表示装置
【課題】吸湿による有機層の劣化に起因して経時的な安定性が低下するのを防止しつつ、線欠陥が生じてしまった際に容易に修理することの可能な表示装置を提供する。
【解決手段】有機絶縁膜１２Ｂの表示領域１１Ａ側の部分と、有機絶縁膜１２Ｂの周縁領域１１Ｃ側の部分とが溝１２Ｄによって空間分離されている。第２電極１７と接続された補助配線１４において、溝１２Ｄとの対向領域のうち少なくとも電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａとの交差領域に、開口１４Ｂが形成されている。補助配線２２のうち、電源線５０Ａおよび走査線４０Ａとの対向部分を補助配線２２の延在方向から挟み込む部分には、基板１１側に窪んだクランク１７−１が設けられている。
【解決手段】有機絶縁膜１２Ｂの表示領域１１Ａ側の部分と、有機絶縁膜１２Ｂの周縁領域１１Ｃ側の部分とが溝１２Ｄによって空間分離されている。第２電極１７と接続された補助配線１４において、溝１２Ｄとの対向領域のうち少なくとも電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａとの交差領域に、開口１４Ｂが形成されている。補助配線２２のうち、電源線５０Ａおよび走査線４０Ａとの対向部分を補助配線２２の延在方向から挟み込む部分には、基板１１側に窪んだクランク１７−１が設けられている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機発光素子を備えた表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶ディスプレイに代わる表示装置として、有機発光素子を用いた有機ＥＬディスプレイが実用化されている。有機ＥＬディスプレイは、自発光型であるので、液晶などに比較して視野角が広く、また、高精細度の高速ビデオ信号に対しても十分な応答性を有するものと考えられている。
【０００３】
ところが、有機ＥＬディスプレイでは、吸湿によって有機発光素子の有機層の劣化が生じ易く、有機発光素子の発光輝度が低下したり、発光が不安定になったりするなど、経時的な安定性が低いという問題があった。
【０００４】
そのため、従来から、対面ガラスを用いて有機発光素子を封止することにより、水分が有機発光素子内に侵入するのを防止する試みがなされている。しかし、有機発光素子を駆動する駆動トランジスタを覆うと共に、駆動トランジスタによって生じる段差を平坦化するために用いられている平坦化絶縁膜には、有機材料からなる有機絶縁膜が含まれているので、この有機絶縁膜を通して水分がパネル内に侵入してしまう。したがって、対面ガラスを用いた場合であっても、水分が有機発光素子内に侵入するのを十分に防ぐことができないという問題があった。
【０００５】
そこで、例えば特許文献１では、有機絶縁膜をパネルの表示領域とその外周領域とに分離する分離溝を有機絶縁膜に設けることにより、有機絶縁膜を通して水分が外周領域から表示領域に侵入するのを防止する方策が提案されている。
【０００６】
【特許文献１】特開２００６−５４１１１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、有機絶縁膜に上記分離溝を設けた際に、この分離溝の底部に、有機発光素子のカソード電極の面内電位分布を均一化するカソード補助電極や、有機発光素子のカソード電極が設けられたり、さらに、外周領域に設けられたダミー画素の電源線や走査線、信号線等がフローティングにならないようにするために、これらにカソード電圧を印加する接続線が設けられたりすることがある。しかし、この分離溝の下方には駆動トランジスタに接続された電源線、走査線および信号線などが引き出されており、これらの配線が上記したカソード補助電極、カソード電極または接続線と分離溝の下方において交差している。そのため、製造過程で導電性の異物が混入し、駆動トランジスタに接続された電源線、走査線または信号線と、上記したカソード補助電極、カソード電極または接続線とが互いに短絡した場合には、短絡した電源線、走査線または信号線の電圧がカソード電圧となり、短絡した電源線、走査線または信号線に接続された有機発光素子に所望の電圧を印加することができなくなる。その結果、短絡した電源線、走査線または信号線に接続された有機発光素子を含む画素が全て滅点となり、線欠陥が生じてしまうという問題があった。
【０００８】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、吸湿による有機層の劣化に起因して経時的な安定性が低下するのを防止しつつ、線欠陥が生じてしまった際に容易に修理することの可能な表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の表示装置はパネル部を備えたものである。このパネル部には、表示領域内に複数の駆動トランジスタが形成されており、これら複数の駆動トランジスタを覆うと共に駆動トランジスタ側とは反対側の表面に平坦面を含む平坦化絶縁膜が形成されている。この平坦化絶縁膜には有機絶縁膜が含まれており、この有機絶縁膜には、表示領域のうち周縁領域側の端縁と駆動回路との間に、表示領域を囲む環状の第１開口が形成されている。このパネル部には、また、複数の駆動トランジスタに接続されると共に表示領域内にマトリクス状に配置された複数の有機発光素子を含む積層構造部と、複数の駆動トランジスタに接続されると共に表示領域から当該表示領域の周縁領域に延在する複数の配線とがそれぞれ形成されており、さらに、複数の配線に接続された駆動回路が周縁領域に形成されている。上記積層構造部は、駆動トランジスタに接続された第１電極と、第１開口内に形成された環状の第１補助配線と、第１電極に対して絶縁性を保って形成された第２補助配線と、分離絶縁膜と、発光層を含む有機層と、第２電極とを有している。ここで、第２補助配線は、第１電極との対向領域に第２開口を有すると共に、第１開口との対向領域のうち少なくとも複数の配線との交差領域に第３開口を有している。分離絶縁膜は、第１電極を露出させる第４開口と、第２補助配線のうち第２開口の近傍を露出させる第５開口とを有している。有機層は、少なくとも第１電極のうち第４開口内の露出面を覆っており、第２電極は、少なくとも有機層を覆うと共に、第２補助配線のうち第５開口内の露出面を覆っている。
【００１０】
本発明の表示装置では、平坦化絶縁膜に含まれる有機絶縁膜において、表示領域のうち周縁領域側の端縁と駆動回路との間に、表示領域を囲む環状の第１開口が形成されている。これにより、有機絶縁膜は第１開口によって表示領域側と周縁領域側とに分離されているので、有機絶縁膜の周縁領域に水分が侵入した場合であっても、有機絶縁膜を通して水分が周縁領域から表示領域に侵入するのを防止することができる。また、第５開口を介して第２電極と接続された第２補助配線において、有機絶縁膜に形成された環状の第１開口との対向領域のうち少なくとも、複数の駆動トランジスタに接続されると共に表示領域から当該表示領域の周縁領域に延在する複数の配線との交差領域に、第３開口が形成されている。これにより、第１開口内に形成された環状の第１補助配線のうち少なくとも複数の配線との交差領域上には、第２補助配線が存在していないので、例えば製造過程で導電性の異物が混入するなどして、第１補助配線と配線とが互いに短絡した場合には、第１補助配線のうち、短絡した配線との対向部分を当該第１補助配線の延在方向から挟み込む部分に対して例えばレーザなどを照射することにより、第１補助配線のうち短絡した配線との対向部分を、第１補助配線のその他の部分から絶縁分離することができる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の表示装置によれば、有機絶縁膜に第１開口を設けることにより、有機絶縁膜を通して水分が周縁領域から表示領域に侵入するのを防止するようにしたので、吸湿による有機層の劣化に起因して経時的な安定性が低下するのを防止することができる。また、第１開口内に形成された環状の第１補助配線のうち少なくとも複数の配線との交差領域に第３開口を設けることにより、その交差領域上に第２補助配線が存在しないようにしたので、第１補助配線と配線とが互いに短絡して線欠陥が生じてしまった際に容易に修理することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
【００１３】
［第１の実施の形態］
図１は、本発明の第１の実施の形態に係る有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂを用いた表示装置の構成を表したものである。この表示装置は、極薄型の有機発光カラーディスプレイ装置などとして用いられるものであり、例えば、ガラス，シリコン（Ｓｉ）ウェハあるいは樹脂などよりなる基板１１の上に、複数の有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂがマトリクス状に配置されてなる表示領域１１Ａが形成されると共に、この表示領域１１Ａの周辺に、映像表示用のドライバである信号線駆動回路３０、走査線駆動回路４０および電源線駆動回路５０が形成されたパネル部１を備えたものである。
【００１４】
表示領域１１Ａ内には、図２に例示したような画素駆動回路６０が形成されている。この画素駆動回路６０は、後述する第１電極１３の下層に形成され、駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２と、その間のキャパシタ（保持容量）Ｃｓと、電源線５０Ａとグラウンド（ＧＮＤ）との間において駆動トランジスタＴｒ１に直列に接続された有機発光素子１０Ｒ（または１０Ｇ，１０Ｂ）とを有するアクティブ型の駆動回路である。駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２は、一般的な薄膜トランジスタ（ＴＦＴ（Thin Film Transistor））により形成され、その構成は例えば逆スタガー構造（いわゆるボトムゲート型）でもよいしスタガー構造（トップゲート型）でもよく特に限定されない。
【００１５】
画素駆動回路６０において、列方向には信号線３０Ａが複数配置され、行方向には走査線４０Ａが複数配置されている。各信号線３０Ａと各走査線４０Ａとの交差点が、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂのいずれか一つ（サブピクセル）に対応している。各信号線３０Ａは、信号線駆動回路３０に接続され、この信号線駆動回路３０から信号線３０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のソース電極に画像信号が供給されるようになっている。各走査線４０Ａは走査線駆動回路４０に接続され、この走査線駆動回路４０から走査線４０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極に走査信号が順次供給されるようになっている。
【００１６】
