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国際特許分類[H01L27/144]の内容

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【課題】画素内に光信号用、ノイズ信号用のサンプルホールド回路を設けて高画質な高速動画像撮影を行う。
【解決手段】撮像素子を含み、画素は、光電変換を行う光電変換手段と、光電変換手段からの信号を増幅して出力する増幅手段と、増幅手段の出力側に設けられた光電変換手段で発生した光信号を蓄積する光信号蓄積手段と、増幅手段の出力側に設けられたノイズ信号を蓄積するノイズ信号蓄積手段と、を有する撮像装置であって、光信号蓄積手段の後段に光信号用出力線が配され、ノイズ信号蓄積手段の後段にノイズ信号用出力線が配され、画素から、前記光信号用出力線及び前記ノイズ信号用出力線に同時に信号が出力されることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】装置を大型化、高価格化することなく、オフセット電荷量の計測頻度を削減し、X線撮影を容易にする放射線画像検出器を提供する。
【解決手段】基板上に、スイッチング素子、光電変換素子、及び電気的容量を有する素子を1組の要素として含む画素が二次元状に複数個配列され、画素上に、外部から入射したX線を光に変換する蛍光変換膜が積層された放射線センサ11と、任意に選択した1本の行選択線に駆動電圧を印加するとともに、隣接行選択線に駆動電圧とは逆方向の電圧を印加するゲート駆動回路13と、を備える。 (もっと読む)


【課題】大型化するのを抑制しつつ、用途に応じた最適な解像度と、撮影スピードとを提供することができる、放射線検出素子及び放射線画像撮影装置を提供する。
【解決手段】列方向に複数の画素20のTFT2が同一の信号配線Dに接続されるよう構成されている。動画撮影の場合には、制御配線Mにより制御信号を出力して画素20のTFT2をオン状態にして、センサ部13から電荷を読み出す。2画素×2画素を1つの画素のようにみなして電荷を取り出すため、静止画に比べて解像度が低くなるものの、フレームレートを向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】画素毎のバンプが増加してもフリップチップボンディングを適切に行うことができる赤外線撮像装置を提供する。
【解決手段】複数の画素が配列した赤外線イメージセンサ100と、赤外線イメージセンサ100から信号を読み出す読み出し回路300と、赤外線イメージセンサ100と読み出し回路300との間に設けられた中継部材200と、が設けられている。複数の画素の各々には、互いに相違する波長の赤外線を吸収する複数の吸収層106、110と、複数の吸収層にバイアスを印加するバイアスバンプ159と、複数の吸収層毎に設けられた出力バンプ157、158と、が設けられている。出力バンプは、読み出し回路に設けられた入力バンプ302、303に接続され、バイアスバンプは、読み出し回路に設けられたバイアス供給バンプ304に、中継部材に設けられた中継配線207を介して接続されている。 (もっと読む)


【課題】 接続用端子の数を制限しつつ、高い動作速度及び信頼性で且つ高画質な画像を取得することが可能なマトリクス基板等を提供する。
【解決手段】 画素101が行列状に複数配置され、駆動線104が列方向に複数配置され、接続用端子110が駆動線104の数よりも少ない数で設けられ、接続用端子110と駆動線104との間に配置されたデマルチプレクサ111が、第1多結晶半導体薄膜トランジスタ112と、第1制御配線116と、を有するマトリクス基板であって、デマルチプレクサ111は、一つの接続用端子110と2以上の駆動線104との間に画素を非選択状態とするための非選択電圧に駆動線104を維持するための第2多結晶半導体薄膜トランジスタ113と、第2制御配線115と、を更に有する。 (もっと読む)


