【課題】多層配線を形成する際における配線の加工に要する工程を簡便にすることを課題
とする。また、開口径の比較的大きいコンタクトホールに液滴吐出技術やナノインプリン
ト技術を用いた場合、開口の形状に沿った配線となり、開口の部分は他の箇所より凹む形
状となりやすかった。
【解決手段】高強度、且つ、繰り返し周波数の高いパルスのレーザ光を透光性を有する絶
縁膜に照射して貫通した開口を形成する。大きな接触面積を有する１つの開口を形成する
のではなく、微小な接触面積を有する開口を複数設け、部分的な凹みを低減して配線の太
さを均一にし、且つ、接触抵抗も確保する。 （もっと読む）

【課題】電源電圧の不均一による画面内のムラを抑えると共に、非発光点などの品質不良への影響を抑えることが可能な表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基板の表示領域内に設けられた複数の第１電極と、複数の第１電極の間の電極間領域に設けられた補助電極と、電極間領域に、補助電極の外形線の一部に沿って設けられた隔壁と、表示領域に設けられると共に、隔壁の補助電極に沿う側面および補助電極の上面を露出させている、発光層を含む有機層と、有機層の上面および補助電極の上面に設けられた第２電極とを備えた表示装置。 （もっと読む）

【課題】電極ホール４６における有機ＥＬ材料の成膜不良によるＥＬ素子の発光不良を改
善することを課題とする。
【解決手段】上記課題を達成するために、本発明では画素電極上の電極ホール４６に絶縁
体を埋め込み、保護部４１ｂを形成させた後、有機ＥＬ材料を成膜することで、電極ホー
ル４６における成膜不良を防ぐことができる。これにより、ＥＬ素子の陰極、陽極間の短
絡により電流集中が生じるのを防ぎ、ＥＬ層の発光不良を防ぐことができる。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィー法を利用した有機ＥＬ層のパターニングの際に、素子と素子との間の領域に設けられる部材を損傷させないようにする有機ＥＬ装置の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも第一下部電極上に第一有機ＥＬ層を形成する工程と、前記第一有機ＥＬ層上に第一保護層を形成する工程と、前記第一有機ＥＬ層及び前記第一保護層の加工工程と、少なくとも第二下部電極上に第二有機ＥＬ層を形成する工程と、前記第二有機ＥＬ層上に第二保護層を形成する工程と、前記第二有機ＥＬ層及び前記第二保護層の加工工程と、を有し、前記第二有機ＥＬ層及び前記第二保護層の加工工程によって加工された前記第二有機ＥＬ層及び前記第二保護層が、前記第一有機ＥＬ層及び前記第一保護層の加工工程によって加工された前記第一有機ＥＬ層の端部及び前記第一保護層の端部を被覆していることを特徴とする、有機ＥＬ装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】印刷性が良く、開口率の高い有機ＥＬ素子及び画像表示装置を提供する。
【解決手段】基板１１と、基板１１上に形成され、画素領域を有する第一電極１２と、基板１１上に形成され、第一電極１２を区画する隔壁２３と、画素領域上に形成され、少なくとも有機材料からなる発光層を含み、少なくとも一層がライン状パターンで印刷された発光媒体層１９と、発光媒体層１９上に形成され、発光媒体層１９を覆うように成膜された第二電極１７とを備え、隔壁２３は、発行媒体層１９のライン状パターンと平行に形成された、少なくとも一部に逆テーパー形状を有する第一隔壁２３Ａと、第一隔壁２３Ａと直交に形成された、順テーパー形状を有する第二隔壁２３Ｂとによって構成される。 （もっと読む）

【課題】大型基板への対応が可能で、材料使用効率の高いインクジェット方式を始めとする塗布方式にて、簡易で安価に製造が可能であり、機能層の白抜け、または、混色による表示不良の無い、高品質なカラーフィルタや有機ＥＬ等の光学素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】樹脂硬化物により形成され且つ支持基板１０の面上を複数の領域３０に区画する隔壁を形成する隔壁パターン２０と、複数の領域３０にそれぞれ形成された複数の画素を有する光学素子の製造方法であって、撥インク性を有する樹脂組成物により支持基板１０の面上を複数の領域３０に区画する領域区画工程と、領域区画工程で支持基板１０の面上を複数の領域３０に区画した樹脂組成物にマイクロ波を照射して、樹脂組成物の硬化を促進させるマイクロ波照射工程を含む。 （もっと読む）

【課題】画素内で発生する発光ムラや輝度低下が改善され、画素内での発光領域が拡がり、画素毎の輝度増加が可能な有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板と、前記基板上に形成された第一電極と、前記基板上に形成され且つ前記第一電極の周囲を囲む隔壁と、前記隔壁内で前記第一電極上に形成された発光媒体層と、前記隔壁及び前記発光媒体層上に形成された第二電極と、を備える有機ＥＬ素子において、前記発光媒体層は、前記隔壁から離れた部分ほど膜厚が減少している有機発光層を含み、前記有機発光層上に第一電子注入層と第二電子注入層が形成され、且つ、前記第一電子注入層は前記隔壁の上部を覆わないよう形成され、前記第二電子注入層は一部が前記隔壁を覆うように形成されている。 （もっと読む）

【課題】上部電極の補助電極を設けても、ＥＬ層に与える損傷を低減した信頼性の高い発光素子を提供する。または、輝度ムラが抑制され、信頼性が高い発光装置を提供する。
【解決手段】第１の電極と、第１の電極上の絶縁層と、絶縁層上に設けられた凹凸構造を有する補助電極と、第１の電極及び補助電極上に形成された発光性の有機化合物を含む層と、発光性の有機化合物を含む層上に形成された第２の電極と、を有し、補助電極の少なくとも一部が、第２の電極と電気的に接続している発光素子を提供する。 （もっと読む）

【課題】ラミネート装置を使用して撥液材料層を安定して薄膜形成用基板に転写することができる有機ＥＬ装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】本適用例の有機ＥＬ装置の製造方法は、隔壁（凸部１７）が形成された基板３７をあらかじめ加熱する工程と、撥液材料が塗布されたフィルム３２をローラー２６によって基板３７に押圧して撥液材料層３４を隔壁（凸部１７）の頭頂部に転写する転写工程と、機能層形成材料を含む液状体を隔壁によって区画された領域に塗布する塗布工程と、塗布された液状体を乾燥し機能層を形成する乾燥工程を備え、転写工程は基板３７がローラー２６と接触する時に所定の圧力よりも低い圧力で基板３７とフィルム３２とを接触させ、所定の時間経過後に所定の圧力より高い圧力で押圧するプロセスと、所定の圧力で押圧するプロセスとを有する。 （もっと読む）

【課題】低コストかつ簡易なプロセスで製造することが可能な表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】表示装置１は、酸化物半導体よりなる半導体層１２上の選択的な領域（チャネル領域１２Ａ）に、ゲート絶縁膜１３を介してゲート電極１４が設けられ、そのチャネル領域１２Ａに隣接する領域（ソース・ドレイン接続領域１２Ｂ）にソース・ドレイン電極層１６が電気的に接続される。半導体層１２では、これらのチャネル領域１２Ａおよびソース・ドレイン接続領域１２Ｂとは異なる領域（画素電極部１２Ｃ）がアノードとして利用される。製造プロセスにおいて、フォトマスク、フォトレジストなどの使用部材を減らし、工程数を削減することができる。 （もっと読む）