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国際特許分類[H05B33/22]の内容

電気 (1,674,590) | 他に分類されない電気技術 (122,472) | 電気加熱;他に分類されない電気照明 (50,146) | エレクトロルミネッセンス光源 (27,371) | 実質的に2次元放射面をもつ光源 (12,071) | 補助的な誘電体または反射層の配置あるいは化学的または物理的組成によって特徴づけられたもの (3,135)

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【課題】有機エレクトロルミネッセンス素子から放射される光により画素トランジスタが劣化することを防止する。
【解決手段】基板2の上面に形成された画素電極20a及び画素トランジスタ21,22と、画素電極20aの外周部及び画素トランジスタ21,22を被覆するように形成された保護絶縁膜32と、保護絶縁膜32の上部に形成された隔壁6と、画素電極20aの上部に形成された有機化合物層20bと、有機化合物層20b及び隔壁6の上部に形成された対向電極20dとを備え、隔壁6には、画素電極20aの外周部に沿って溝6bが形成されているエレクトロルミネッセンスディスプレイパネル10である。 (もっと読む)


【課題】低コストで、大型のフレキシブル表示装置を提供する。
【解決手段】第1基板と、第1基板上に形成され、第1の方向に延長する複数の第1電極と、前記複数の第1電極上に形成される発光素子と、前記発光素子上に形成され、前記複数の第1電極と交差するように第2の方向に延長する複数の第2電極とを有するパッシブマトリクス型の表示装置であって、前記第1基板は、前記複数の第1電極と対向する面にストライプ状の金属配線が複数形成された第1樹脂フィルムであり、前記第1樹脂フィルムの複数の金属配線の各々は、前記複数の第1電極にそれぞれ電気的に接続されている。前記複数の第2電極上に配置される第2基板を有し、前記第2の基板は、前記複数の第2電極と対向する面にストライプ状の金属配線が複数形成された第2樹脂フィルムであり、前記第2樹脂フィルムの複数の金属配線の各々は、前記複数の第2電極にそれぞれ電気的に接続されている。 (もっと読む)


【課題】本発明は、画像表示装置に関し、トップエミッション方式を採用した有機EL素子によるアクティブマトリックス型の表示装置に適用して、トップエミッション方式の場合であっても、光フィードバック方式により各画素の発光輝度のばらつきを補正することができるようにする。
【解決手段】本発明は、各画素25に有機EL素子(10)の出射光の一部を受光素子27に導く光導光部ARを設ける。 (もっと読む)


【課題】有機EL素子から放射される光により画素トランジスタが劣化することを防止する。
【解決手段】ELパネル1の基板10上において、駆動トランジスタ6やスイッチトランジスタ5が設けられる領域と、有機EL素子8が設けられる領域とをそれぞれ独立させるように、ゲート絶縁膜11と層間絶縁膜12を、ゲート電極6a、5aと画素電極8aとの間に相当する部分で基板10の面に沿った方向に分断することによって、有機EL素子8の発光した光が、ゲート絶縁膜11や層間絶縁膜12に導光されて駆動トランジスタ6やスイッチトランジスタ5に到達することを防止し、その有機EL素子8から放射される光により駆動トランジスタ6やスイッチトランジスタ5の劣化や光リークを防止する。 (もっと読む)


【課題】発光部のパターニングが容易であり、パターニングの際に発光層等の有機物層に対する悪影響を与える虞がない有機EL素子を提供する。
【解決手段】陽極3と陰極7との間に少なくとも発光層5を含む有機物層13が挟持され、前記有機物層13と陽極3が形成された陽極基板11と、サブ電極層71と本電極層72とパターン形成層6が形成された陰極基板12とを貼り合わせることで得られる有機EL素子1であり、パターン形成層6の部分の本電極層72が亀裂部14として形成されている。 (もっと読む)


【課題】吸湿による有機層の劣化に起因して経時的な安定性が低下するのを防止しつつ、線欠陥が生じてしまった際に容易に修理することの可能な表示装置を提供する。
【解決手段】有機絶縁膜12Bの表示領域11A側の部分と、有機絶縁膜12Bの周縁領域11C側の部分とが溝12Dによって空間分離されている。第2電極17と接続された補助配線14において、溝12Dとの対向領域のうち少なくとも電源線50A、走査線40Aおよび信号線30Aとの交差領域に、開口14Bが形成されている。補助配線22のうち、電源線50Aおよび走査線40Aとの対向部分を補助配線22の延在方向から挟み込む部分には、基板11側に窪んだクランク17−1が設けられている。 (もっと読む)


【課題】有機エレクトロルミネッセンス素子から放射される光により画素トランジスタが劣化することを防止する。
【解決手段】同一の基板2の同一面に形成された画素電極21a及び画素トランジスタ21,22と、画素電極21a及び画素トランジスタ21,22を被覆するように形成された保護絶縁膜32と、保護絶縁膜32に形成され画素電極21aを露出させる露出孔33と、露出孔33内に形成された有機化合物層20bと、有機化合物層20bの上部であって隔壁6の上部でない部分に形成された対向電極20dと、
隔壁6及び対向電極20dの上部に形成された封止層7と、を備えるエレクトロルミネッセンスディスプレイパネル10である。 (もっと読む)


【課題】コンパクト化を実現しつつ、良好な表示性能を発揮し得る表示素子の製造方法を提供する。
【解決手段】有機発光素子10R,10G,10Bは、基板11に設けられた平坦化絶縁層12の上に、第1電極層13の上部有機層15側の端面を第1端部P1、第2電極層16の上部有機層15側の端面を第2端部P2とする共振器構造を有するものである。平坦化絶縁層12を形成する際には、基板11上に、感光性樹脂を全面に亘って塗布することにより絶縁膜を形成したのち、この絶縁膜を、露光および現像により全面に亘って厚み方向に一部除去しつつその表面を平坦化する。これにより、第1端部P1および第2端部P2が極めて平坦となり、かつ、下部有機層14および上部有機層15の厚みのばらつきも極めて小さなものとなるので、効率的に、かつ安定して発光が生じ、発光領域における面内方向の輝度むらが低減される。 (もっと読む)


【課題】有機エレクトロルミネッセンス素子から放射される光により画素トランジスタが劣化することを防止する。
【解決手段】基板2の上面に形成された画素電極20a及び画素トランジスタ21,22と、画素電極20aの外周部及び画素トランジスタ21,22を被覆するように形成された保護絶縁膜32と、保護絶縁膜32の上部であって画素トランジスタ21,22と対応する位置に形成された遮光層8と、遮光層8及び保護絶縁膜32の上部に形成された隔壁6と、画素電極20aの上部に形成された有機化合物層20bと、有機化合物層20b、隔壁6及び遮光層8の上部に形成された対向電極20aと、を備えるエレクトロルミネッセンスディスプレイパネル10である。 (もっと読む)


【課題】有機エレクトロルミネッセンス素子から放射される光により画素トランジスタが劣化することを防止する。
【解決手段】基板2の上面に形成された画素電極20a及び画素トランジスタ21,22と、画素電極20aの外周部及び画素トランジスタ21,22を被覆するように形成された保護絶縁膜32と、保護絶縁膜32の上部に形成された隔壁6と、隔壁6の上部に形成された光吸収層8と、画素電極20aの上部に形成された有機化合物層20bと、有機化合物層20b、隔壁6及び光吸収層8の上部に形成された対向電極20eと、を備えるエレクトロルミネッセンスディスプレイパネル10である。 (もっと読む)


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