また、表示領域１１Ａには、赤色の光を発生する有機発光素子１０Ｒと、緑色の光を発生する有機発光素子１０Ｇと、青色の光を発生する有機発光素子１０Ｂとが、順に全体としてマトリクス状に形成されている。なお、隣り合う有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの組み合わせが一つの画素（ピクセル）１０を構成している。
【００１７】
図３は、パネル部１の上面構成を表したものである。図４は、図３のＡ−Ａ矢視方向の断面構成、具体的には、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂのそれぞれに共通する断面構成を表したものである。図５は、図４の第１電極１３（後述）と同一面内における平面構成を模式的に表したものである。なお、図４は、図５のＡ−Ａ矢視方向の断面図に対応している。基板１１上には、上述した画素駆動回路６０の駆動トランジスタＴｒ１と、平坦化絶縁膜１２とが基板１１側から順に積層されており、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、それぞれ、この平坦化絶縁膜１２のうち画素駆動回路６０とは反対側の表面に形成された平坦面１２Ｓ上の積層構造部２内に形成されている。
【００１８】
駆動トランジスタＴｒ１は、平坦化絶縁膜１２に設けられた接続孔１２Ｃを介して第１電極１３（後述）に電気的に接続されている。平坦化絶縁膜１２は、画素駆動回路６０が形成された基板１１の表面を平坦化するためのものであり、無機絶縁膜１２Ａおよび有機絶縁膜１２Ｂを基板１１側から順に積層してなる積層構造を有している。無機絶縁膜１２Ａは、後述するように、例えば無機絶縁膜１２Ａ−１，１２Ａ−２を基板１１側から順に重ね合わせた構造となっている（図７参照）。また、平坦化絶縁膜１２は、表示領域１１Ａのうち、表示領域１１Ａの周縁領域１１Ｃ側の端縁（端縁１１Ｂ）と、信号線駆動回路３０、走査線駆動回路４０および電源線駆動回路５０との間に、表示領域１１Ａを囲む環状の溝１２Ｄ（第１開口）を有している（図３参照）。この溝１２Ｄは、平坦化絶縁膜１２の平坦面１２側から有機絶縁膜１２Ｂおよび無機絶縁膜１２Ａ−２を貫通する深さを有している（図７参照）。この平坦化絶縁膜１２には、微細な接続孔１２Ｃや溝１２Ｄが形成されるので、無機絶縁膜１２Ａおよび有機絶縁膜１２Ｂはパターン精度の良い材料により形成されていることが好ましい。無機絶縁膜１２Ａの構成材料としては、例えば酸化シリコン（ＳｉＯ２ ）や窒化シリコン（ＳｉＮ）などが挙げられる。また、有機絶縁膜１２Ｂの構成材料としては、例えば、ポリイミドなどが挙げられる。
【００１９】
有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、陽極としての第１電極１３、有機層１６および陰極としての第２電極１７が基板１１側から順に積層された構成を有している。図４に例示したように、第１電極１３と同一面内において、第１電極１３の周囲には、第１電極１３を取り囲む補助配線１４（第２補助配線）が形成されている。この補助配線１４は、第１電極１３との対向領域に開口１４Ａ（第２開口）を有しており、第１電極１３と所定の間隙を介して配置されている。そのため、補助配線１４は、第１電極１３に対して絶縁性を保っている。なお、この補助配線１４は、後述するように、平坦化絶縁膜１２の溝１２Ｄとの対向領域のうち少なくとも電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａ（複数の配線）との交差領域に開口１４Ｂ（第３開口）を有している（図７参照）。さらに、第１電極１３の周囲には分離絶縁膜１５が形成されている。この分離絶縁膜１５は、第１電極１３を露出させる開口１５Ａ（第４開口）と、補助配線１４のうち開口１４Ａの近傍を露出させる開口１５Ｂ（第５開口）とを有している。有機層１６は、少なくとも第１電極１３のうち開口１５Ａ内の露出面を覆っており、第２電極１７は、少なくとも有機層１６を覆うと共に補助配線１４のうち開口１５Ｂ内の露出面を覆っている。なお、図３には、有機層１６が第１電極１３のうち開口１５Ａ内の露出面と、分離絶縁膜１５の一部を覆い、第２電極１７が有機層１６と、補助配線１４のうち開口１５Ｂ内の露出面と、分離絶縁膜１５のうち有機層１６で覆われていない部分とを覆っている（つまり、第２電極１７は有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂのうち基板１１とは反対側の表面全体に渡って形成されている）場合が例示されている。
【００２０】
ところで、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂにおいて、第１電極１３は反射層としての機能を有する一方、第２電極１７が半透過性反射層としての機能を有しており、これら第１電極１３と第２電極１７とにより、有機層１６に含まれる発光層１６Ｃ（後述）において発生した光を共振させる共振器構造が構成されている。
【００２１】
すなわち、この有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、第１電極１３の有機層１６側の端面と、第２電極１７の有機層１６側の端面とが一対の反射鏡を構成し、発光層１６Ｃで発生した光をこの一対の反射鏡で共振させて第２電極１７側から取り出す共振器構造を有している。これにより、発光層１６Ｃで発生した光が多重干渉を起こし、共振器構造が一種の狭帯域フィルタとして作用することにより、取り出される光のスペクトルの半値幅が減少し、色純度を向上させることができる。また、封止用基板２０側から入射した外光に対しては多重干渉により減衰させることができ、後述するカラーフィルタ５２、または位相差板および偏光板（図示せず）との組合せにより有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂにおける外光の反射率を極めて小さくすることができる。
【００２２】
第１電極１３は、上述したように反射層としての機能も兼ねており、できるだけ高い反射率を有するようにすることが発光効率を高める上で望ましい。第１電極１３は、例えば、クロム（Ｃｒ）、金（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、ニッケル（Ｎｉ）、銅（Ｃｕ）、タングステン（Ｗ）あるいは銀（Ａｇ）などの金属元素の単体または合金により構成されており、その積層方向の厚さ（以下、単に厚さと言う）が、例えば１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下となっている。
【００２３】
補助配線１４は、第２電極１７の面内電位分布を均一化するために設けられたものである。この補助配線１４は、上述したように第１電極１３と同一面内に形成されていることから、第１電極１３と同一材料により構成されていることが好ましい。このようにした場合には、補助配線１４を第１電極１３と同一工程で形成可能となるので、製造工程を簡略化することができる。
【００２４】
分離絶縁膜１５は、第１電極１３と第２電極１７との絶縁性を確保するとともに、発光層１６Ｃにおける発光領域を正確に所望の形状にするためのものであり、例えば感光性樹脂により構成されている。分離絶縁膜１５には、発光領域に対応して開口１５Ａが設けられている。なお、有機層１６および第２電極１７は、第１電極１３上だけでなく分離絶縁膜１５上にも連続して設けられているが、発光が生じるのは発光層１６Ｃのうち第１電極１３に近接する部分だけである。
【００２５】
有機層１６は、例えば、第１電極１３の側から順に、正孔注入層１６Ａ、正孔輸送層１６Ｂ、発光層１６Ｃおよび電子輸送層１６Ｄを積層してなる積層構造を有している。なお、有機層１６は、必要に応じて、上で例示した層以外の層を含んでいてもよいし、正孔輸送層１６Ｂおよび電子輸送層１６Ｄをなくしてもよい。また、有機層１６は、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの発光色によってそれぞれ異なる構成を有していてもよい。
【００２６】
正孔注入層１６Ａは、正孔注入効率を高めるためのものである。正孔輸送層１６Ｂは、発光層１６Ｃへの正孔輸送効率を高めるためのものである。発光層１６Ｃは、第１電極１３と第２電極１７との間に発生する電界によって電子と正孔との再結合を起こさせ、光を発生させるためものである。電子輸送層１６Ｄは、発光層１６Ｃへの電子輸送効率を高めるためのものである。なお、電子輸送層１６Ｄと第２電極１７との間には、ＬｉＦ，Ｌｉ２ Ｏなどよりなる電子注入層（図示せず）を設けてもよい。
【００２７】
第２電極１７は、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、ナトリウム（Ｎａ）などの金属元素の単体または合金からなり、中でも、マグネシウムと銀との合金（ＭｇＡｇ合金）、またはアルミニウム（Ａｌ）とリチウム（Ｌｉ）との合金（ＡｌＬｉ合金）により構成されていることが好ましい。第２電極１７の厚さは、例えば５ｎｍ以上５０ｎｍ以下となっている。
【００２８】
また、本実施の形態において、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、窒化ケイ素（ＳｉＮx ）などの保護膜１８により被覆され、更にこの保護膜１８上に接着層１９を間にしてガラスなどよりなる封止用基板２０が全面にわたって貼り合わされることにより封止されている。
【００２９】
接着層１９は、例えば熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂により構成されている。
【００３０】
封止用基板２０は、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの第２電極１７の側に位置しており、接着層１９と共に有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂを封止するためのものである。この封止用基板２０は、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂで発生した光に対して透明なガラスなどの材料により構成されている。封止用基板２０には、例えば、カラーフィルタ２１が設けられており、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂで発生した光を取り出すと共に、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ並びにその間の配線において反射された外光を吸収し、コントラストを改善するようになっている。
【００３１】
図６は、図３の二点鎖線で囲まれた領域α、具体的には、表示領域１１Ａの周囲であって、かつ表示領域１１Ａの端縁１１Ｂ近傍の領域の平面構成を表したものである。図７は図６の領域αにおけるＡ−Ａ矢視方向の断面構成を、図８は図６の領域αにおけるＢ−Ｂ矢視方向の断面構成をそれぞれ表したものである。
【００３２】
