【課題】
走査型荷電粒子顕微鏡で撮像して得られる試料の画像について、ノイズ成分を低減させた高品質な画像を取得して画像処理の精度を向上させる。
【解決手段】
撮像条件や試料情報に基づいてビーム強度波形を計算し、また、ビーム強度波形以外による分解能劣化要因も劣化モデルの対象として画像復元を行うことにより、様々な条件において高分解能な画像を取得することを可能とした。さらに、半導体検査および半導体計測用の走査型荷電粒子顕微鏡において、画像復元後の画像を用いてパターン寸法計測、欠陥検出、欠陥分類等に用いることにより、計測精度向上や欠陥検出、欠陥分類の高精度化を可能とした。 （もっと読む）

【課題】階調領域の設定にユーザーの積極的な関与が必要であり、作業効率が悪い。
【解決手段】元画像について、一方の軸を表示階調、他の軸を頻度とするヒストグラムを生成する。次に、当該ヒストグラムに現れる全ての谷を対象に、１つの谷から隣の谷までの区間を１つの選択領域に設定し、表示階調範囲の全域を複数の選択領域に分割する。次に、優先度に従って、複数の選択領域の中から少なくとも一つを候補領域に選択し、当該候補領域の階調情報を強調するように元画像を階調変換した画像を画面上に表示する。 （もっと読む）

【課題】簡単で直感的な操作で試料を所望の姿勢及び位置に移動する。
【解決手段】走査電子顕微鏡１０の多軸ステージ４０を水平回転、傾斜、水平移動させるに際して、二次電子検出器２０の信号から得られるＳＥＭ像から指定用画像を作成して画像表示装置６１に表示しつつ、マウス６２で指定用画像を回転、傾斜、水平移動させる操作を行う。座標生成手段５２は現在の多軸ステージ４０の座標を操作後の指定用画像に基づいて変換し、多軸ステージ駆動制御手段５３は変換後の座標により多軸ステージ４０を駆動する。 （もっと読む）

【課題】容易に荷電粒子ビームの軸合わせができる荷電粒子ビームの軸合わせ方法を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビームの軸合わせ方法は、試料上における荷電粒子ビームの入射方向での焦点位置、第１アライメントコイルの励磁電流、および第２アライメントコイルの励磁電流を制御して、少なくとも第１〜第６画像データを取得する画像データ取得工程（Ｓ１０）と、少なくとも前記第１〜第６画像データから、荷電粒子ビームの軸合わせのための第１アライメントコイルの励磁電流値および第２アライメントコイルの励磁電流値を算出する演算工程（Ｓ１１〜Ｓ１３）と、を含む。 （もっと読む）

【課題】ＦＩＢ加工装置による加工で生じた試料のダメージ層の除去の精度は作業者の技量に依存する。
【解決手段】イオンビームにより発生したダメージ層の除去加工中に、電子ビーム光学システムで形成された電子ビームを試料に照射することにより発生する透過電子を二次元検出器で検出し、当該二次元検出器で得られたディフラクションパターンのぼけ量に基づいてダメージ層の除去加工を終了するタイミングを判定する。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で放電を防止し、良好な画像を高い検出効率で得る。
【解決手段】シンチレーター２１をフォトマルチプライヤー２３の入射側面２３ａに、電子をシンチレーター２１に引き込むシンチレーターキャップ２２をシンチレーター２１の周囲に配置する。フォトマルチプライヤー２３はその周囲に真空シールを設け、試料室に配置する。シンチレーターキャップ２２とフォトマルチプライヤー２３との間には不透明素材からなる絶縁部材２５を配置し、絶縁部材２５はシンチレーターキャップ２２とフォトマルチプライヤー２３を絶縁すると共に、フォトマルチプライヤー２３の側周部２３ｂを覆いフォトマルチプライヤー２３への光の入射を防止する。シンチレーター２１とフォトマルチプライヤー２３の入射側面２３ａとの間には、光学顕微鏡の照明光を遮断するバンドフィルター２７を配置し、光学顕微鏡との同時観察を可能とする。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイスのようなパターンの検査において、特定のパターン上の欠陥を選択的に検出することが欠陥発生原因を推定するのに有用である。そこで、本願発明は、試料上のパターン形状に応じて検査対象とする領域を設定することができる荷電粒子線装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本願発明は、試料の画像に基づいて得られるテンプレート画像を用いて試料上のパターンの輪郭を抽出し、前記パターンの輪郭に基づいて検査対象領域を設定し、被検査画像を比較画像と比較して欠陥候補を検出し、前記検査対象領域と当該検査対象領域に含まれる前記欠陥候補との位置関係を用いて、試料を検査することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＳＥＭ装置での検査速度高速化技術の提供。
【解決手段】ウェーハ下方の第１サーチダイの左下隅がカメラ中央付近に位置するようにステージを移動し、パターンマッチ用テンプレート画像を取得する。第１サーチダイの右隣のダイを第２サーチダイとし、第２サーチダイの上隣のダイを第３サーチダイとし、ステージを移動し、上記テンプレート画像を用いて自動でパターンマッチを実行することで、第２サーチダイ及び第３サーチダイのパターンの厳密な座標値を取得する。第２サーチダイのパターンマッチ座標と第３サーチダイのパターンマッチ座標の関係より、上隣ダイのパターンへの移動量を算出した、第１サーチダイの上隣のダイのパターンが存在すると予想される座標へステージを移動。テンプレート画像を用いてパターンマッチを実行することで、観察中のパターンの厳密な座標値を更新取得することを繰り返して精度を高めてゆく。 （もっと読む）

【課題】ユーザーの負担を軽減し、標識を用いることによって生じていた、強いコントラストのアーティファクトや試料の汚染，適用試料の制約を排除した多軸再構成手法を実現可能とする画像再構成システムを提供する。
【解決手段】試料を異なる試料傾斜軸で傾斜させて撮影した複数の傾斜画像を得、回転刻み角度毎に位置ずれ補正を行い、回転された観察対象物を異なる角度ステップで傾斜して撮像し、それぞれの傾斜画像群からそれぞれ作成した２つの再構成画像の位置ずれを補正した２つの再構成画像を作成し、該２つの再構成画像を重ね合わせてひとつの再構成画像を作成する。 （もっと読む）

【課題】光学顕微鏡を用いたグローバルアライメント（ウェーハの位置ずれ・回転検出）を安定かつ自動に行う技術を提供する。
【解決手段】グローバルアライメント用のパターンとして、複数のアライメントパターン候補を算出し（１０７）、アライメントパターン毎に複数のマッチング用データを作成し（１０８）、光学顕微鏡からの画像信号に基づく画像（１１３）とアライメントパターンとして適正度の高いアライメントパターン候補順にアライメントパターン毎にマッチング用データとマッチングを行い（１１４）、マッチングの結果に基づき（１１５）ウェーハの位置ずれ量・回転量を算出する（１１６）。 （もっと読む）