【課題】ビニングして撮影する場合にダイナミックレンジの低下を抑えることができる放射線検出器および放射線撮影装置を提供する。
【解決手段】駆動制御部33は、ビニングの有無により、すなわち、ゲート駆動回路19によりスイッチング素子15を複数列ごとに駆動させるビニングする場合と、ゲート駆動回路19によりスイッチング素子15を1列ごとに駆動させるビニング無しの場合とで、バイアス電源9から変換層3に印加するバイアス電圧を変化させている。そのため、ビニングして撮影する透視モードの場合は、ダイナミックレンジの低下を抑えることができる。また、ビニング無しで撮影する撮影モードの場合には、空間解像度を高くすることができる。すなわち、動作モードに応じて高いダイナミックレンジと空間解像度を最適化することができる。 (もっと読む)


【課題】大面積センサアレイを集積回路に接続しセンサ積層体を形成する方法を提供する。
【解決手段】第1の面16と第2の面18とを有しセンサアレイ14の第2の面上に配置された第1の複数の接触パッド20を含むセンサアレイを設け、第1の面と第2の面とを有し再配線層24の第1の面上に配置された第2の複数の接触パッド32を含む再配線層24と集積回路26の第1の面が再配線層の第2の面に作用的に結合されていて複数の貫通ビア30が貫設されている集積回路26とを含む相互接続層上にセンサアレイ14を配置し、センサアレイ14の第2の面上の第1の複数の接触パッドが再配線層の第1の面上の第2の複数の接触パッドと位置合わせされるようにセンサアレイ14を相互接続層上に配置し、センサアレイ14の第2の面上の第1の複数の接触パッドを再配線層24の第1の面上の第2の複数の接触パッドに作用的に結合してセンサ積層体を形成する。 (もっと読む)


【課題】大きな画素数と信号処理回路を必要とし、X線の遮蔽に用いられるフォトダイオードアレイと物理的に分けられたX線スキャン検出器システムの実行に特に有利な、相補型金属酸化膜半導体(CMOS)時間遅延積分(TDI)構造を有するイメージセンサを提供する。
【解決手段】各画素がN段のTDIステージにより形成された、M画素からなるCMOS TDIイメージセンサの各TDIステージは、光電荷を収集するフォトダイオードと、光電荷を比例的に電圧に変換する前置増幅器を含む。各TDIステージはまた、キャパシタ、増幅器、積分信号電圧を蓄積するのに用いるスイッチを含み、相関二重サンプルホールド(CDS)技術が(実際にあるいは擬似的に)光信号とリセット電圧を同時に維持する。このCDS信号電圧は、1行加算が行われるごとに、1つのTDIステージから次のTDIステージへと伝送される。差動増幅器はM画素の最後のTDIステージのCDS信号電圧を読み出す。 (もっと読む)


【課題】本発明は、放射線に対して従来より高感度の放射線検出器及び放射線検出器の製造方法を提供する。
【解決手段】照射された放射線に応じて光電変換層18で電荷(キャリア)が発生し、発生した正孔がアバランシェ層22でアバランシェ増幅作用により増幅されて、電荷収集電極40で収集され、読み出される。光電変換層18とアバランシェ層22との間、アバランシェ層22上には、電荷収集電極40が形成されているピッチ(画素ピッチ)Lに応じて格子状に中間電極20が形成されている。中間電極20は、光電変換層18に接する側から、正孔阻止層30、導電層32、及び電子吸収層34の順番で形成されている。 (もっと読む)


【課題】特定の実施形態に従って、装置は、第1読み出し集積回路(ROIC)と、第2ROICと、デュアルバンド検出器アレイとを有する。
【解決手段】第1ROICは第1単位セルを有する。第2ROICは、第1ROICの外側に備えられ、第2単位セルを有する。導電性ビアが、第2ROICを通って且つ少なくとも第1ROICの中に備えられる。検出器アレイは第2ROICの外側に備えられる。検出器アレイは、高ダイナミックレンジ赤外光を検出し、複数の検出器画素を有する。各々の検出器画素は、光の検出に応答して電流を生成し、ビアに電流を流す。ビアは、第1単位セル及び第2単位セルに信号を送信する。 (もっと読む)


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