【課題】
複数本の二次電子ビーム調整を、効率良く実施することのできる半導体検査装置および欠陥検査方法を提供することを目的とする。
【解決手段】
被検査対象物に複数の照射光を照射する照射光学系と、前記照射光学系により照射され、該被検査対象物から放出される複数の光を検出する検出光学系と、前記検出光学系で検出した複数の光に基づく信号の強度を比較する比較部と、前記比較部で比較された結果に基づき該複数の光の位置と前記検出光学系における該複数の光の検出位置とのずれ量を算出する補正量算出部と、該複数の光に基づく信号を処理して該被検査対象物の検査を行う処理部とを備える演算処理部と、を備え、前記検出光学系は、さらに、前記補正量算出部で算出されたずれ量に基づき前記照射光学系を調整する制御部を有することを特徴とする検査装置である。 （もっと読む）

【課題】精度の良い試料表面検査を行える方法及び装置を提供する。
【解決手段】電子線式試料表面検査装置を用いて試料表面を検査する方法であって、前記試料表面検査装置の電子銃から発生した電子ビームを前記試料表面に照射し、前記試料表面から発生した二次電子を検出器の電子検出面に向けて結像させ前記試料表面を検査する方法において、前記検出器の検出面における前記二次電子の結像条件を、前記試料表面の電位が前記試料表面に照射された電子ビームの量に応じて変化するように制御する。 （もっと読む）

【課題】 プラズマ発生装置を備えていても、その下流側に設けられたイオンビーム電流測定装置によるイオンビーム電流の測定に誤差が生じるのを抑制する。
【解決手段】 このイオンビーム照射装置は、プラズマ発生装置２４と、その下流側に設けられたイオンビーム電流測定装置３０とを備えている。イオンビーム電流測定装置３０は、ビーム電流検出器３２、第１抑制電極３４および第２抑制電極３６を備えている。更に、負の第１抑制電圧Ｖ₁ を第１抑制電極３４に印加する第１抑制電源４０と、正の第２抑制電圧Ｖ₂ を出力する第２抑制電源４２と、プラズマ発生装置２４がオンのときは、第２抑制電極３６を第２抑制電源４２に接続し、プラズマ発生装置２４がオフのときは、第２抑制電極３６を第２抑制電源４２から切り離して第１抑制電源４０に接続する切り換え器４４とを備えている。 （もっと読む）

【課題】第一に電子顕微鏡画像と光学画像の視野のずれを最小限にすることであり、第二にデジタル映像機能を備えた光学画像装置により得た色情報を電子顕微鏡画像に付加することであり、第三に、装置の全体の構造を簡略化することである。
【解決手段】ミラー兼用反射電子検出器を使用し、試料に入射する電子ビームと、光学画像装置からの光軸を一致させることを最も主要な特徴とする。反射電子検出器に光学ミラーの機能を付加することで装置の全体の構造を簡略化するとともに、電子顕微鏡のビーム軸と光学画像装置の光軸を一致させる。 （もっと読む）

【課題】本発明は試料ホルダ及びマルチビームシステムに関し、プリティルトホルダを用いて薄膜加工とＳＴＥＭ観察を試料の乗せ替え無しに行なうことができる試料ホルダを提供することを目的としている。
【解決手段】透過電子検出器２５を電子光学系の電子ビームが試料２３を透過する延長線上に備え、加工状況を２次電子像と走査透過電子像を少なくとも２種類以上同時或いは交互に観察可能になるように試料配置する試料ホルダを有するマルチビームシステムに用いる試料ホルダであって、所定の厚みまで加工した試料を固定するメッシュ２３ｂと、該メッシュに加工した試料をセットするチップオンカートリッジ３０と、該チップオンカートリッジが取り付けられる試料ホルダ部４０とから構成される。 （もっと読む）

【課題】入射像面および入射瞳面を有し、試料を通過した電子の分析方法として１種類またはそれ以上の種類の分析方法を実施可能とする、適応性の高い分析系を備える透過電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】試料面内９ｂに試料を配置した透過電子顕微鏡は、対物レンズ１１ｂ、複数のレンズを有する第１投影レンズ系６１ｂ、複数のレンズを有する第２投影レンズ系６３ｂ、および分析系を備える。試料面９ｂは中間像面７１内に結像され、対物レンズ１１ｂの回折面１５ｂは中間回折面６７ｂ内に結像され、（ａ）中間像面は分析系の入射像面内に結像され、中間回折面は分析系の入射瞳面内に結像されるか、または、（ｂ）中間像面７１は入射瞳面６５ｂ内に結像され、中間回折面６７ｂは入射像面２１ｂ内に結像される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、測定点や検査点が多数存在する場合であっても、帯電の影響に基づく、測定，検査精度の低下を抑制し得る光学条件の設定を可能とする荷電粒子線装置の光学条件設定方法、及び荷電粒子線装置の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するために、電子線で試料表面を走査することによって試料から放出される電子の検出に基づいて、前記試料上のパターンを測定する走査電子顕微鏡、或いは光学条件設定方法であって、試料上の複数の測定点の測定値から、測定数に対する測定値の変化を求め、当該変化の傾斜がゼロ、或いはゼロに近くなるように、試料表面電界を制御する走査電子顕微鏡、或いは光学条件設定方法を提案する。 （もっと読む）

【課題】陰極軸方向（スピン偏極電子の進行方向）への磁気異方性を発現することができ、もってスピン偏極率の測定や磁性体試料の解析・表面分析などを効率よく行うことが可能な電子光学機器を提供すること。
【解決手段】スピン偏極率の測定や磁性体試料の解析を効率よく行うことができる電子光学機器は、スピン偏極電子のスピンの向きを電子の進行方向を含む面内に回転させるスピン回転器と、前記スピン回転器を通過したスピン偏極電子ビームの電子エネルギーを選別するスリットと、を備え、前記スピン回転器は、電場・磁場重畳型の９０°偏向器であり、前記スピン偏極電子のエネルギー分布を測定することができる。 （もっと読む）

【課題】出力波高値の変動を抑え、高いＳＮ比を備える荷電粒子線装置を提供することを課題とする。
【解決手段】荷電粒子線装置において、出力信号が当該検出器へ一つの荷電粒子が入射される状態における出力信号であるか、当該検出器へ複数の荷電粒子が入射される状態における出力信号であるかを判定する判定部と、前記出力信号が当該検出器へ一つの荷電粒子が入射される状態における出力信号であると判断された場合には、パルスカウント法による信号処理により画像形成を行い、前記出力信号が当該検出器へ複数の荷電粒子が入射される状態における出力信号であると判断された場合には、アナログ法による信号処理により画像形成を行う演算部を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。 （もっと読む）

【課題】複数のカラムを備える粒子ビーム装置に於いて、試料との相互作用粒子の高エネルギー分解能と検出効率を実現する。
【解決手段】第１粒子ビームカラム２、第２粒子ビームカラムおよび少なくとも１つの検出器３４を有する粒子ビーム装置に於いて、検出器は第１中空体３６，３７内部の第１吸入口３９，４０を有する第１キャビティ３５，３８内において、第１粒子ビームカラム２および第２粒子ビームカラムが配置される平面とは異なる平面上に配置される。第１粒子ビームカラム２上には少なくとも１つの制御電極４１が配置され、第２粒子ビームカラムは終端電極を有する。第１相互作用粒子および／または第２相互作用粒子が第１吸入口３９，４０経由で第１中空体３６，３７内部の第１キャビティ３５，３８に入射するように、第１中空体電圧、制御電極電圧、および／または終端電極電圧を選択する。 （もっと読む）