【課題】ブリーディング、ブルーミング及び移行汚染が発生せず、湿度に依存せずに、即効性に優れ、物性の低下を招かず、かつ優れた制電性が持続するガスバリアフィルムを提供することを主要な目的とする。
【解決手段】本発明に係るガスバリアフィルムは、基材フィルム１１と、基材フィルム１１の上に設けられた、ガスの透過を遮断する緻密な無機層１４と、上記無機層の上又は下に接して積層された、該無機層１４を保護し、柔軟性を与える有機層１３とを備える。上記有機層１３は、フルオロ基およびスルホニル基を有する陰イオンを備えた塩が重合性化合物、樹脂、エラストマー又は粘着性樹脂中に分散されてなる制電性組成物を硬化してなる、フィルムまたは粘着フィルムで形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】異物の発生や付着の少ない透明複合基板およびかかる透明複合基板を効率よく製造し得る製造方法、および前記透明複合基板を備えた信頼性の高い表示素子基板を提供すること。
【解決手段】本発明の透明複合基板の製造方法は、ガラスクロス２と、ガラスクロス２に含浸した樹脂材料３と、を有する透明複合基板１の製造方法であって、ガラスクロス２に樹脂ワニス３０を含浸させ、含浸体１０１を得る工程と、含浸体１０１の両面にシート状の支持部材７１を重ねた後、含浸体１０１の外縁部１２を除く部分（中央部１３）に紫外線を照射して未硬化の樹脂ワニス３０を硬化させ、仮硬化体１０２を得る工程と、仮硬化体１０２を支持部材７１から剥離する工程と、仮硬化体１０２の外縁部に紫外線を照射して未硬化の樹脂ワニス３０を硬化させ、本硬化体（透明複合基板）を得る工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】開口率の向上された発光装置である。
【解決手段】薄膜トランジスタと、容量と、発光素子と、発光素子へ電流を供給することができる機能を有する配線とを、プラスチック基板上に有する発光装置であって、配線は、容量の上に設けられ、容量は、配線の少なくとも一部と重なる領域を有する。発光素子は、陰極と、陽極と、陰極と陽極との間に設けられたＥＬ材料とを有し、容量は、第２の領域と、第２の領域上に第１の絶縁膜を介して設けられる第３の領域とを有する。第１の絶縁膜は、薄膜トランジスタのゲート絶縁膜となり、さらに容量の絶縁膜となることができる。 （もっと読む）

【課題】クロストークの発生を抑制する。
【解決手段】第１の表示領域、第２の表示領域、及び非発光領域を有し、非発光領域が第１の表示領域及び第２の表示領域の間に設けられた画素部と、第１の光制御領域、第２の光制御領域、及び透光領域を有し、第１の光制御領域が第１の表示領域に重畳し、第２の光制御領域が第２の表示領域に重畳し、透光領域が第１の光制御領域及び第２の光制御領域の間に設けられ、透光領域の幅の中央が非発光領域に重畳する視差バリアと、を含む。 （もっと読む）

【課題】シリコーン系樹脂を使用しなくても成形精度に優れ、硬度が高く、良好な外観を有する成形体を製造する際に好適に使用することができる成形材料、前記成形材料から形成された樹脂フィルム、ならびに原料として前記成形材料が用いられた成形体およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】成形体を製造する際に原料として用いられる成形材料であって、（メタ）アクリル系樹脂エマルション、多官能（メタ）アクリル酸エステルおよび重合開始剤を含有することを特徴とする成形材料、前記成形材料から形成された樹脂フィルム、ならびに基材上に成形材料層が形成されてなる成形体であって、前記成形材料層が前記成形材料から形成された成形体およびその製造方法。 （もっと読む）

【課題】微粒子及び紫外線吸収剤を含有し、λ／４の位相差を有し、ヘイズが低く抑えられた位相差フィルム、偏光板、及びそれを用いた表示装置を提供することであり、特に、クロストークが無く、画像のコントラストの高い３Ｄ液晶表示装置及び有機ＥＬ表示装置を提供すること。
【解決手段】２３℃、５５％ＲＨの環境下、波長５５０ｎｍの光で測定したフィルム面内のリターデーション値Ｒｏが、１２８〜１４８ｎｍの範囲となる、少なくとも二層が積層された構成の位相差フィルムであって、第１層が紫外線吸収剤を含有し、第２層が体積平均粒径が０．０１〜１．００μｍの範囲内にある微粒子を含有し、かつ該第２層が、前記第１層の形成後巻き取られるまでの間に積層されて作製されたことを特徴とする位相差フィルム。 （もっと読む）

【課題】
ホログラムを用いたホログラムシートにおいて、その真正性を高めるために、通常照明光下で観察できる体積ホログラムの再生と併せて、所定の電界印加によるレリーフホログラムの再生も可能な、新規なホログラムシートを提供する。
【解決手段】
体積ホログラム形成層の背後にレリーフホログラム形成層を設け、そのホログラムレリーフに追従して、エレクトロルミネッセンス素子層を設けて、所定の電界を印加することで、エレクトロルミネッセンス素子層を発光させ、可視光領域にある、その発光する光の色調によるレリーフホログラム再生像を再生させ、目視にて判定可能とし、その偽造防止性を高めたホログラムシートとした。 （もっと読む）

【課題】静電破壊を防止して歩留まり良く製造できる電気装置の製造方法、半導体基板の製造方法、電気装置用形成基板、及び電子機器を提供する。
【解決手段】支持体上に、樹脂材料からなる基材を複数積層することで第１基板を形成する工程と、素子基板から前記支持体を剥離する工程と、素子基板との間で機能素子を挟持するように第２基板を貼り付ける工程と、を有する電気装置の製造方法に関する。素子基板の形成工程においては、複数の基材間のいずれかに挟持するように電極層を配置するとともに、電極層よりも上層であって複数の前記基材間のいずれかに挟持する或いは基板本体の表面に配置するように機能素子を駆動するための半導体素子を設ける。 （もっと読む）

【課題】
ホログラムを用いたホログラムシートにおいて、その真正性を高めるために、照明光と同一の波長のホログラム再生像を再生するホログラムとは異なり、照明光とは異なる波長のホログラム再生をする新規なホログラムシートを提供する。
【解決手段】
反射型体積ホログラム形成層上にエレクトロルミネッセンス素子層を設け、所定の電界を印加することで、エレクトロルミネッセンス素子層を発光させ、可視光領域にある、その発光する光の色調による反射型ホログラム再生像を再生させ、目視にて判定可能とし、その偽造防止性を高めたホログラムシートとした。 （もっと読む）

【課題】新規な偏光子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】透明基材上２に、配向層３、偏光層４及び保護層７がこの順で設けられた偏光子１であり、偏光層４が、重合性液晶化合物、二色性色素、重合開始剤及び溶剤を含む組成物から膜を形成する工程と、膜から溶剤を除去する工程と、溶剤を除去した膜に含まれる重合性液晶化合物をスメクチック液晶状態とする工程と、重合性液晶化合物がスメクチック液晶状態を保持したまま、重合性液晶化合物を重合させる工程とを有する製造方法により製造されたものである。 （もっと読む）