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国際特許分類[H01L33/10]の内容

国際特許分類[H01L33/10]に分類される特許

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【課題】発光層の面積を減少させることなく、点状または線状の光源を得ることができ、発光方向を制御することができる発光ダイオードおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】p型半導体層11、発光層12およびn型半導体層13により発光ダイオード構造を形成する。p型半導体層11の発光層12と反対側の面にp側電極15を形成する。p型半導体層11、発光層12およびn型半導体層13の端面14に反射層16を形成する。n型半導体層13および反射層16上に中央部にピンホール17aを有するn側電極17を形成する。n側電極17上に集光レンズ18を形成する。 (もっと読む)


【課題】高出力・高効率で850nm以上、特に900nm以上の発光ピーク波長の赤外光を発光する発光ダイオードを提供する。
【解決手段】本発明の発光ダイオードは、基板上に、DBR反射層と、発光部とを順に備える発光ダイオードであって、前記発光部は、組成式(InX1Ga1−X1)As(0≦X1≦1)からなる井戸層と組成式(AlX2Ga1−X2)As(0≦X2≦1)からなるバリア層との積層構造を有する活性層と、該活性層を挟む、組成式(AlX4Ga1−X4In1−YP;0≦X4≦1,0<Y≦1)からなる第1のクラッド層及び第2のクラッド層とを有することを特徴とすることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】発光光度を向上させた半導体発光素子を提供する。
【解決手段】基板2と、基板2上に設けられる第1半導体層5、活性層6、及び第2半導体層7からなる発光層13と、基板2と発光層13との間に設けられるDBR(Distribution Bragg Reflector)層4と、基板2の下面に設けられる下部電極10と、発光層13上に設けられる上部電極11とを有し、発光層13上にDBRブロック12を設け、DBRブロック12を覆うように上部電極11を設けたものである。 (もっと読む)


【課題】高効率の半導体発光素子を提供する。
【解決手段】第1導電型の第1半導体層10と、第2導電型の第2半導体層20と、第1半導体層10と第2半導体層20との間に設けられた発光層30と、第1半導体層10の発光層30とは反対側に設けられ、第1半導体層10よりも不純物濃度が低く、第1半導体層10の一部を露出させる開口部を有する第3半導体層15と、開口部18を介して第1半導体層10に接する第1電極40と、を備え、第3半導体層15は、第1半導体層10とは反対の側の面に設けられ、発光層30から放射される発光光のピーク波長の第3半導体層15における波長よりも大きい凹凸17pを有する粗面部17をさらに有することを特徴とする半導体発光素子が提供される。 (もっと読む)


【課題】基板側ヘ向かう放出光の反射率を高め、光取り出し効率の改善が可能な発光素子を提供する。
【解決手段】基板と、前記基板の上に設けられた第1の接合金属層と、第1コンタクト層および第1クラッド層を含む第1導電型層と、第2クラッド層を含む第2導電型層と、前記第1導電型層と前記第2導電型層との間に設けられた発光層と、を有する半導体層と、前記第1の接合金属層と接合された第1の面と、段差を有する第2の面と、を有し、前記段差の上面は前記第1コンタクト層の一部と接触した第2の接合金属層と、前記段差の底面と、前記第1導電型層と、の間に設けられ、前記発光層から放出される光に対する反射率が前記第2の接合金属層よりも高い第1誘電体多層膜と、前記第2導電型層の上に設けられたパッド電極と、を備えたことを特徴とする発光素子が提供される。 (もっと読む)


【課題】LEDの光取り出し効率を高める。
【解決手段】LED100は、サブマウント120上に配置される多層積層体122を含み、多層積層体はシリコン添加(n型)GaN層134を含み、このGaN層は複数の開口150から成るパターンをその上側表面110に有し、多層積層体はまた、接着層124、銀層126、マグネシウム添加(p型)GaN層128、複数のInGaN/GaN量子井戸により形成される光発生領域130、及びAlGaN層132を含み、n側コンタクトパッド136は層134の上に配置され、そしてp側コンタクトパッド138は層126の上に配置され、封止材(屈折率が1.5のエポキシ)144は層134とカバースリップ140と支持体142との間に設けられており、複数の開口150によって領域130において生成される光がLED100から表面110を通して放出される効率を高くする。 (もっと読む)


【課題】素子の光取り出し効率をさらに向上させることのできる半導体発光素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】半導体発光素子1において、第1導電型層、発光層25及び第2導電型層をこの順で有する半導体積層体と、第1導電型層上に形成され酸化物からなる透明電極30と、半導体積層体において透明電極30と同じ側に形成される第2導電型層上の第2導電型層用電極40と、第1導電型層と透明電極30の間に形成され発光層25から発せられる光の反射率が透明電極30よりも高い第1反射層60と、第2導電型層と第2導電型層用電極40の間に形成され第1反射層60と同じ材料からなり発光層25から発せられる光の反射率が第2導電型層用電極40よりも高い第2反射層62と、を備える。 (もっと読む)


半導体積層体(2)を備えた発光ダイオードチップを開示する。半導体積層体は、電磁放射を生成するのに適している活性層(3)を有し、発光ダイオードチップ(1)は、表側に放射出口領域(4)を有する。発光ダイオードチップ(1)は、放射出口領域(4)とは反対の裏側の少なくとも一部分に、銀を含んでいるミラー層(5)を有する。ミラー層(5)の腐食を低減する、もしくは、ミラー層(5)の接着を改善する、またはその両方である機能層(6)が、ミラー層(5)の上に配置されており、機能層(6)を形成している材料がミラー層(5)全体に分布している。機能層(6)の材料は、ミラー層(5)の中で濃度勾配を有し、ミラー層(5)内の機能層(6)の材料の濃度が、機能層(6)から、半導体積層体(2)に向かう方向に減少していく。 (もっと読む)


【課題】製造コストを大幅に増加させずに製造できる高出力、かつ順方向電圧が低い発光素子及び発光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】発光素子1は、半導体基板10と、発光部20と、反射部210と、電流分散層240と、表面電極30と、裏面電極35とを備え、反射部210がペア層を複数有して形成され、第2の電流分散層244が、第1の電流分散層242のキャリア濃度又は不純物濃度より高いキャリア濃度又は不純物濃度を有すると共に表面に凹凸部250を有し、表面電極30が、複数の表面電極層を有し、複数の表面電極層のうち、第2の電流分散層244に接する表面電極層が、100nm以上600nm以下の厚さを有する。 (もっと読む)


【課題】半導体層と透光性基板の間の反射を抑制して光の取り出し効率を向上させる。
【解決手段】半導体発光素子において、基板の表面上に形成され発光層を含む半導体積層部と、基板の表面側に形成され発光層から発せられる光が入射し当該光の光学波長より大きく当該光のコヒーレント長より小さい周期で凹部又は凸部が形成された回折面と、基板の裏面側に形成され回折面にて回折した光を反射して回折面へ再入射させる反射面と、を備えるようにした。 (もっと読む)


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