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国際特許分類[H01L43/08]の内容

国際特許分類[H01L43/08]に分類される特許

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【課題】抵抗変化素子を備える半導体装置(半導体チップ)のチップ面積を削減すること。
【解決手段】半導体装置(1)は、半導体基板(50)上に形成されたトランジスタ(71)を含む下層回路(70)と、半導体基板(50)の上方の配線層(60)に形成されたメモリセルアレイ(20)と、を備える。メモリセルアレイ(20)の各メモリセル(MC)は、配線層(60)に形成された抵抗変化素子(40)を記憶素子として備る。メモリセルアレイ(20)は、メモリセル(MC)の直下に当該メモリセル(MC)との電気的接続用のビアが形成されていない第1領域(RF)を有している。下層回路(70)は、第1領域(RF)の少なくとも一部とオーバーラップするように配置されている。 (もっと読む)


【課題】ピン層の磁化方向とフリー層の磁化方向との成す角度に対して検出精度が異なることを簡素な構成で抑制することができると共に、応答速度を向上させることができる磁気センサを提供する。
【解決手段】磁化方向が所定方向に固定されたピン層11および外部磁界に応じて磁化方向が変化するフリー層13を有し、ピン層11の磁化方向とフリー層13の磁化方向との成す角度に応じて抵抗値が変化する第1、第2磁気抵抗素子R1、R2を有する検出部10を備える。そして、第1、第2磁気抵抗素子R1、R2をピン層11の磁化方向が互いに直交する状態で直列接続し、検出部10から第1、第2磁気抵抗素子R1、R2の中点電圧を検出信号として出力する。 (もっと読む)


【課題】向上した磁気性能および堅牢性を有する磁気読み出しセンサを提供する。
【解決手段】磁気センサは、磁化自由層構造310と磁化固定層構造とを含む。磁化固定層構造は、非磁性結合層318によって互いに分離させた第1の磁性層314および第2の磁性層316を含む。磁化固定層構造の第2の磁性層はCoFeBTaの層を含んでおり、この層が原子の拡散を防止し、さらには所望のBCC結晶粒成長を促進する。磁化自由層構造は、原子拡散をさらに防止し、所望のBCC粒成長をさらに促進するためのかかるCoFeBTa層を含むこともできる。 (もっと読む)


【課題】直流電源配線に電流が流れたか否かを検出可能な回路を備えた半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体装置において、駆動回路BLDU,BLDD,BLBDU,BLBDDは、電流磁界またはスピン注入によってトンネル磁気抵抗素子TMR,TMRBを第1の磁化状態に初期設定するために、制御信号線BL,BLBに直流電流を流す。電源配線DLは、トンネル磁気抵抗素子TMR,TMRBに近接して設けられる。ここで、トンネル磁気抵抗素子TMR,TMRBは、電源配線DLに直流電流が流れるときに生じる電流磁界によって第2の磁化状態に変化する。センスアンプ10は、トンネル磁気抵抗素子TMR,TMRBが第1の磁化状態から第2の磁化状態に変化したか否かを判定するために、制御信号線BL,BLBを介してトンネル磁気抵抗素子TMR,TMRBに流れる電流を検出する。 (もっと読む)


【課題】半導体集積回路の内蔵メモリとしてのMRAMへの不正アクセスに対する保護を改善すること。
【解決手段】半導体集積回路(10)は、プロセッサ(1)と不揮発性メモリ(3)とを具備する。不揮発性メモリ(3)は、複数の磁気ランダムアクセスメモリセルと、複数の磁気リードオンリーメモリセルとを含む。複数の磁気ランダムアクセスメモリセルはプロセッサ(1)による通常書き込みによって書き換えが可能とされ、複数の磁気リードオンリーメモリセルはプロセッサ(1)による通常書き込みによって書き換えが不可能とされる。不揮発性メモリ(3)と接続された感知回路(2)は、不揮発性メモリ(3)の不正アクセスによる複数の磁気リードオンリーメモリセルの状態遷移を感知する。状態遷移に応答して、感知回路(2)は不正アクセスの検出結果をプロセッサ(1)に通知する。 (もっと読む)


【課題】小さい書き込み磁界及び読み出し磁界をそれぞれ使用して書き込みされ得て読み出しされ得るMRAMセルを提供する。
【解決手段】MRAMセル1は、磁気トンネル接合2が高温閾値で加熱されるときに第1方向から第2方向に調整可能であり且つ低温閾値でピン止めされる正味の記憶磁化方向を有する記憶層23と、可逆性である正味のセンス磁化方向を有するセンス層21と、このセンス層をこの記憶層から分離するトンネル障壁層22とから構成された磁気トンネル接合を有する。記憶層23とセンス層21とのうちの少なくとも1つの層の補償温度で、その第1磁化方向とその第2磁化方向とがほぼ等しいように、記憶層23とセンス層21とのうちの少なくとも1つの層が、3d−4fアモルファスフェリ磁性合金材料から成り、その材料が、第1磁化方向を提供する3d遷移金属原子の副格子と、第2磁化方向を提供する4f希土類原子の副格子とを有する。 (もっと読む)


【課題】読み取り素子のための空間の大きさを縮小することによって、磁気シールドの大きさおよびシールド間の利用可能な空間の大きさを最小化する。
【解決手段】空気ベアリング面(ABS)148に対して設置されたデータ読み取りスタック132は、第1のバッファ層142と第2のバッファ層142との間に取り付けられ、少なくとも一方のバッファ層は、データ読み取りスタックに所定の短絡比を付与する。 (もっと読む)


【課題】低コストで広帯域の読出方式の、磁壁で区切られた磁区毎に情報が記録された磁
性配線を有する磁気メモリを提供する。
【解決手段】磁区、及び前記磁区を仕切る磁壁を有する第1磁性細線と、前記第1磁性細
線の両端部に配置される電流導入用電極と、前記第1磁性配線に隣接して設けられる書き
込み部と、前記第1磁性配線に交差するように設けられる第2磁性細線と、前記第2磁性
配線の一端部に設けられるスピン波発生部と、前記第2磁性配線の他端部に設けられるス
ピン波検出部とを備える。 (もっと読む)


【課題】 シザーズ構造を有する磁気抵抗センサの磁気バイアス構造を提供する。
【解決手段】 磁気バイアス付与の堅牢性を向上させる新規のハードバイアス構造を有するシザーズ型磁気センサ。当該センサは、電気絶縁障壁層または導電スペーサ層等の非磁性層により分離された第1の磁気層および第2の磁気層を含むセンサスタックを含む。第1の磁気層および第2の磁気層は、逆平行に結合されるが、磁気バイアス構造により、エアベアリング面に対して平行でも垂直でもない方向に傾けられた磁化方向を有する。磁気バイアス構造は、センサスタックの後縁から延在し、センサスタックの第1の側面および第2の側面に整列した第1の側面および第2の側面を有するネック部を含む。バイアス構造はまた、ネック部から後方に延在する先細または楔形部を含む。 (もっと読む)


【課題】I/IAP比を高めることのできるスピントランジスタおよびメモリを提供する。
【解決手段】本実施形態によるスピントランジスタは、基板上に形成されたソース/ドレインの一方となる第1磁性層と、前記第1磁性層上に設けられチャネルとなる絶縁膜と、前記絶縁膜上に設けられ前記ソース/ドレインの他方となる第2磁性層と、前記絶縁膜の側面に設けられたゲート電極と、前記ゲート電極と前記絶縁膜の前記側面との間に設けられたゲート絶縁膜と、備えている。 (もっと読む)


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