上述したように、平坦化絶縁膜１２には環状の溝１２Ｄが形成されており、平坦化絶縁膜１２の表示領域１１Ａ側の部分と、平坦化絶縁膜１２の周縁領域１１Ｃ側の部分とが環状の溝１２Ｄによって空間分離されている。また、この環状の溝１２Ｄの下方、具体的には、溝１２Ｄの底面と、基板１１との間には、駆動トランジスタＴｒ１に接続された電源線５０Ａや、駆動トランジスタＴｒ２に接続された走査線４０Ａおよび信号線３０Ａが引き出されて（表示領域１１Ａから周縁領域１１Ｃにかけて延在して形成されて）おり、基板１１の法線方向から見て、これら電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａが、溝１２Ｄと交差している。そして、その交差領域を含む領域には、補助配線１４の開口１４Ｂが設けられており、この領域では、溝１２Ｄおよび開口１４Ｂの深さの分だけ（つまり、補助配線１４、無機絶縁膜１２Ａ−２および有機絶縁膜１２Ｂの厚みの分だけ）、基板１１と保護膜１８との間に形成された積層構造部２の厚さが薄くなっている。
【００３３】
なお、図６〜図８には、電源線５０Ａおよび走査線４０Ａが溝１２Ｄと交差している箇所の上面構成および断面構成が例示されている。また、図６〜図８には、第２電極１７が表示領域１１Ａ側から周縁領域１１Ｃ側に渡って一面に形成されている、つまり、第２電極１７が後述の補助配線２２と接して形成されている場合が例示されているが、例えば、図９、図１０、図１１に示したように、開口１４Ｂとの対向領域に開口１７Ｄ（第６開口）を設け、第２電極１７と補助配線２２とを互いに絶縁分離するようにしてもよい。また、例えば、図１２に示したように、表示領域１１Ａおよび周縁領域１１Ｃのうち溝１２Ｄで囲まれた領域内にだけ形成するようにしてもよい。
【００３４】
さらに、この環状の溝１２Ｄの内部（底面）には、溝１２Ｄに沿って形成された環状の補助配線２２（第１補助配線）が配置されている。この補助配線２２は、周縁領域１１Ｃに設けられたダミー画素の電源線や走査線、信号線等（いずれも図示せず）がフローティングにならないようにするために、これらにカソード電圧を印加するために設けられたものである。この補助配線２２は、基板１１の法線方向から見て、電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａと交差しており、無機絶縁膜１２Ａ−１を介して絶縁分離されている。また、この補助配線２２のうち、電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａとの対向部分を補助配線２２の延在方向から挟み込む部分には、基板１１側に窪んだクランク１７−１が設けられている。このクランク１７−１は、溝１２Ｄと開口１４Ｂとが互いに重なり合う領域に設けられており、例えば、孤立配線１７Ａと、連結部１７Ｂ，１７Ｃとにより構成されている。ここで、孤立配線１７Ａは、電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａと同一面内（同一層内）に形成されており、これら電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａに対して絶縁性を保っている。この孤立配線１７Ａは、電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａの厚さと同一またはほぼ同一の厚さとなっており、補助配線２２のうちクランク１７−１以外の部分の厚さよりも十分に薄くなっている。また、連結部１７Ｂは、補助配線２２のうち、電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａとの対向部分と、孤立配線１７Ａとを互いに接続するビアである。連結部１７Ｃは、補助配線２２のうち、補助配線１４の開口１４Ｂを補助配線２２の延在方向から挟み込む部分と、孤立配線１７Ａとを互いに接続するビアである。なお、補助配線２２は、クランク１７−１を含め、同一材料で形成されていてもよいが、クランク１７−１だけ、他の部分と異なる材料で形成されていてもよい。
【００３５】
このような構成を備えた表示装置では、各画素に対して駆動トランジスタＴｒ１がオンオフ制御され、各画素の有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに駆動電流が注入されることにより、正孔と電子とが再結合して発光が起こる。この光は、第１電極１３と第２電極１７との間で多重反射し、第２電極１７、保護膜１８、接着層１９、カラーフィルタ２１および封止用基板２０を透過して取り出される。
【００３６】
ところで、本実施の形態では、平坦化絶縁膜１２に含まれる有機絶縁膜１２Ｂにおいて、表示領域１１Ａのうち周縁領域１１Ｃ側の端縁１１Ｂと、信号線駆動回路３０、走査線駆動回路４０および電源線駆動回路５０との間に、表示領域１１Ａを囲む環状の溝１２Ｄが形成されている。これにより、有機絶縁膜１２Ｂは溝１２Ｄによって表示領域１１Ａ側と周縁領域１１Ｃ側とに分離されているので、有機絶縁膜１２の周縁領域１１Ｃに水分が侵入した場合であっても、有機絶縁膜１２を通して水分が周縁領域１１Ｃから表示領域１１Ａに侵入するのを防止することができる。その結果、吸湿による有機層１６の劣化に起因して経時的な安定性が低下するのを防止することができる。
【００３７】
また、本実施の形態では、分離絶縁膜１５の開口１５Ｂを介して第２電極１７と接続された補助配線１４において、有機絶縁膜１２Ｂに形成された環状の溝１２Ｄとの対向領域のうち少なくとも電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａとの交差領域に、開口１４Ｂが形成されている。これにより、溝１２Ｄ内に形成された環状の補助配線２２のうち少なくとも電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａとの交差領域上には、補助配線２２が存在していないので、例えば、図１３〜１５（第２電極１７と補助配線２２が互いに接続されている場合）や、図１６〜１８（第２電極１７と補助配線２２が互いに接続されている場合）に示したように、製造過程で導電性の異物Ｐが混入するなどして、電源線５０Ａ、走査線４０Ａまたは信号線３０Ａと、補助配線２２とが互いに短絡した場合には、補助配線２２のうち、短絡した配線との対向部分を補助配線２２の延在方向から挟み込む部分（具体的にはクランク１７−１の孤立配線１７Ａ。図１３、１５、１６、１８中の波状の破線部分）に対して例えばレーザなどを照射することにより、補助配線２２のうち短絡した配線との対向部分を、補助配線２２のその他の部分から絶縁分離することができる。このように、本実施の形態では、電源線５０Ａ、走査線４０Ａまたは信号線３０Ａと、補助配線２２とが互いに短絡して線欠陥が生じてしまった際に容易に修理することができる。
【００３８】
［第２の実施の形態］
本発明の第２の実施の形態に係る表示装置は、上記実施の形態の表示装置におけるクランク１７−１の構造と、電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａの配置を異ならせたものである。そこで、以下では、上記実施の形態との相違点について主に説明し、上記実施の形態との共通点については適宜省略するものとする。
【００３９】
図１９は、領域αの平面構成を表したものである。図２０は図１９の領域αにおけるＡ−Ａ矢視方向の断面構成を、図２１は図１９の領域αにおけるＢ−Ｂ矢視方向の断面構成をそれぞれ表したものである。
【００４０】
上記実施の形態と同様、平坦化絶縁膜１２には環状の溝１２Ｄが形成されており、平坦化絶縁膜１２の表示領域１１Ａ側の部分と、平坦化絶縁膜１２の周縁領域１１Ｂ側の部分とが環状の溝１２Ｄによって空間分離されている。また、この環状の溝１２Ｄの側壁を貫通するようにして、駆動トランジスタＴｒ１に接続された電源線５０Ａや、駆動トランジスタＴｒ２に接続された走査線４０Ａおよび信号線３０Ａが引き出されて（表示領域１１Ａから周縁領域１１Ｂにかけて延在して形成されて）おり、基板１１の法線方向から見て、これら電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａが、溝１２Ｄと交差している。また、電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａは、無機絶縁膜１２Ａ−１上に形成されており、溝１２Ｄの内部において、無機絶縁膜１２Ａ−１と共に露出している。そして、溝１２Ｄと、電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａとの交差領域を含む領域には、補助配線１４の開口１４Ｂが設けられており、この領域では、溝１２Ｄおよび開口１４Ｂの深さの分だけ（つまり、補助配線１４、無機絶縁膜１２Ａ−２および有機絶縁膜１２Ｂの厚みの分だけ）、基板１１と保護膜１８との間に形成された積層構造部２の厚さが薄くなっている。
【００４１】
なお、図１９〜図２１には、電源線５０Ａおよび走査線４０Ａが溝１２Ｄと交差している箇所の上面構成および断面構成が例示されている。また、図１９〜図２１には、第２電極１７は、開口１４Ｂとの対向領域に設けられた開口１７Ｄによって、補助配線２２と絶縁分離されている場合が例示されているが、例えば、溝１２Ｄの底部に絶縁材料を充填し、電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａを覆い、これらを覆った絶縁材料上に第２電極１７を設けることにより、第２電極１７と補助配線２２とを互いに絶縁分離するようにしてもよい。また、例えば、図１２に示したように、表示領域１１Ａおよび周縁領域１１Ｂのうち溝１２Ｄで囲まれた領域内にだけ形成するようにしてもよい。
【００４２】
さらに、この環状の溝１２Ｄの下方、具体的には、溝１２Ｄの底面と基板１１との間には、溝１２Ｄに沿って形成された環状の補助配線２２が配置されている。この補助配線２２は、上記実施の形態と同様、周縁領域１１Ｂに設けられたダミー画素の電源線や走査線、信号線等（いずれも図示せず）がフローティングにならないようにするために、これらにカソード電圧を印加するために設けられたものである。この補助配線２２は、基板１１の法線方向から見て、電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａと交差しており、無機絶縁膜１２Ａ−１を介して絶縁分離されている。また、この補助配線２２のうち、電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａとの対向部分と、この対向部分を補助配線２２の延在方向から挟み込む部分とには、基板１１側に窪んだクランク１７−１が設けられている。このクランク１７−１は、溝１２Ｄと開口１４Ｂとが互いに重なり合う領域に設けられており、例えば、孤立配線１７Ａと、連結部１７Ｃとにより構成されている。ここで、孤立配線１７Ａは、電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａと同一面内（同一層内）に形成されており、これら電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａに対して絶縁性を保っている。この孤立配線１７Ａは、電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａの厚さと同一またはほぼ同一の厚さとなっており、補助配線２２のうちクランク１７−１以外の部分の厚さよりも十分に薄くなっている。また、連結部１７Ｃは、補助配線２２のうち、補助配線１４の開口１４Ｂを補助配線２２の延在方向から挟み込む部分同士と、孤立配線１７Ａとを互いに接続するビアである。なお、補助配線２２は、クランク１７−１を含め、同一材料で形成されていてもよいが、クランク１７−１だけ、他の部分と異なる材料で形成されていてもよい。
