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国際特許分類[H01J37/244]の内容

電気 (1,674,590) | 基本的電気素子 (808,144) | 電子管または放電ランプ (32,215) | 放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの (7,637) | 細部 (4,344) | 検出器;関連の構成要素またはそのための回路 (320)

国際特許分類[H01J37/244]に分類される特許

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【課題】高分解能観察において、収差の変化を伴う時間的遅延を最小に留め、且つ、収差係数の算出精度が高い収差補正方法及び収差補正装置の提供を目的とする。
【解決手段】収差補正子を有する走査透過電子顕微鏡において、複数の検出面を備える検出器に対して電子線を入射させ、前記電子線による暗視野像および前記検出面毎に前記電子線の角度情報を含む明視野像を同時に撮像し、前記暗視野像を観察像の位置基準として前記複数の明視野像から収差係数を算出し、算出した前記収差係数に基づき、収差が低減するように前記収差補正子を制御する。 (もっと読む)


【課題】半導体製造工程途中のウエハ検査で、高分解能を維持して浅い凹凸、微小異物のレビュー、分類を高精度に行う目的で、二次電子を検出系の中心軸を合わせると共に、検出系の穴による損失を避けて高収率な検出を実現する。
【解決手段】高分解能化可能な電磁界重畳型対物レンズにおいて、試料20から発生する二次電子38を加速して対物レンズ10による回転作用の二次電子エネルギー依存性を抑制し、電子源8と対物レンズ10の間に設けた環状検出器で二次電子の発生箇所から見た仰角の低角成分と、高角成分を選別、さらに方位角成分も選別して検出する際、加速によって細く収束された二次電子の中心軸を低仰角信号検出系の中心軸に合わせると共に、高仰角信号検出系の穴を避けるようにExBで二次電子を調整・偏向する。 (もっと読む)


【課題】電子顕微鏡画像の観察中においても、試料台と電子顕微鏡レンズとの位置関係を確認可能とする。
【解決手段】電子線撮像手段11を用いて試料を観察する前に、電子線撮像手段11を用いて試料の観察を開始するための所定操作が行われたことを契機として、試料室内観察手段を用いてこの時点における試料を含んだ試料室内画像を試料室内基準画像KGとして取得するための試料室内基準画像取得手段202と、少なくとも電子線撮像手段11で試料を観察する間の、先端部の回動位置に関する位置情報を逐次取得するための位置情報取得手段204と、位置情報取得手段204から取得した位置情報に基づいて、先端部の回動位置における姿勢を逐次仮想イメージKIとして生成し、電子線撮像手段11で試料を観察する間に、試料室内基準画像取得手段202で取得された試料室内基準画像KG上に重ねて表示させるための仮想イメージ生成手段206とを備える。 (もっと読む)


【課題】微小な試料の温度を精度良く測定すること。
【解決手段】電子銃10から放出された電子の試料1への衝突によって試料表面から放出された二次電子および熱電子をシンチレータ20によって光子に変換し、光電子倍増管30で光子数を増加させるとともに電気信号に変換し、光電子倍増管30が出力する電気信号を電気信号増幅器40が増幅し、温度変換器50が電気信号増幅器40によって増幅された電気信号と校正曲線と基づいて試料1の温度を算出するよう構成する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、パターンから放出される電子を適正にパターン外に導くための電界を形成する電子ビーム走査方法、及び走査電子顕微鏡の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するために、帯電を形成するための電子ビームを、試料に照射する際に、試料上に形成されたパターンのパターン中心を対称点とする第1の位置と第2の位置に、第1の電子ビームを照射した後、対称点を中心とした第1と第2の位置と同一の半径上であって、第1と第2の照射位置との間の2つの中心位置に更に第1の電子ビームを照射し、更にその後、半径上の既走査位置間の中心位置への第1の電子ビームの照射を繰り返す。 (もっと読む)


【課題】選択を特に後方散乱電子及び二次電子に従って容易に行なうことができる検出装置を有する電子ビーム装置を提供すること。
【解決手段】電子ビーム装置(7)は、電子源(8)と、対物レンズ(12)と第1および第2の検出器(19,21)と第2の検出器(21)に割り当てられ、第2の検出器(21)の物体側に配置された逆電界格子(36)を備えている。物体(18)により放出され第1の検出器(19)の孔を通過した電子の一部は、逆電界格子(36)により偏向され、第2の検出器(21)により検出されないように、逆電界格子(36)に電圧が印加される。 (もっと読む)


【課題】物体を広い領域にわたり所望の形状に加工する。
【解決手段】粒子ビームを物体の表面にわたって走査して物体から出射する電子を検出するステップと、検出した電子に基づき物体表面の高さを求め求め、予め決定された物体表面の高さとの間の高低差を求めるステップと、物体の表面における複数の場所それぞれの加工強度を、求めた高低差に基づき決定するステップと、物体の複数の場所から材料を除去するか又は物体の複数の場所に材料を堆積するために、決定した加工強度に基づき、粒子ビームを複数の場所に指向させるステップと、を有する。 (もっと読む)


【課題】走査電子像と光学像との同時観察が可能であり、而も構造も簡単な電子顕微鏡装置を提供する。
【解決手段】電子ビームを走査する走査手段10と、電子ビームが走査された試料8から発せられる電子11を検出する電子検出器12を有し、該電子検出器からの検出結果に基づき走査電子像を得る走査型電子顕微鏡2と、照明光を射出する発光源13を有し、試料に照明光を照射して該試料からの反射光を受光して光学像を得る光学顕微鏡3とを具備し、前記電子検出器は電子/光変換する蛍光体層と、該蛍光体層からの蛍光の波長帯域の全て或は略全てが透過する様に制限した波長フィルタと、該波長フィルタを透過した前記蛍光を受光し、光/電気変換する波長検出素子を有し、前記照明光の前記波長フィルタを透過する波長帯域の光量が前記走査電子像の劣化限度を超えない様にした。 (もっと読む)


【課題】本発明は、小型で高効率の二次信号電子の検出系を実現することを目的とする。
【解決手段】一次電子線を走査するために用いる偏向器を用い、試料から放出される二次信号電子に対してのみ偏向作用する電磁界を重畳的に発生する。すなわち、一次電子線に対しては電界の偏向作用と磁界の偏向作用が相殺され、かつ、二次信号電子に対しては偏向作用が働く電界及び磁界を重畳させるオフセット電流及びオフセット電圧を、一次電子線を走査させる電界又は磁界を発生する偏向器に発生させる。 (もっと読む)


【課題】高SN比を維持しつつ形状コントラストや陰影コントラストを強調した荷電粒子線画像が得られる荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】
電子源と試料の間に、二次電子ないし反射電子を衝突させて3次電子を発生させるための金属板を備え、この金属板を各々独立に電圧を印加可能な分割領域により構成する。さらに金属板に設けられる一次ビームの通過孔を電子線光軸から十分離れた場所に設ける。 (もっと読む)


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