【課題】コントラストを向上させた荷電ビーム装置を提供する。
【解決手段】試料を検査する荷電粒子ビーム装置は、一次荷電粒子ビーム（７）を発生させる荷電粒子ビーム源（５）と、一次荷電粒子ビームを試料（３）上に差し向ける対物レンズ装置（40，45）と、試料から飛び出た二次荷電粒子を加速する減速界型装置と、中央開口（16）を備えていて、二次粒子を検出する少なくとも２つの方位検出器セグメントを含む第１の検出器装置（15，150）とを有し、対物レンズ装置は、試料からの飛び出し角度の異なる粒子が対物レンズと検出器装置との間で試料から実質的に同一距離のところにクロスオーバを呈するよう構成され、対物レンズとクロスオーバ（90）との間に設けられたアパーチュア（100）が検出器装置（15）の中央開口よりも小さい開口を有する。 （もっと読む）

【課題】高い装置操作スキルを必要とせず、試料、プローブや試料台等の加工対象物を加工することができる装置および方法を提供する。
【解決手段】先ず、イオンビームの走査信号と加工対象物の吸収電流に基づいて加工対象物の形状を求める形状生成処理を行い、次に、加工対象物の像に加工パターンを配置する加工パターン配置処理を行い、更に、イオンビーム照射による加工対象物の加工中に加工対象物の像と加工パターンの比較結果から、イオンビーム照射を停止するイオンビーム停止処理を行う。 （もっと読む）

【課題】エネルギーの異なる信号荷電粒子の合成機能を自動化する。
【解決手段】一次荷電粒子線を試料に照射する荷電粒子源と、試料から発生した信号荷電粒子のうち第１のエネルギーを有する第１の信号電子を検出する第１の検出器と、試料から発生した信号荷電粒子のうち第２のエネルギーを有する第２の信号電子を検出する第２の検出器と、第１の信号電子の信号強度と第２の信号電子の信号強度の合成比を変化させ、各合成比に対応する検出画像を生成する第１の演算部と、各合成比について生成された検出画像の所定の２つのエリアに対応する信号強度の比を算出する第２の演算部と、信号強度の比の変化に基づいて、検出画像の取得に使用する混合比を決定する第３の演算部とを荷電粒子線装置に搭載する。 （もっと読む）

【課題】蛍光マーカーを付着させた標的タンパク質の位置の特定を、同時に多数行う事のできる顕微鏡システムを実現する。
【解決手段】試料３０６中の標的タンパク質に付与した蛍光マーカーを光３２４により励起し、蛍光マーカーからの光３２８を放物面鏡３１４により集光して光検出器３６０で検出すると共に、荷電粒子ビーム３０４を走査する事により蛍光マーカーを不活性にすることによって励起位置を特定する。同時に、放出される二次電子３３２を放物面鏡３１４の表面に印加された電界により二次電子検出器３２０へ向けて偏向させる事により検出して試料像を形成する。 （もっと読む）

【課題】一次線の光軸近傍を軌道とする検出対象電子と、その外側を軌道とする検出対象電子とを簡易な構成で分離して検出する。
【解決手段】一次線２が通過するための開口４が形成されているとともに、両面がシンチレーション面を形成しているプレート５と、エネルギーフィルタ３と、試料１０と対向する側のシンチレーション面に一次線２の照射に応じて試料１０から発生する第１の検出対象電子２１が到達して生じるシンチレーション光２３を検出するための第１の光検出器７ａと、一次線２の照射に応じて試料１０から発生し該プレート５の開口４を通過してエネルギーフィルタ３により追い返された第２の検出対象電子２２ａが到達して生じるシンチレーション光２４を検出するための第２の光検出器７ｂとを備える。 （もっと読む）

【課題】 試料面から放出される反射電子や二次電子の試料面側への再反射を防止すると共に、電子検出器での電子検出量を増大させる。
【解決手段】 電子ビーム照射装置において、電子ビームを試料面上に照射するための対物レンズ１０と、対物レンズ１０と試料面２０との間に配置され、試料面２０から放出される反射電子或いは二次電子を検出する電子検出器３０と、電子検出器３０と試料面２０との間に配置され、試料面２０から放出される反射電子或いは二次電子の試料面２０側への再反射を防止する反射防止機構４０を備えている。反射防止機構４０は、試料面２０からの反射電子或いは二次電子の螺旋軌道に沿った複数の孔４２を有している。 （もっと読む）

【課題】回路パターンを有する半導体装置等の検査において、陰影コントラストの強調された像を取得することを可能にし、浅い凹凸の微細な異物等を高感度に検出することを可能にする荷電粒子ビーム検査技術を提供する。
【解決手段】高分解能観察の為に電子光学系の対物レンズに電磁重畳型対物レンズ１０３を用い、その対物レンズを用いて電子ビームを細く絞り、対物レンズ内にアシスト電極１０６と左・右検出器１１０、１１１を設け、その電子ビームを試料１０４に照射することで発生する二次電子の速度成分を選別し、さらに方位角成分を選別して検出する。 （もっと読む）

【課題】粒子光学顕微鏡において、光電子増倍管が大きい結果生じるシンチレータと光電子増倍管との間での信号損失、及び、過剰に流れる電流を抑制する。
【解決手段】粒子光学鏡筒を用いて、荷電粒子の結像ビームを試料へ案内する手順、前記結像ビームを前記試料へ照射することで、前記試料から出力放射線束を放出させる手順、検出器を用いて前記出力放射線の少なくとも一部を検査する手順に加え、調節可能な電気バイアスを供する電源と接続する固体光電子増倍管を有するように前記検出器を実装する手順、前記固体光電子増倍管の利得値を調節するように前記バイアスを調節する手順、前記固体光電子増倍管が、該固体光電子増倍管の飽和閾値未満で動作するように、前記利得値を、前記放射線束の大きさに一致させる手順である。 （もっと読む）

【課題】走査画像のコントラストやブライトネスをより適切に調整することができる走査型電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】試料上に電子ビームを走査する走査部と、電子ビームの照射によって試料から生じる電子を検出する検出器１２と、走査制御部からの走査情報と検出器１２からの検出信号とを対応させて画像データを生成する画像処理部と、検出器１２から画像処理部に送られる検出信号を調整し、画像処理部で生成される画像データの画質を調整する制御演算部とを備え、基準光出力部１２６から入力される基準光１２６ａにより検出器１２で得られた検出信号から画像処理部で生成される画像データに基づいて画質を調整する。 （もっと読む）

【課題】大型の試料であっても大気雰囲気あるいはガス雰囲気で観察することが可能な荷電粒子線装置ないし荷電粒子顕微鏡を提供する。
【解決手段】真空雰囲気と大気雰囲気（ないしガス雰囲気）を仕切る薄膜を採用する構成の荷電粒子線装置において、荷電粒子光学系を格納する荷電粒子光学鏡筒と、当該荷電粒子光学鏡筒から出射される一次荷電粒子線が前記薄膜まで到達するための経路を真空雰囲気に維持する筐体と、上記荷電粒子光学鏡筒と第１の筐体を装置設置面に対して支持する機構とを備え、当該支持機構として、大型試料を搬入するための開放口を有する筐体、あるいは支柱など筐体以外の形状の機構を採用する。 （もっと読む）