【００４３】
ところで、本実施の形態では、上記実施の形態と同様、平坦化絶縁膜１２に含まれる有機絶縁膜１２Ｂにおいて、表示領域１１Ａのうち周縁領域１１Ｃ側の端縁１１Ｂと、信号線駆動回路３０、走査線駆動回路４０および電源線駆動回路５０との間に、表示領域１１Ａを囲む環状の溝１２Ｄが形成されている。これにより、有機絶縁膜１２Ｂは溝１２Ｄによって表示領域１１Ａ側と周縁領域１１Ｃ側とに分離されているので、有機絶縁膜１２の周縁領域１１Ｃに水分が侵入した場合であっても、有機絶縁膜１２を通して水分が周縁領域１１Ｃから表示領域１１Ａに侵入するのを防止することができる。その結果、吸湿による有機層１６の劣化に起因して経時的な安定性が低下するのを防止することができる。
【００４４】
また、本実施の形態では、分離絶縁膜１５の開口１５Ｂを介して第２電極１７と接続された補助配線１４において、有機絶縁膜１２Ｂに形成された環状の溝１２Ｄとの対向領域のうち少なくとも電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａとの交差領域に、開口１４Ｂが形成されている。これにより、溝１２Ｄの下方に形成された環状の補助配線２２のうち少なくとも電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａとの交差領域上には、補助配線２２が存在していないので、例えば、図２２〜２４に示したように、製造過程で導電性の異物Ｐが混入するなどして、電源線５０Ａ、走査線４０Ａまたは信号線３０Ａと、補助配線２２とが互いに短絡した場合には、補助配線２２のうち、短絡した配線との対向部分を補助配線２２の延在方向から挟み込む部分（具体的にはクランク１７−１の孤立配線１７Ａのうちビア１７Ｃに近接する両端部。図２２、図２４中の波状の破線部分）に対して例えばレーザなどを照射することにより、補助配線２２のうち短絡した配線との対向部分を、補助配線２２のその他の部分から絶縁分離することができる。このように、本実施の形態では、電源線５０Ａ、走査線４０Ａまたは信号線３０Ａと、補助配線２２とが互いに短絡して線欠陥が生じてしまった際に容易に修理することができる。
【００４５】
（モジュールおよび適用例）
以下、上述した第１ないし第２の実施の形態で説明した表示装置の適用例について説明する。上記各実施の形態の表示装置は、テレビジョン装置、デジタルカメラ、ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置あるいはビデオカメラなど、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、画像あるいは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。
【００４６】
（モジュール）
上記各実施の形態の表示装置は、例えば、図２５に示したようなモジュールとして、後述する適用例１〜５などの種々の電子機器に組み込まれる。このモジュールは、例えば、基板１１の一辺に、封止用基板２０および接着層１９から露出した領域２１０を設け、この露出した領域２１０に、信号線駆動回路３０、走査線駆動回路４０および電源線駆動回路５０の配線を延長して外部接続端子（図示せず）を形成したものである。外部接続端子には、信号の入出力のためのフレキシブルプリント配線基板（ＦＰＣ；Flexible Printed Circuit）２２０が設けられていてもよい。
【００４７】
（適用例１）
図２６は、上記各実施の形態の表示装置が適用されるテレビジョン装置の外観を表したものである。このテレビジョン装置は、例えば、フロントパネル３１０およびフィルターガラス３２０を含む映像表示画面部３００を有しており、この映像表示画面部３００は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【００４８】
（適用例２）
図２７は、上記各実施の形態の表示装置が適用されるデジタルカメラの外観を表したものである。このデジタルカメラは、例えば、フラッシュ用の発光部４１０、表示部４２０、メニュースイッチ４３０およびシャッターボタン４４０を有しており、その表示部４２０は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【００４９】
（適用例３）
図２８は、上記各実施の形態の表示装置が適用されるノート型パーソナルコンピュータの外観を表したものである。このノート型パーソナルコンピュータは、例えば、本体５１０，文字等の入力操作のためのキーボード５２０および画像を表示する表示部５３０を有しており、その表示部５３０は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【００５０】
（適用例４）
図２９は、上記各実施の形態の表示装置が適用されるビデオカメラの外観を表したものである。このビデオカメラは、例えば、本体部６１０，この本体部６１０の前方側面に設けられた被写体撮影用のレンズ６２０，撮影時のスタート／ストップスイッチ６３０および表示部６４０を有しており、その表示部６４０は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【００５１】
（適用例５）
図３０は、上記各実施の形態の表示装置が適用される携帯電話機の外観を表したものである。この携帯電話機は、例えば、上側筐体７１０と下側筐体７２０とを連結部（ヒンジ部）７３０で連結したものであり、ディスプレイ７４０，サブディスプレイ７５０，ピクチャーライト７６０およびカメラ７７０を有している。そのディスプレイ７４０またはサブディスプレイ７５０は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【００５２】
以上、実施の形態を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、種々変形が可能である。
【００５３】
例えば、本発明は、上記実施の形態において説明した各層の材料および厚み、または成膜方法および成膜条件などに限定されるものではなく、他の材料および厚みとしてもよく、または他の成膜方法および成膜条件としてもよい。例えば、上記実施の形態においては、基板１１の上に、第１電極１３、有機層１６および第２電極１７を基板１１の側から順で積層し、封止用基板２０の側から光を取り出すようにした場合について説明したが、積層順序を逆にして、基板１１の上に、第２電極１７，有機層１６および第１電極１３を基板１１の側から順に積層し、基板１１の側から光を取り出すようにすることもできる。
【００５４】
また、例えば、上記実施の形態では、第１電極１３を陽極、第２電極１７を陰極とする場合について説明したが、陽極および陰極を逆にして、第１電極１３を陰極、第２電極１７を陽極としてもよい。さらに、第１電極１３を陰極、第２電極１７を陽極とすると共に、基板１１の上に、第２電極１７，有機層１６および第１電極１３を基板１１の側から順に積層し、基板１１の側から光を取り出すようにすることもできる。
【００５５】
また、上記実施の形態では、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの構成を具体的に挙げて説明したが、全ての層を備える必要はなく、また、他の層を更に備えていてもよい。例えば、第１電極１３と有機層１６との間に、酸化クロム（ＩＩＩ）（Ｃｒ2 Ｏ3 ），ＩＴＯ（Indium-Tin Oxide：インジウム（Ｉｎ）およびスズ（Ｓｎ）の酸化物混合膜）などからなる正孔注入用薄膜層を備えていてもよい。また、第１電極１３を、例えば、誘電体多層膜とすることもできる。
【００５６】
また、上記実施の形態では、第２電極１７を半透過性反射層により構成した場合について説明したが、第２電極１７を、半透過性反射層と透明電極とが第１電極１３の側から順に積層された構造としてもよい。この透明電極は、半透過性反射層の電気抵抗を下げるためのものであり、発光層で発生した光に対して十分な透光性を有する導電性材料により構成されている。透明電極を構成する材料としては、例えば、ＩＴＯまたはインジウムと亜鉛（Ｚｎ）と酸素とを含む化合物が好ましい。室温で成膜しても良好な導電性を得ることができるからである。透明電極の厚みは、例えば３０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下とすることができる。また、この場合、半透過性反射層を一方の端部とし、透明電極を挟んで半透過性電極に対向する位置に他方の端部を設け、透明電極を共振部とする共振器構造を形成するようにしてもよい。さらに、そのような共振器構造を設けた上で、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂを保護膜１８で覆うようにし、この保護膜１８を、透明電極を構成する材料と同程度の屈折率を有する材料により構成すれば、保護膜１８を共振部の一部とすることができ、好ましい。
【００５７】
また、本発明は、第２電極１７を透明電極により構成すると共に、この透明電極の有機層１６と反対側の端面の反射率が大きくなるように構成し、第１電極１３の発光層１６Ｃ側の端面を第１端部、透明電極の有機層と反対側の端面を第２端部とした共振器構造を構成した場合についても適用することができる。例えば、透明電極を大気層に接触させ、透明電極と大気層との境界面の反射率を大きくして、この境界面を第２端部としてもよい。また、接着層との境界面での反射率を大きくして、この境界面を第２端部としてもよい。さらに、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂを保護膜１８で覆い、この保護膜１８との境界面での反射率を大きくして、この境界面を第２端部としてもよい。
【００５８】
また、上記各実施の形態では、アクティブマトリクス型の表示装置の場合について説明したが、本発明はパッシブマトリクス型の表示装置への適用も可能である。また、アクティブマトリクス駆動のための画素駆動回路の構成は、上記各実施の形態で説明したものに限られず、必要に応じて容量素子やトランジスタを追加してもよい。その場合、画素駆動回路の変更に応じて、上述した信号線駆動回路３０や、走査線駆動回路４０、電源線駆動回路５０のほかに、必要な駆動回路を追加してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る表示装置の構成図である。
