【課題】同一の被覆チャンバの中でアーク蒸着とスパッタリング工程の両方で基体を被覆する方法および被覆装置の提供。
【解決手段】蒸着装置１は、ガス雰囲気を設定及び維持するプロセス・チャンバ３を含み、プロセス・ガス用の入口４及び出口５、並びにアノード６、６１、及びターゲットとして形成されターゲット材料２００、２０１、２０２を含む円筒形の蒸着カソード２、２１、２２を有する。さらに電気的なエネルギー源７、７１、７２が、アノード６、６１とカソード２、２１、２２との間に電位を発生させ、円筒形のカソード２、２１、２２のターゲット材料２００、２０１、２０２を電気的なエネルギー源によって気相に移すように設けられ、また磁場を発生させる磁場源８、８１、８２が設けられる。プロセス・チャンバ３内には、円筒形の蒸着カソード２、２１及び円筒形のアーク・カソード２、２２が同時に設けられる。 （もっと読む）

【課題】蒸着材料の交換が容易で寿命が長い蒸着源を提供する。
【解決手段】本発明の蒸着源３では、棒状電極４０と蒸着材料３５が接触する面に、それぞれ雄ねじ４１と雌ねじ４２が形成され、棒状電極４０を取り付けた状態では、棒状電極４０と蒸着材料３５が螺合されている。棒状電極４０と蒸着材料３５は螺合することで互いに強く密着しているので、アーク放電を繰り返すことで蒸着材料３５が変形したときには、蒸着材料３５がキャップ３６から離間することはあっても、棒状電極４０に密着した状態が維持されるので、アーク放電の停止が起こらない。 （もっと読む）

【課題】トリガ放電を安定化させ、アーク放電の不具合の発生を抑制可能な同軸型真空アーク蒸着源及びこれを用いた蒸着装置を提供する。
【解決手段】筒状のアノード電極６と、中心軸線をアノード電極６の中心軸線と略一致させアノード電極６内部に配置された柱状の蒸着材料７と、蒸着材料７の周囲に密着配置された筒状の絶縁部材８と、絶縁部材８の周囲に密着配置された筒状のトリガ電極９を有する。トリガ電極９と蒸着材料７の間でトリガ放電を行いアノード電極６と蒸着材料７との間にアーク放電を誘起させ、蒸着材料７側面から放出された微小粒子をアノード電極６の開放口から放出させる。絶縁部材８に、その軸線方向に延び当該絶縁部材８を部分的に切断するスリット部２０を設け、トリガ電極９に、その軸線方向に延び当該トリガ電極９を部分的に切断するスリット部３０を設ける。締付機構４０によりトリガ電極９を締め付ける。 （もっと読む）

【課題】改良された取付けおよび取外し能力を有するターゲット構成を提供する。
【解決手段】ターゲット構成は平面（Ｅ）に沿ったプレートを含み、それは、この一般的な平面（Ｅ）に対して傾斜した第１の楔表面（５_u）と同様に実質的に平面状で総称的な平面（Ｅ）に対して傾斜した第２の楔表面（５_l）とによって規定された縁（７）を有する。２つの楔表面は、前述の平面（Ｅ）に沿い、かつプレートのより中央の区域から外側に向かう方向において、互いに変化する。 （もっと読む）

比較的幅の広いマグネトロンスパッタカソード電極を実現するために、支持体（２）の真空側に、背面プレート（３）を伴ったスパッタターゲット（４）が配置される。この背面プレートは支持体（２）に対して隙間（１４）を有している。背面プレート（３）は冷却プレートとして構成されている。この冷却プレート内には冷却チャネル（１５）が存在する。この冷却チャネルは給水部（１６）を介して支持体（２）を通って、冷却液体を供給する。ここでこの冷却液体は、帰り管（１７）を介して支持体（２）内を再び流れ出る。雰囲気側には磁石装置（５）が設けられている。
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真空被覆設備において回転可能な管状ターゲットに給電させるエンドブロックが開示されている。このエンドブロックは、交流モードで運転される場合におけるジュール加熱の影響を低減させる電気的回転接触部を有している。周知のエンドブロックと比較すると、このジュール加熱の低減は、接触リング（４１０）と周方向に沿って取り付けられた複数の導電シュー（４５０）との間の接触領域の数を多くすることによって達成される。また、導電シューは、弾性要素により接触リングに対向して半径方向外方に押圧されている。
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いくつかの実施例においては、本発明は、略円筒形のターゲットと、スパッタリング工程において、ターゲットをその軸を中心として回転させる手段と、ターゲットの外部においてこれに隣接してプラズマを閉じ込める磁界を生成するべくターゲット内に保持されている細長い磁石と、ターゲット内において回転に抗して磁石を支持するフレーム構造と、磁石を同期することなしにターゲット内においてその軸方向に振動させることにより、その長さに沿って略均一なターゲットの利用を促進するパワートレインと、を有する基板上にターゲット材料をスパッタリングする際に使用される円筒形の陰極ターゲットアセンブリと、その使用法と、を含んでいる。いくつかの実施例においては、磁石は、ターゲットの回転に応答して振動している。
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真空室内で材料を飛散させる装置であって、−平面内で可動な、平らでかつカソードとして接続可能な少なくとも１つのターゲットを有するターゲット装置を有し、
定置のターゲット環境と、ターゲット装置に対応配置された駆動装置と、ターゲット
に対応配置された少なくとも１つのアノードを有するアノード装置と、
ターゲットの飛散表面からの材料の遊離を助けるための磁場を発生させるための磁気
装置と
を備えている形式のものにおいて、少なくとも１つの非回転対称的な有利には方形のターゲットプレートとして構成されたターゲットが設けられ、該ターゲットがターゲット装置で−平面内で可動であることが提案されている。さらに本発明は材料を飛散させる方法にも関する。
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基板上に薄膜を堆積させるためのスパッタリングステーションは、互いに対向して配置され、プラズマ領域を規定する２つのターゲットと、磁界を生成する永久磁石またはコイルと、磁界を方向付けるヨークと、各ターゲットへのエネルギを個別に制御するために各ターゲットに接続された２つの個別の電源とを備える陰極を含む。
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