【課題】軽量化、薄型化及び低消費電力化が可能であり、信頼性にも優れたものを得る構造を提供する。
【解決手段】素子基板１１と、複数の有機発光素子１０覆って形成された封止層１８と、封止層１８を覆って形成された封止樹脂６０と、封止樹脂６０を介して素子基板１１上に接着されたタッチパネル２０と、を備え、有機発光素子１０は、基板１１上に形成された第１電極１２と第２電極１４との間に挟持された有機発光層１３を有し、素子基板１１上には、第１電極１２を区分する隔壁層１５が設けられ、第２電極１４は、隔壁層１５と複数の有機発光素子１０とにより形成された素子領域Ｌの全面を覆って素子基板１１に接しており、封止層１８は、第２電極１４を覆って形成され、有機発光層１３が、第２電極１４、封止層１８、封止樹脂６０、及びタッチパネル２０によって封止されている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、透明性が高く、線膨張率が小さく、温度変化における弾性率の変化が小さく、耐熱性の高い被印刷基板を用いた、有機ＥＬ発光層を有する有機ＥＬ表示装置を提供することを目的とする。また、本発明は、このような有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供することも目的とする。
【解決手段】被印刷基板上に有機発光層を有する有機ＥＬ表示装置において、被印刷基板がシリコーン系硬化体（ａ）とガラスクロス（ｂ）とが複合した構造を有するシリコーン系ガラスクロス複合体シートよりなり、前記被印刷基板上に溶液化された有機ＥＬ材料を吐出配置することにより有機発光層を形成することを特徴とする有機ＥＬ表示装置。 （もっと読む）

【課題】駆動回路が基板に実装される構造において、点灯検査及びエージング検査のためのショートバーを容易に形成及び除去できる有機電界発光表示装置を提供する。
【解決手段】本発明の有機電界発光表示装置は、画素領域２０及び非画素領域４０を含む基板１００と、画素領域２０の第１方向に形成されたアノード電極１２と、アノード電極１２と連結されて非画素領域４０に形成されたデータライン６２と、画素領域２０の第２方向に形成されたカソード電極１４と、カソード電極１４と連結されて非画素領域４０に形成された走査ライン６４と、データライン６２及び走査ライン６４に連結された駆動回路９０と、データライン６２及び走査ライン６４の少なくとも１つの一部が露出するように開口部８０ｃが形成された保護膜８０とを備えていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ装置の封止性能を損なうことなく狭額縁化を図る構造を提供する。
【解決手段】素子基板１１上の隔壁１６上に陰極１４と電気的に接続されるように設けられた第１補助電極４１と、素子基板１１上に隔壁１６と陰極１４と第１補助電極４１を覆うように設けられた陰極保護層１７と、隔壁１６上に陰極保護層１７を貫通するコンタクトホール内に配置され、第１補助電極４１と電気的に接続される導電配線２６と、導電配線２６の上面に設けられた導電性の導電接続部４２と、導電接続部４２と電気的に接続されるように設けられた引き回し配線２２とを備え、引き回し配線２２は、封止基板２１上に、非表示領域Ｍに対向し、かつ隔壁１６と対向する領域と一部重なるように設けられ、陰極１４は、第１補助電極４１と導電配線２６と導電接続部４２とを介して、引き回し配線２２と非表示領域Ｍに設けられた隔壁１６上で電気的に接続されている。 （もっと読む）

【解決課題】 透明性が高いパッシベーション層を備え、短期だけでなく長期の寿命を保証する有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】 パッシベーション層を備える有機ＥＬ素子の製造方法であって、パッシベーション層をプラズマＣＶＤ法によって形成するに際し、２層以上のパッシベーション層を積層した構造からなり、各層の表面のうち少なくともひとつの層の表面をフッ素原子を含むガスで表面をフッ化処理を行う有機ＥＬ素子の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】カラー表示を行う場合であっても確実な封止を行うことができ、且つ、薄型化が可能な構造を提供する。
【解決手段】本発明の有機ＥＬ装置は、複数の発光素子１０が形成された基板１１と、複数の発光素子１０の基板１１上で露出する部位全体を覆う保護膜２０と、保護膜２０上に形成され、複数の着色層がそれぞれ複数の発光素子１０と対向するように配置されたカラーフィルタ層３２と、カラーフィルタ層３２及び保護膜２０の基板１１上で露出する部位全体を覆う有機化合物からなる第１封止層４１と、第１封止層４１の基板１１上で露出する部位全体を覆う無機化合物からなる第２封止層４２と、を備えていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】トップエミッション型有機ＥＬ表示装置において、額縁領域の寸法を増大させずに、画面の輝度傾斜を小さくする。
【解決手段】多数の画素を有する素子基板１０に、封止基板４０が周辺部に形成されたシール材５０を介して接着している。画素において、有機ＥＬ層が下部電極と上部電極２３の間に挟持されている。上部電極２３がシール材５０の外側で、素子基板１０の端部にまで存在している。シール材５０の外側において、導電ペーストによって形成された電源線６０が上部電極２３と接続し、上部電極２３の電位降下を防ぎ、輝度の傾斜を抑制する。電源線６０がシール材５０の外側に形成されるので、額縁の寸法を小さくすることが出来る。 （もっと読む）

【課題】本発明は有機電界発光表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の有機電界発光表示装置は、基板と、上記基板上に位置し、ゲート、ソース、及びドレインを含むトランジスタと、上記トランジスタ上に位置し、上記ソースまたはドレインに連結された連結電極と、上記連結電極上に位置し、上記連結電極の一部を露出する第１犠牲層と、上記第１犠牲層上に位置し、上記連結電極の一部を露出する第２犠牲層と、上記連結電極と上記第２犠牲層上に位置する下部電極と、上記下部電極上に位置する有機発光層と、上記有機発光層上に位置する上部電極と、を含み、上記第１犠牲層が上記第２犠牲層より内側に引き込まれていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】水分の滲入によるダークスポットがほとんど発生することのない有機ＥＬ表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ表示装置１は、透明基板１０と、第１電極パターン１４と、無機材料によって構成された絶縁パターン１６と、分離体１８と、有機ＥＬ層２０と、第２電極パターン２２と、無機材料によって構成された保護層２４とを備える。有機ＥＬ層２０及び第２電極パターン２２は、第１電極パターン１４、絶縁パターン１６及び保護層２４によって囲まれている。有機ＥＬ層２０及び第２電極パターン２２と分離体１８との間に保護層２４が配置されることにより、有機ＥＬ層２０及び第２電極パターン２２と分離体１８とが保護層２４によって隔離されている。 （もっと読む）

【課題】平坦かつ汚染されていない表面を有する正孔注入層を備える有機ＥＬデバイスを提供すること。
【解決手段】基板と；基板上に配置された電極と；基板上に配置された電極と接続したＴＦＴデバイスと；基板上に配置された電極上に配置された遷移金属の酸化物からなる正孔注入層と；正孔注入層上に配置された有機発光層と；有機発光層上に配置され、前記基板上に配置された電極と対向する電極と；正孔注入層の一部を覆い、基板上に配置された、厚さ５〜７０ｎｍの無機膜と；無機膜上に配置され、フッ素含有樹脂を含むバンクと；を有する有機ＥＬデバイスであって、バンクの上面の濡れ性は、バンクの壁面の濡れ性よりも低く、かつバンクの壁面の濡れ性は、無機膜の濡れ性よりも低く、バンクおよび無機膜は、有機発光層の領域を規定する有機ＥＬデバイス。 （もっと読む）