【図２】画素駆動回路の一例を表す図である。
【図３】図１のパネル部の平面構成の一例を表す図である。
【図４】図１の有機発光素子の断面構成図である。
【図５】第１電極および補助配線の平面構成図である。
【図６】図３の領域αにおける平面構成の一例を表す図である。
【図７】図６の領域αのＡ−Ａ矢視方向の断面構成図である。
【図８】図６の領域αのＢ−Ｂ矢視方向の断面構成図である。
【図９】図３の領域αにおける平面構成の他の例を表す図である。
【図１０】図９の領域αのＡ−Ａ矢視方向の断面構成図である。
【図１１】図９の領域αのＢ−Ｂ矢視方向の断面構成図である。
【図１２】図１の領域αの平面構成の他の例を表す図である。
【図１３】図６の領域αに異物が混入したときの平面構成の一例を表す図である。
【図１４】図１３の領域αのＡ−Ａ矢視方向の断面構成図である。
【図１５】図１３の領域αのＢ−Ｂ矢視方向の断面構成図である。
【図１６】図９の領域αに異物が混入したときの平面構成の一例を表す図である。
【図１７】図１６の領域αのＡ−Ａ矢視方向の断面構成図である。
【図１８】図１６の領域αのＢ−Ｂ矢視方向の断面構成図である。
【図１９】本発明の第２の実施の形態に係る表示装置の領域αにおける平面構成の一例を表す図である。
【図２０】図２０の領域αのＡ−Ａ矢視方向の断面構成図である。
【図２１】図２０の領域αのＢ−Ｂ矢視方向の断面構成図である。
【図２２】図９の領域αに異物が混入したときの平面構成の一例を表す図である。
【図２３】図２２の領域αのＡ−Ａ矢視方向の断面構成図である。
【図２４】図２２の領域αのＢ−Ｂ矢視方向の断面構成図である。
【図２５】上記各実施の形態の表示装置を含むモジュールの概略構成を表す平面図である。
【図２６】上記各実施の形態の表示装置の適用例１の外観を表す斜視図である。
【図２７】（Ａ）は適用例２の表側から見た外観を表す斜視図であり、（Ｂ）は裏側から見た外観を表す斜視図である。
【図２８】適用例３の外観を表す斜視図である。
【図２９】適用例４の外観を表す斜視図である。
【図３０】（Ａ）は適用例５の開いた状態の正面図、（Ｂ）はその側面図、（Ｃ）は閉じた状態の正面図、（Ｄ）は左側面図、（Ｅ）は右側面図、（Ｆ）は上面図、（Ｇ）は下面図である。
【符号の説明】
【００６０】
１…パネル部、２…積層構造部、１０…画素、１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ…有機発光素子、１１…基板、１１Ａ…表示領域、１１Ｂ…端縁、１１Ｃ…周縁領域、１２…平坦化絶縁膜、１２Ａ，１２Ａ−１，１２Ａ−２…無機絶縁膜、１２Ｂ…有機絶縁膜、１２Ｃ…接続孔、１２Ｄ…溝、１２Ｓ…平坦面、１３…第１電極、１４，２２…補助配線、１４Ａ，１４Ｂ，１５Ａ，１５Ｂ，１７Ｄ…開口、１５…分離絶縁膜、１５Ａ，１５Ｂ…開口、１６…有機層、１６−１，１６Ａ−１…端部、１６Ａ…正孔注入層、１６Ｂ…正孔輸送層、１６Ｃ…発光層、１６Ｄ…電子輸送層、１７…第２電極、１７−１…クランク、１７Ａ…孤立配線、１７Ｂ，１７Ｃ…連結部、１８…保護膜、１９…接着層、２０…封止用基板、２１…カラーフィルタ、３０…信号駆動回路、３０Ａ…信号線、４０…走査線駆動回路、４０Ａ…走査線、５０…電源線駆動回路、５０Ａ…電源線、６０…画素駆動回路、α…領域。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機発光素子を備えた表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶ディスプレイに代わる表示装置として、有機発光素子を用いた有機ＥＬディスプレイが実用化されている。有機ＥＬディスプレイは、自発光型であるので、液晶などに比較して視野角が広く、また、高精細度の高速ビデオ信号に対しても十分な応答性を有するものと考えられている。
【０００３】
ところが、有機ＥＬディスプレイでは、吸湿によって有機発光素子の有機層の劣化が生じ易く、有機発光素子の発光輝度が低下したり、発光が不安定になったりするなど、経時的な安定性が低いという問題があった。
【０００４】
そのため、従来から、対面ガラスを用いて有機発光素子を封止することにより、水分が有機発光素子内に侵入するのを防止する試みがなされている。しかし、有機発光素子を駆動する駆動トランジスタを覆うと共に、駆動トランジスタによって生じる段差を平坦化するために用いられている平坦化絶縁膜には、有機材料からなる有機絶縁膜が含まれているので、この有機絶縁膜を通して水分がパネル内に侵入してしまう。したがって、対面ガラスを用いた場合であっても、水分が有機発光素子内に侵入するのを十分に防ぐことができないという問題があった。
【０００５】
そこで、例えば特許文献１では、有機絶縁膜をパネルの表示領域とその外周領域とに分離する分離溝を有機絶縁膜に設けることにより、有機絶縁膜を通して水分が外周領域から表示領域に侵入するのを防止する方策が提案されている。
【０００６】
【特許文献１】特開２００６−５４１１１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、有機絶縁膜に上記分離溝を設けた際に、この分離溝の底部に、有機発光素子のカソード電極の面内電位分布を均一化するカソード補助電極や、有機発光素子のカソード電極が設けられたり、さらに、外周領域に設けられたダミー画素の電源線や走査線、信号線等がフローティングにならないようにするために、これらにカソード電圧を印加する接続線が設けられたりすることがある。しかし、この分離溝の下方には駆動トランジスタに接続された電源線、走査線および信号線などが引き出されており、これらの配線が上記したカソード補助電極、カソード電極または接続線と分離溝の下方において交差している。そのため、製造過程で導電性の異物が混入し、駆動トランジスタに接続された電源線、走査線または信号線と、上記したカソード補助電極、カソード電極または接続線とが互いに短絡した場合には、短絡した電源線、走査線または信号線の電圧がカソード電圧となり、短絡した電源線、走査線または信号線に接続された有機発光素子に所望の電圧を印加することができなくなる。その結果、短絡した電源線、走査線または信号線に接続された有機発光素子を含む画素が全て滅点となり、線欠陥が生じてしまうという問題があった。
【０００８】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、吸湿による有機層の劣化に起因して経時的な安定性が低下するのを防止しつつ、線欠陥が生じてしまった際に容易に修理することの可能な表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の表示装置はパネル部を備えたものである。このパネル部には、表示領域内に複数の駆動トランジスタが形成されており、これら複数の駆動トランジスタを覆うと共に駆動トランジスタ側とは反対側の表面に平坦面を含む平坦化絶縁膜が形成されている。この平坦化絶縁膜には有機絶縁膜が含まれており、この有機絶縁膜には、表示領域のうち周縁領域側の端縁と駆動回路との間に、表示領域を囲む環状の第１開口が形成されている。このパネル部には、また、複数の駆動トランジスタに接続されると共に表示領域内にマトリクス状に配置された複数の有機発光素子を含む積層構造部と、複数の駆動トランジスタに接続されると共に表示領域から当該表示領域の周縁領域に延在する複数の配線とがそれぞれ形成されており、さらに、複数の配線に接続された駆動回路が周縁領域に形成されている。上記積層構造部は、駆動トランジスタに接続された第１電極と、第１開口内に形成された環状の第１補助配線と、第１電極に対して絶縁性を保って形成された第２補助配線と、分離絶縁膜と、発光層を含む有機層と、第２電極とを有している。ここで、第２補助配線は、第１電極との対向領域に第２開口を有すると共に、第１開口との対向領域のうち少なくとも複数の配線との交差領域に第３開口を有している。分離絶縁膜は、第１電極を露出させる第４開口と、第２補助配線のうち第２開口の近傍を露出させる第５開口とを有している。有機層は、少なくとも第１電極のうち第４開口内の露出面を覆っており、第２電極は、少なくとも有機層を覆うと共に、第２補助配線のうち第５開口内の露出面を覆っている。
【００１０】
本発明の表示装置では、平坦化絶縁膜に含まれる有機絶縁膜において、表示領域のうち周縁領域側の端縁と駆動回路との間に、表示領域を囲む環状の第１開口が形成されている。これにより、有機絶縁膜は第１開口によって表示領域側と周縁領域側とに分離されているので、有機絶縁膜の周縁領域に水分が侵入した場合であっても、有機絶縁膜を通して水分が周縁領域から表示領域に侵入するのを防止することができる。また、第５開口を介して第２電極と接続された第２補助配線において、有機絶縁膜に形成された環状の第１開口との対向領域のうち少なくとも、複数の駆動トランジスタに接続されると共に表示領域から当該表示領域の周縁領域に延在する複数の配線との交差領域に、第３開口が形成されている。これにより、第１開口内に形成された環状の第１補助配線のうち少なくとも複数の配線との交差領域上には、第２補助配線が存在していないので、例えば製造過程で導電性の異物が混入するなどして、第１補助配線と配線とが互いに短絡した場合には、第１補助配線のうち、短絡した配線との対向部分を当該第１補助配線の延在方向から挟み込む部分に対して例えばレーザなどを照射することにより、第１補助配線のうち短絡した配線との対向部分を、第１補助配線のその他の部分から絶縁分離することができる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の表示装置によれば、有機絶縁膜に第１開口を設けることにより、有機絶縁膜を通して水分が周縁領域から表示領域に侵入するのを防止するようにしたので、吸湿による有機層の劣化に起因して経時的な安定性が低下するのを防止することができる。また、第１開口内に形成された環状の第１補助配線のうち少なくとも複数の配線との交差領域に第３開口を設けることにより、その交差領域上に第２補助配線が存在しないようにしたので、第１補助配線と配線とが互いに短絡して線欠陥が生じてしまった際に容易に修理することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
【００１３】
［第１の実施の形態］
図１は、本発明の第１の実施の形態に係る有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂを用いた表示装置の構成を表したものである。この表示装置は、極薄型の有機発光カラーディスプレイ装置などとして用いられるものであり、例えば、ガラス，シリコン（Ｓｉ）ウェハあるいは樹脂などよりなる基板１１の上に、複数の有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂがマトリクス状に配置されてなる表示領域１１Ａが形成されると共に、この表示領域１１Ａの周辺に、映像表示用のドライバである信号線駆動回路３０、走査線駆動回路４０および電源線駆動回路５０が形成されたパネル部１を備えたものである。
【００１４】
