生成する画像処理部と、検出器１２から画像処理部に送られる検出信号を調整し、画像処理部で生成される画像データの画質を調整する制御演算部とを備え、基準光出力部１２６から入力される基準光１２６ａにより検出器１２で得られた検出信号から画像処理部で生成される画像データに基づいて画質を調整する。 （もっと読む）

【課題】 観察対象部位が試料内部にある場合でも、集束イオンビーム加工装置を用いた断面加工を行って走査型電子顕微鏡や透過型電子顕微鏡を用いて精度の高い観察ができる電子顕微鏡用試料の作製方法を提供する。
【解決手段】 透明性を有する試料の内部に存在する観察対象部位とその試料の表面に存在する所定の目標物とが同一画像上に現れるように光学顕微鏡で試料を撮像し、撮像された顕微鏡像に基づいて、観察対象部位の位置情報を算出し、算出された観察対象部位の位置情報に基づいて、集束イオンビーム加工装置を用いて試料から観察対象部位を包含する微小片試料を摘出し、摘出した微小片試料を、集束イオンビームを照射することによって断面加工し、微小片試料の表面に観察対象部位を位置させる。 （もっと読む）

【課題】ポインティング手段による指定位置をユーザに正確に把握させることが可能な、画像表示方法、画像表示装置、プログラム及び情報記憶媒体を提供すること。
【解決手段】表示画面ＳＣに表示されたＳＥＭ画像ＳＩのうち、ユーザが指先ＦＧを表示画面ＳＣに接触させて指定した指定位置ＳＰを含む領域ＡＲの画像であって、指定位置ＳＰを示すマーカーＭＫを含むサブ画像ＳＵを表示画面ＳＣの一部に表示する。ユーザが指先ＦＧを表示画面ＳＣに接触させたまま指示位置ＳＰを移動させると、ＳＥＭ画像ＳＩのうち移動後の指示位置ＳＰを含む領域ＡＲの画像であって、移動後の指示位置ＳＰを示すマーカーＭＫを含むサブ画像ＳＵを表示する。ユーザが指先ＦＧを表示画面ＳＣから離す第２の指定を行うと、指定位置ＳＰを確定する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、光学条件の調整を容易に行うことを目的とする半導体検査装置等の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するために、荷電粒子線装置を備えた半導体検査装置、或いは荷電粒子線装置の画像，光学条件選択装置であって、異なる複数の光学条件にて得られた画像データと、設計データに基づいて形成される画像データとの間でマッチングを行い、当該マッチングに基づいて、前記光学条件、或いは画像の選択を行う半導体検査装置、或いは荷電粒子線装置の画像，光学条件選択装置を提案する。 （もっと読む）

【課題】走査電子顕微鏡において、装置内及び装置外からの磁場や振動などの影響により、ＳＥＭ画像に障害が発生した場合、そのＳＥＭ画像を用いて簡単に精度よく原因を特定することを目的とする。また、ＳＥＭ画像のパターンのラフネスに計測精度が影響されない測定手法を目的とする。
【解決手段】ＳＥＭ画像取得時にＹ方向の走査ゲインをゼロにすることで、走査線方向（Ｘ方向）に一次元走査を行うと共に、当該走査によって得られる画像情報を、Ｙ方向に時系列的に配列することで、二次元画像を作成する。相関関数により、当該二次元画像のずれ量データを取得し、当該データを周波数解析することで画像中に含まれる磁場や振動などを測定する。 （もっと読む）

【課題】装置コストの上昇、及びスループットの低下を抑えつつ、荷電粒子線装置に搭載される光学式顕微鏡のフォーカス合わせを精度良く行うことが可能な装置を提供する。
【解決手段】予め測定された光学式顕微鏡のフォーカスマップを基に多項式近似式を作成し、その時のウエハ高さ情報と、実際の観察時におけるウエハ高さ情報との差分を前記多項式近似式に加算した制御量を光学式顕微鏡のフォーカス制御値として入力する。 （もっと読む）

【課題】電気信号経路における伝達関数が経年劣化した場合でも最適な画像復元を実現できるようにする。
【解決手段】荷電粒子線の走査速度が異なる複数の二次信号を取得し、当該複数の二次信号間の劣化関数を算出し、その逆関数を補正フィルタとする信号処理機能を有する荷電粒子線装置において、長期間に亘り、最適な画像復元機能を提供できるように、随時又は任意のタイミングで補正フィルタのパラメータを最適な値に更新する機能を追加する。 （もっと読む）