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国際特許分類[H01J37/22]の内容

国際特許分類[H01J37/22]に分類される特許

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【課題】各ピクセルの輝度値の信頼性が均一な画像を得ることができ、1フレーム分の画像の取得に要する時間を効果的に短縮することが可能な、電子顕微鏡の制御方法、電子顕微鏡、プログラム及び情報記憶媒体を提供すること。
【解決手段】電子ビームが電子顕微鏡像を構成する所与のピクセルに対応する試料上の位置を照射しているときに連続的に取得された複数の検出信号の平均値mを求める処理と、求めた平均値mに基づき、検出信号の母集団の期待値μが信頼区間m±kに位置する確率γが所定の閾値pを超えたか否かを判定する処理とを、確率γが所定の閾値pを超えるまで繰り返し、確率γが所定の閾値pを超えたと判定された場合に、求めた平均値mを当該照射位置に対応する電子顕微鏡像のピクセル値として出力し、且つ電子ビームの走査として電子ビームの照射位置を移動させるための制御を行う。 (もっと読む)


【課題】 中心から外れた散乱関数を用いて、電子近接効果を補正する方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、特に、直接または間接描画リソグラフィおよび電子顕微鏡検査において使用される、電子ビームを投射する方法を開示する。特に、50nm未満の限界寸法または分解能では、ターゲットと相互作用しているビームにおける電子の前方および後方散乱によって生じる近接効果を補正しなければならない。このため、ターゲットの形状に関する点像分布関数の畳み込み積分が従来使用されている。従来技術では、前記点像分布関数はその中心がビームの中心にあり、ガウス関数または指数分布則を用いる。本発明によれば、点像分布関数の少なくとも1つの構成要素は、ビームの中心に位置しない最大値を有する。好ましくは、最大値は後方散乱ピークに位置する。有利には、点像分布関数はガンマ分布則を用いる。 (もっと読む)


【課題】重い原子及び軽い原子を同時に観察可能な電子顕微鏡像を生成する画像処理の方法を提供する。
【解決手段】方法は、走査透過型電子顕微鏡により試料を撮像した暗視野像であって、走査透過型電子顕微鏡の光軸からの第1角度と、第1角度よりも大きい第2角度との間に散乱した電子を検出して得られた暗視野像を取得し、この暗視野像と共に撮像された明視野像であって、第1角度よりも小さい第3角度以内に散乱した電子を検出して得られた明視野像を取得し、暗視野像の明暗を反転して反転像を生成し、反転像の各画素の輝度と、反転像の各画素に対応する明視野像の画素の輝度との差を、各画素の輝度とする差分像を生成する。 (もっと読む)


【課題】走査型電子顕微鏡装置を操作するための使用しやすいユーザ・インタフェースを提供すること。
【解決手段】低倍率基準画像と高倍率画像とを同一スクリーン上で組み合わせて、電子顕微鏡の高倍率画像に慣れていないユーザが、サンプル上のどこで画像が得られているかを容易に判断し、その画像とサンプルの残りとの関係を理解できるようにする走査型電子顕微鏡装置を操作するためのユーザ・インタフェース。タッチ・スクリーンを介してユーザが指示を入力することにより、電子画像の視野を変えてサンプルの異なる画像を取得することができる。 (もっと読む)


【課題】 高アスペクト構造であっても、パターン底部の寸法を高精度に計測できる荷電粒子線装置及び計測方法を提供する。
【解決手段】 アスペクト比の高いパターンが形成された試料のパターン寸法底部を計測する方法において、試料の同一領域に荷電粒子線を第1方向及び第1方向とは逆の第2方向に走査させたときにそれぞれ発生する信号荷電粒子に基づく第1走査像と第2走査像とを比較し、走査像の信号強度が小さい方を真値とし、走査像を再構築し、再構築した走査像を用いて試料に形成されたパターン底部の寸法を計測する。また、その方法を実現する荷電粒子線装置。 (もっと読む)


【課題】深さ方向に高アスペクト比を有するパターンの検査又は測定時に使用する予備帯電(プリドーズ)において、適切な照射条件の設定が、プリドーズ後に撮像された画像を目視するオペレータの判断に委ねられている。すなわち、照射条件の設定が属人的である。
【解決手段】予備帯電(プリドーズ)に使用する電子ビームの照射条件を変更しながら撮像された画像を画像分析し、分析結果に基づいて適切な照射条件を定量的に自動判定する。 (もっと読む)


【課題】ビームを正確に計測するのに有利なビーム計測装置を提供する。
【解決手段】ビーム計測装置は、エッジを有する遮蔽部材22と、該遮蔽部材22で遮蔽されなかったビーム24を検出する検出器とを含む検出部と、エッジをビーム24が横切るように遮蔽部材22とビーム24との間の相対移動を生じさせる相対移動機構と、制御部とを有する。ここで、制御部は、検出部と相対移動機構とを制御して、エッジ上の複数の箇所それぞれに関し、エッジをビーム24に横切らせて検出器で信号列を得、複数の箇所でそれぞれ得られた複数の信号列から、相対移動における相対位置が対応する信号どうしを加算して、加算信号列を得、加算信号列からビーム24の強度分布を求める。 (もっと読む)


【課題】試料の周囲を低真空に保持し、且つ、試料の周囲の構造が簡単な荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】荷電粒子線装置は、試料を支持する試料ステージと、荷電粒子線源からの荷電粒子線を試料に集束させる荷電粒子線光学系と、該荷電粒子線光学系を収納する荷電粒子線カラムと、前記荷電粒子線カラムに設けられた第1の差動排気用絞りと、該第1の差動排気用絞りを介して前記荷電粒子線カラムに接続するように配置された前試料室と、前記前試料室に設けられた第2の差動排気用絞りと、前記荷電粒子線カラムを真空排気する第1の真空ポンプと、前記前試料室を真空排気する第2の真空ポンプと、を有する。 (もっと読む)


【課題】デフォーカス量を精度よく調整することが可能な、透過型電子顕微鏡、デフォーカス量調整方法、プログラム及び情報記憶媒体を提供すること。
【解決手段】透過電子顕微鏡像を取得する像取得部22と、電子線を傾斜させない状態で取得した第1の透過電子顕微鏡像に対してフーリエ変換を行ってフーリエ変換像を生成し、前記フーリエ変換像において高周波成分が多くなる方向を検出する方向検出部24と、試料に照射される電子線を、検出された方向に傾斜させるための制御信号を生成して偏向器制御装置5に出力する制御信号生成部26と、前記第1の透過電子顕微鏡像と、電子線を検出された方向に傾斜させた状態で取得した第2の透過電子顕微鏡像の相互相関をとって、前記第1及び第2の透過電子顕微鏡像間の位置ずれ量を求め、求めた位置ずれ量に基づきデフォーカス量を検出するデフォーカス量検出部28とを含む。 (もっと読む)


【課題】本発明は、エネルギーフィルタのエネルギー分解能を向上することを目的とする荷電粒子線装置の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するための一態様として、試料から放出される荷電粒子をエネルギーフィルタに向かって偏向する偏向器を備えた荷電粒子線装置において、当該偏向器の複数の偏向条件ごとに、エネルギーフィルタへの印加電圧を変化させたときに得られる輝度値の変化を求め、当該輝度値の変化が所定の条件を満たす偏向条件を、前記偏向器の偏向条件として設定する荷電粒子線装置を提案する。 (もっと読む)


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