表示領域１１Ａ内には、図２に例示したような画素駆動回路６０が形成されている。この画素駆動回路６０は、後述する第１電極１３の下層に形成され、駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２と、その間のキャパシタ（保持容量）Ｃｓと、電源線５０Ａとグラウンド（ＧＮＤ）との間において駆動トランジスタＴｒ１に直列に接続された有機発光素子１０Ｒ（または１０Ｇ，１０Ｂ）とを有するアクティブ型の駆動回路である。駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２は、一般的な薄膜トランジスタ（ＴＦＴ（Thin Film Transistor））により形成され、その構成は例えば逆スタガー構造（いわゆるボトムゲート型）でもよいしスタガー構造（トップゲート型）でもよく特に限定されない。
【００１５】
画素駆動回路６０において、列方向には信号線３０Ａが複数配置され、行方向には走査線４０Ａが複数配置されている。各信号線３０Ａと各走査線４０Ａとの交差点が、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂのいずれか一つ（サブピクセル）に対応している。各信号線３０Ａは、信号線駆動回路３０に接続され、この信号線駆動回路３０から信号線３０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のソース電極に画像信号が供給されるようになっている。各走査線４０Ａは走査線駆動回路４０に接続され、この走査線駆動回路４０から走査線４０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極に走査信号が順次供給されるようになっている。
【００１６】
また、表示領域１１Ａには、赤色の光を発生する有機発光素子１０Ｒと、緑色の光を発生する有機発光素子１０Ｇと、青色の光を発生する有機発光素子１０Ｂとが、順に全体としてマトリクス状に形成されている。なお、隣り合う有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの組み合わせが一つの画素（ピクセル）１０を構成している。
【００１７】
図３は、パネル部１の上面構成を表したものである。図４は、図３のＡ−Ａ矢視方向の断面構成、具体的には、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂのそれぞれに共通する断面構成を表したものである。図５は、図４の第１電極１３（後述）と同一面内における平面構成を模式的に表したものである。なお、図４は、図５のＡ−Ａ矢視方向の断面図に対応している。基板１１上には、上述した画素駆動回路６０の駆動トランジスタＴｒ１と、平坦化絶縁膜１２とが基板１１側から順に積層されており、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、それぞれ、この平坦化絶縁膜１２のうち画素駆動回路６０とは反対側の表面に形成された平坦面１２Ｓ上の積層構造部２内に形成されている。
【００１８】
駆動トランジスタＴｒ１は、平坦化絶縁膜１２に設けられた接続孔１２Ｃを介して第１電極１３（後述）に電気的に接続されている。平坦化絶縁膜１２は、画素駆動回路６０が形成された基板１１の表面を平坦化するためのものであり、無機絶縁膜１２Ａおよび有機絶縁膜１２Ｂを基板１１側から順に積層してなる積層構造を有している。無機絶縁膜１２Ａは、後述するように、例えば無機絶縁膜１２Ａ−１，１２Ａ−２を基板１１側から順に重ね合わせた構造となっている（図７参照）。また、平坦化絶縁膜１２は、表示領域１１Ａのうち、表示領域１１Ａの周縁領域１１Ｃ側の端縁（端縁１１Ｂ）と、信号線駆動回路３０、走査線駆動回路４０および電源線駆動回路５０との間に、表示領域１１Ａを囲む環状の溝１２Ｄ（第１開口）を有している（図３参照）。この溝１２Ｄは、平坦化絶縁膜１２の平坦面１２側から有機絶縁膜１２Ｂおよび無機絶縁膜１２Ａ−２を貫通する深さを有している（図７参照）。この平坦化絶縁膜１２には、微細な接続孔１２Ｃや溝１２Ｄが形成されるので、無機絶縁膜１２Ａおよび有機絶縁膜１２Ｂはパターン精度の良い材料により形成されていることが好ましい。無機絶縁膜１２Ａの構成材料としては、例えば酸化シリコン（ＳｉＯ２ ）や窒化シリコン（ＳｉＮ）などが挙げられる。また、有機絶縁膜１２Ｂの構成材料としては、例えば、ポリイミドなどが挙げられる。
【００１９】
有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、陽極としての第１電極１３、有機層１６および陰極としての第２電極１７が基板１１側から順に積層された構成を有している。図４に例示したように、第１電極１３と同一面内において、第１電極１３の周囲には、第１電極１３を取り囲む補助配線１４（第２補助配線）が形成されている。この補助配線１４は、第１電極１３との対向領域に開口１４Ａ（第２開口）を有しており、第１電極１３と所定の間隙を介して配置されている。そのため、補助配線１４は、第１電極１３に対して絶縁性を保っている。なお、この補助配線１４は、後述するように、平坦化絶縁膜１２の溝１２Ｄとの対向領域のうち少なくとも電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａ（複数の配線）との交差領域に開口１４Ｂ（第３開口）を有している（図７参照）。さらに、第１電極１３の周囲には分離絶縁膜１５が形成されている。この分離絶縁膜１５は、第１電極１３を露出させる開口１５Ａ（第４開口）と、補助配線１４のうち開口１４Ａの近傍を露出させる開口１５Ｂ（第５開口）とを有している。有機層１６は、少なくとも第１電極１３のうち開口１５Ａ内の露出面を覆っており、第２電極１７は、少なくとも有機層１６を覆うと共に補助配線１４のうち開口１５Ｂ内の露出面を覆っている。なお、図３には、有機層１６が第１電極１３のうち開口１５Ａ内の露出面と、分離絶縁膜１５の一部を覆い、第２電極１７が有機層１６と、補助配線１４のうち開口１５Ｂ内の露出面と、分離絶縁膜１５のうち有機層１６で覆われていない部分とを覆っている（つまり、第２電極１７は有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂのうち基板１１とは反対側の表面全体に渡って形成されている）場合が例示されている。
【００２０】
ところで、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂにおいて、第１電極１３は反射層としての機能を有する一方、第２電極１７が半透過性反射層としての機能を有しており、これら第１電極１３と第２電極１７とにより、有機層１６に含まれる発光層１６Ｃ（後述）において発生した光を共振させる共振器構造が構成されている。
【００２１】
すなわち、この有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、第１電極１３の有機層１６側の端面と、第２電極１７の有機層１６側の端面とが一対の反射鏡を構成し、発光層１６Ｃで発生した光をこの一対の反射鏡で共振させて第２電極１７側から取り出す共振器構造を有している。これにより、発光層１６Ｃで発生した光が多重干渉を起こし、共振器構造が一種の狭帯域フィルタとして作用することにより、取り出される光のスペクトルの半値幅が減少し、色純度を向上させることができる。また、封止用基板２０側から入射した外光に対しては多重干渉により減衰させることができ、後述するカラーフィルタ５２、または位相差板および偏光板（図示せず）との組合せにより有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂにおける外光の反射率を極めて小さくすることができる。
【００２２】
第１電極１３は、上述したように反射層としての機能も兼ねており、できるだけ高い反射率を有するようにすることが発光効率を高める上で望ましい。第１電極１３は、例えば、クロム（Ｃｒ）、金（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、ニッケル（Ｎｉ）、銅（Ｃｕ）、タングステン（Ｗ）あるいは銀（Ａｇ）などの金属元素の単体または合金により構成されており、その積層方向の厚さ（以下、単に厚さと言う）が、例えば１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下となっている。
【００２３】
補助配線１４は、第２電極１７の面内電位分布を均一化するために設けられたものである。この補助配線１４は、上述したように第１電極１３と同一面内に形成されていることから、第１電極１３と同一材料により構成されていることが好ましい。このようにした場合には、補助配線１４を第１電極１３と同一工程で形成可能となるので、製造工程を簡略化することができる。
【００２４】
分離絶縁膜１５は、第１電極１３と第２電極１７との絶縁性を確保するとともに、発光層１６Ｃにおける発光領域を正確に所望の形状にするためのものであり、例えば感光性樹脂により構成されている。分離絶縁膜１５には、発光領域に対応して開口１５Ａが設けられている。なお、有機層１６および第２電極１７は、第１電極１３上だけでなく分離絶縁膜１５上にも連続して設けられているが、発光が生じるのは発光層１６Ｃのうち第１電極１３に近接する部分だけである。
【００２５】
有機層１６は、例えば、第１電極１３の側から順に、正孔注入層１６Ａ、正孔輸送層１６Ｂ、発光層１６Ｃおよび電子輸送層１６Ｄを積層してなる積層構造を有している。なお、有機層１６は、必要に応じて、上で例示した層以外の層を含んでいてもよいし、正孔輸送層１６Ｂおよび電子輸送層１６Ｄをなくしてもよい。また、有機層１６は、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの発光色によってそれぞれ異なる構成を有していてもよい。
【００２６】
正孔注入層１６Ａは、正孔注入効率を高めるためのものである。正孔輸送層１６Ｂは、発光層１６Ｃへの正孔輸送効率を高めるためのものである。発光層１６Ｃは、第１電極１３と第２電極１７との間に発生する電界によって電子と正孔との再結合を起こさせ、光を発生させるためものである。電子輸送層１６Ｄは、発光層１６Ｃへの電子輸送効率を高めるためのものである。なお、電子輸送層１６Ｄと第２電極１７との間には、ＬｉＦ，Ｌｉ２ Ｏなどよりなる電子注入層（図示せず）を設けてもよい。
【００２７】
第２電極１７は、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、ナトリウム（Ｎａ）などの金属元素の単体または合金からなり、中でも、マグネシウムと銀との合金（ＭｇＡｇ合金）、またはアルミニウム（Ａｌ）とリチウム（Ｌｉ）との合金（ＡｌＬｉ合金）により構成されていることが好ましい。第２電極１７の厚さは、例えば５ｎｍ以上５０ｎｍ以下となっている。
【００２８】
また、本実施の形態において、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、窒化ケイ素（ＳｉＮx ）などの保護膜１８により被覆され、更にこの保護膜１８上に接着層１９を間にしてガラスなどよりなる封止用基板２０が全面にわたって貼り合わされることにより封止されている。
【００２９】
接着層１９は、例えば熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂により構成されている。
【００３０】
封止用基板２０は、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの第２電極１７の側に位置しており、接着層１９と共に有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂを封止するためのものである。この封止用基板２０は、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂで発生した光に対して透明なガラスなどの材料により構成されている。封止用基板２０には、例えば、カラーフィルタ２１が設けられており、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂで発生した光を取り出すと共に、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ並びにその間の配線において反射された外光を吸収し、コントラストを改善するようになっている。
【００３１】
図６は、図３の二点鎖線で囲まれた領域α、具体的には、表示領域１１Ａの周囲であって、かつ表示領域１１Ａの端縁１１Ｂ近傍の領域の平面構成を表したものである。図７は図６の領域αにおけるＡ−Ａ矢視方向の断面構成を、図８は図６の領域αにおけるＢ−Ｂ矢視方向の断面構成をそれぞれ表したものである。
【００３２】
上述したように、平坦化絶縁膜１２には環状の溝１２Ｄが形成されており、平坦化絶縁膜１２の表示領域１１Ａ側の部分と、平坦化絶縁膜１２の周縁領域１１Ｃ側の部分とが環状の溝１２Ｄによって空間分離されている。また、この環状の溝１２Ｄの下方、具体的には、溝１２Ｄの底面と、基板１１との間には、駆動トランジスタＴｒ１に接続された電源線５０Ａや、駆動トランジスタＴｒ２に接続された走査線４０Ａおよび信号線３０Ａが引き出されて（表示領域１１Ａから周縁領域１１Ｃにかけて延在して形成されて）おり、基板１１の法線方向から見て、これら電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａが、溝１２Ｄと交差している。そして、その交差領域を含む領域には、補助配線１４の開口１４Ｂが設けられており、この領域では、溝１２Ｄおよび開口１４Ｂの深さの分だけ（つまり、補助配線１４、無機絶縁膜１２Ａ−２および有機絶縁膜１２Ｂの厚みの分だけ）、基板１１と保護膜１８との間に形成された積層構造部２の厚さが薄くなっている。
【００３３】
なお、図６〜図８には、電源線５０Ａおよび走査線４０Ａが溝１２Ｄと交差している箇所の上面構成および断面構成が例示されている。また、図６〜図８には、第２電極１７が表示領域１１Ａ側から周縁領域１１Ｃ側に渡って一面に形成されている、つまり、第２電極１７が後述の補助配線２２と接して形成されている場合が例示されているが、例えば、図９、図１０、図１１に示したように、開口１４Ｂとの対向領域に開口１７Ｄ（第６開口）を設け、第２電極１７と補助配線２２とを互いに絶縁分離するようにしてもよい。また、例えば、図１２に示したように、表示領域１１Ａおよび周縁領域１１Ｃのうち溝１２Ｄで囲まれた領域内にだけ形成するようにしてもよい。
【００３４】
さらに、この環状の溝１２Ｄの内部（底面）には、溝１２Ｄに沿って形成された環状の補助配線２２（第１補助配線）が配置されている。この補助配線２２は、周縁領域１１Ｃに設けられたダミー画素の電源線や走査線、信号線等（いずれも図示せず）がフローティングにならないようにするために、これらにカソード電圧を印加するために設けられたものである。この補助配線２２は、基板１１の法線方向から見て、電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａと交差しており、無機絶縁膜１２Ａ−１を介して絶縁分離されている。また、この補助配線２２のうち、電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａとの対向部分を補助配線２２の延在方向から挟み込む部分には、基板１１側に窪んだクランク１７−１が設けられている。このクランク１７−１は、溝１２Ｄと開口１４Ｂとが互いに重なり合う領域に設けられており、例えば、孤立配線１７Ａと、連結部１７Ｂ，１７Ｃとにより構成されている。ここで、孤立配線１７Ａは、電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａと同一面内（同一層内）に形成されており、これら電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａに対して絶縁性を保っている。この孤立配線１７Ａは、電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａの厚さと同一またはほぼ同一の厚さとなっており、補助配線２２のうちクランク１７−１以外の部分の厚さよりも十分に薄くなっている。また、連結部１７Ｂは、補助配線２２のうち、電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａとの対向部分と、孤立配線１７Ａとを互いに接続するビアである。連結部１７Ｃは、補助配線２２のうち、補助配線１４の開口１４Ｂを補助配線２２の延在方向から挟み込む部分と、孤立配線１７Ａとを互いに接続するビアである。なお、補助配線２２は、クランク１７−１を含め、同一材料で形成されていてもよいが、クランク１７−１だけ、他の部分と異なる材料で形成されていてもよい。
【００３５】
このような構成を備えた表示装置では、各画素に対して駆動トランジスタＴｒ１がオンオフ制御され、各画素の有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに駆動電流が注入されることにより、正孔と電子とが再結合して発光が起こる。この光は、第１電極１３と第２電極１７との間で多重反射し、第２電極１７、保護膜１８、接着層１９、カラーフィルタ２１および封止用基板２０を透過して取り出される。
【００３６】
ところで、本実施の形態では、平坦化絶縁膜１２に含まれる有機絶縁膜１２Ｂにおいて、表示領域１１Ａのうち周縁領域１１Ｃ側の端縁１１Ｂと、信号線駆動回路３０、走査線駆動回路４０および電源線駆動回路５０との間に、表示領域１１Ａを囲む環状の溝１２Ｄが形成されている。これにより、有機絶縁膜１２Ｂは溝１２Ｄによって表示領域１１Ａ側と周縁領域１１Ｃ側とに分離されているので、有機絶縁膜１２の周縁領域１１Ｃに水分が侵入した場合であっても、有機絶縁膜１２を通して水分が周縁領域１１Ｃから表示領域１１Ａに侵入するのを防止することができる。その結果、吸湿による有機層１６の劣化に起因して経時的な安定性が低下するのを防止することができる。
【００３７】
また、本実施の形態では、分離絶縁膜１５の開口１５Ｂを介して第２電極１７と接続された補助配線１４において、有機絶縁膜１２Ｂに形成された環状の溝１２Ｄとの対向領域のうち少なくとも電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａとの交差領域に、開口１４Ｂが形成されている。これにより、溝１２Ｄ内に形成された環状の補助配線２２のうち少なくとも電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａとの交差領域上には、補助配線２２が存在していないので、例えば、図１３〜１５（第２電極１７と補助配線２２が互いに接続されている場合）や、図１６〜１８（第２電極１７と補助配線２２が互いに接続されている場合）に示したように、製造過程で導電性の異物Ｐが混入するなどして、電源線５０Ａ、走査線４０Ａまたは信号線３０Ａと、補助配線２２とが互いに短絡した場合には、補助配線２２のうち、短絡した配線との対向部分を補助配線２２の延在方向から挟み込む部分（具体的にはクランク１７−１の孤立配線１７Ａ。図１３、１５、１６、１８中の波状の破線部分）に対して例えばレーザなどを照射することにより、補助配線２２のうち短絡した配線との対向部分を、補助配線２２のその他の部分から絶縁分離することができる。このように、本実施の形態では、電源線５０Ａ、走査線４０Ａまたは信号線３０Ａと、補助配線２２とが互いに短絡して線欠陥が生じてしまった際に容易に修理することができる。
【００３８】
［第２の実施の形態］
本発明の第２の実施の形態に係る表示装置は、上記実施の形態の表示装置におけるクランク１７−１の構造と、電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａの配置を異ならせたものである。そこで、以下では、上記実施の形態との相違点について主に説明し、上記実施の形態との共通点については適宜省略するものとする。
【００３９】
図１９は、領域αの平面構成を表したものである。図２０は図１９の領域αにおけるＡ−Ａ矢視方向の断面構成を、図２１は図１９の領域αにおけるＢ−Ｂ矢視方向の断面構成をそれぞれ表したものである。
【００４０】
上記実施の形態と同様、平坦化絶縁膜１２には環状の溝１２Ｄが形成されており、平坦化絶縁膜１２の表示領域１１Ａ側の部分と、平坦化絶縁膜１２の周縁領域１１Ｂ側の部分とが環状の溝１２Ｄによって空間分離されている。また、この環状の溝１２Ｄの側壁を貫通するようにして、駆動トランジスタＴｒ１に接続された電源線５０Ａや、駆動トランジスタＴｒ２に接続された走査線４０Ａおよび信号線３０Ａが引き出されて（表示領域１１Ａから周縁領域１１Ｂにかけて延在して形成されて）おり、基板１１の法線方向から見て、これら電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａが、溝１２Ｄと交差している。また、電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａは、無機絶縁膜１２Ａ−１上に形成されており、溝１２Ｄの内部において、無機絶縁膜１２Ａ−１と共に露出している。そして、溝１２Ｄと、電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａとの交差領域を含む領域には、補助配線１４の開口１４Ｂが設けられており、この領域では、溝１２Ｄおよび開口１４Ｂの深さの分だけ（つまり、補助配線１４、無機絶縁膜１２Ａ−２および有機絶縁膜１２Ｂの厚みの分だけ）、基板１１と保護膜１８との間に形成された積層構造部２の厚さが薄くなっている。
【００４１】
なお、図１９〜図２１には、電源線５０Ａおよび走査線４０Ａが溝１２Ｄと交差している箇所の上面構成および断面構成が例示されている。また、図１９〜図２１には、第２電極１７は、開口１４Ｂとの対向領域に設けられた開口１７Ｄによって、補助配線２２と絶縁分離されている場合が例示されているが、例えば、溝１２Ｄの底部に絶縁材料を充填し、電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａを覆い、これらを覆った絶縁材料上に第２電極１７を設けることにより、第２電極１７と補助配線２２とを互いに絶縁分離するようにしてもよい。また、例えば、図１２に示したように、表示領域１１Ａおよび周縁領域１１Ｂのうち溝１２Ｄで囲まれた領域内にだけ形成するようにしてもよい。
【００４２】
さらに、この環状の溝１２Ｄの下方、具体的には、溝１２Ｄの底面と基板１１との間には、溝１２Ｄに沿って形成された環状の補助配線２２が配置されている。この補助配線２２は、上記実施の形態と同様、周縁領域１１Ｂに設けられたダミー画素の電源線や走査線、信号線等（いずれも図示せず）がフローティングにならないようにするために、これらにカソード電圧を印加するために設けられたものである。この補助配線２２は、基板１１の法線方向から見て、電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａと交差しており、無機絶縁膜１２Ａ−１を介して絶縁分離されている。また、この補助配線２２のうち、電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａとの対向部分と、この対向部分を補助配線２２の延在方向から挟み込む部分とには、基板１１側に窪んだクランク１７−１が設けられている。このクランク１７−１は、溝１２Ｄと開口１４Ｂとが互いに重なり合う領域に設けられており、例えば、孤立配線１７Ａと、連結部１７Ｃとにより構成されている。ここで、孤立配線１７Ａは、電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａと同一面内（同一層内）に形成されており、これら電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａに対して絶縁性を保っている。この孤立配線１７Ａは、電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａの厚さと同一またはほぼ同一の厚さとなっており、補助配線２２のうちクランク１７−１以外の部分の厚さよりも十分に薄くなっている。また、連結部１７Ｃは、補助配線２２のうち、補助配線１４の開口１４Ｂを補助配線２２の延在方向から挟み込む部分同士と、孤立配線１７Ａとを互いに接続するビアである。なお、補助配線２２は、クランク１７−１を含め、同一材料で形成されていてもよいが、クランク１７−１だけ、他の部分と異なる材料で形成されていてもよい。
【００４３】
ところで、本実施の形態では、上記実施の形態と同様、平坦化絶縁膜１２に含まれる有機絶縁膜１２Ｂにおいて、表示領域１１Ａのうち周縁領域１１Ｃ側の端縁１１Ｂと、信号線駆動回路３０、走査線駆動回路４０および電源線駆動回路５０との間に、表示領域１１Ａを囲む環状の溝１２Ｄが形成されている。これにより、有機絶縁膜１２Ｂは溝１２Ｄによって表示領域１１Ａ側と周縁領域１１Ｃ側とに分離されているので、有機絶縁膜１２の周縁領域１１Ｃに水分が侵入した場合であっても、有機絶縁膜１２を通して水分が周縁領域１１Ｃから表示領域１１Ａに侵入するのを防止することができる。その結果、吸湿による有機層１６の劣化に起因して経時的な安定性が低下するのを防止することができる。
【００４４】
また、本実施の形態では、分離絶縁膜１５の開口１５Ｂを介して第２電極１７と接続された補助配線１４において、有機絶縁膜１２Ｂに形成された環状の溝１２Ｄとの対向領域のうち少なくとも電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａとの交差領域に、開口１４Ｂが形成されている。これにより、溝１２Ｄの下方に形成された環状の補助配線２２のうち少なくとも電源線５０Ａ、走査線４０Ａおよび信号線３０Ａとの交差領域上には、補助配線２２が存在していないので、例えば、図２２〜２４に示したように、製造過程で導電性の異物Ｐが混入するなどして、電源線５０Ａ、走査線４０Ａまたは信号線３０Ａと、補助配線２２とが互いに短絡した場合には、補助配線２２のうち、短絡した配線との対向部分を補助配線２２の延在方向から挟み込む部分（具体的にはクランク１７−１の孤立配線１７Ａのうちビア１７Ｃに近接する両端部。図２２、図２４中の波状の破線部分）に対して例えばレーザなどを照射することにより、補助配線２２のうち短絡した配線との対向部分を、補助配線２２のその他の部分から絶縁分離することができる。このように、本実施の形態では、電源線５０Ａ、走査線４０Ａまたは信号線３０Ａと、補助配線２２とが互いに短絡して線欠陥が生じてしまった際に容易に修理することができる。
【００４５】
（モジュールおよび適用例）
以下、上述した第１ないし第２の実施の形態で説明した表示装置の適用例について説明する。上記各実施の形態の表示装置は、テレビジョン装置、デジタルカメラ、ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置あるいはビデオカメラなど、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、画像あるいは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。
【００４６】
（モジュール）
上記各実施の形態の表示装置は、例えば、図２５に示したようなモジュールとして、後述する適用例１〜５などの種々の電子機器に組み込まれる。このモジュールは、例えば、基板１１の一辺に、封止用基板２０および接着層１９から露出した領域２１０を設け、この露出した領域２１０に、信号線駆動回路３０、走査線駆動回路４０および電源線駆動回路５０の配線を延長して外部接続端子（図示せず）を形成したものである。外部接続端子には、信号の入出力のためのフレキシブルプリント配線基板（ＦＰＣ；Flexible Printed Circuit）２２０が設けられていてもよい。
【００４７】
（適用例１）
図２６は、上記各実施の形態の表示装置が適用されるテレビジョン装置の外観を表したものである。このテレビジョン装置は、例えば、フロントパネル３１０およびフィルターガラス３２０を含む映像表示画面部３００を有しており、この映像表示画面部３００は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【００４８】
（適用例２）
図２７は、上記各実施の形態の表示装置が適用されるデジタルカメラの外観を表したものである。このデジタルカメラは、例えば、フラッシュ用の発光部４１０、表示部４２０、メニュースイッチ４３０およびシャッターボタン４４０を有しており、その表示部４２０は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【００４９】
（適用例３）
図２８は、上記各実施の形態の表示装置が適用されるノート型パーソナルコンピュータの外観を表したものである。このノート型パーソナルコンピュータは、例えば、本体５１０，文字等の入力操作のためのキーボード５２０および画像を表示する表示部５３０を有しており、その表示部５３０は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【００５０】
（適用例４）
図２９は、上記各実施の形態の表示装置が適用されるビデオカメラの外観を表したものである。このビデオカメラは、例えば、本体部６１０，この本体部６１０の前方側面に設けられた被写体撮影用のレンズ６２０，撮影時のスタート／ストップスイッチ６３０および表示部６４０を有しており、その表示部６４０は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【００５１】
（適用例５）
図３０は、上記各実施の形態の表示装置が適用される携帯電話機の外観を表したものである。この携帯電話機は、例えば、上側筐体７１０と下側筐体７２０とを連結部（ヒンジ部）７３０で連結したものであり、ディスプレイ７４０，サブディスプレイ７５０，ピクチャーライト７６０およびカメラ７７０を有している。そのディスプレイ７４０またはサブディスプレイ７５０は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【００５２】
以上、実施の形態を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、種々変形が可能である。
【００５３】
例えば、本発明は、上記実施の形態において説明した各層の材料および厚み、または成膜方法および成膜条件などに限定されるものではなく、他の材料および厚みとしてもよく、または他の成膜方法および成膜条件としてもよい。例えば、上記実施の形態においては、基板１１の上に、第１電極１３、有機層１６および第２電極１７を基板１１の側から順で積層し、封止用基板２０の側から光を取り出すようにした場合について説明したが、積層順序を逆にして、基板１１の上に、第２電極１７，有機層１６および第１電極１３を基板１１の側から順に積層し、基板１１の側から光を取り出すようにすることもできる。
【００５４】
また、例えば、上記実施の形態では、第１電極１３を陽極、第２電極１７を陰極とする場合について説明したが、陽極および陰極を逆にして、第１電極１３を陰極、第２電極１７を陽極としてもよい。さらに、第１電極１３を陰極、第２電極１７を陽極とすると共に、基板１１の上に、第２電極１７，有機層１６および第１電極１３を基板１１の側から順に積層し、基板１１の側から光を取り出すようにすることもできる。
【００５５】
また、上記実施の形態では、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの構成を具体的に挙げて説明したが、全ての層を備える必要はなく、また、他の層を更に備えていてもよい。例えば、第１電極１３と有機層１６との間に、酸化クロム（ＩＩＩ）（Ｃｒ2 Ｏ3 ），ＩＴＯ（Indium-Tin Oxide：インジウム（Ｉｎ）およびスズ（Ｓｎ）の酸化物混合膜）などからなる正孔注入用薄膜層を備えていてもよい。また、第１電極１３を、例えば、誘電体多層膜とすることもできる。
【００５６】
また、上記実施の形態では、第２電極１７を半透過性反射層により構成した場合について説明したが、第２電極１７を、半透過性反射層と透明電極とが第１電極１３の側から順に積層された構造としてもよい。この透明電極は、半透過性反射層の電気抵抗を下げるためのものであり、発光層で発生した光に対して十分な透光性を有する導電性材料により構成されている。透明電極を構成する材料としては、例えば、ＩＴＯまたはインジウムと亜鉛（Ｚｎ）と酸素とを含む化合物が好ましい。室温で成膜しても良好な導電性を得ることができるからである。透明電極の厚みは、例えば３０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下とすることができる。また、この場合、半透過性反射層を一方の端部とし、透明電極を挟んで半透過性電極に対向する位置に他方の端部を設け、透明電極を共振部とする共振器構造を形成するようにしてもよい。さらに、そのような共振器構造を設けた上で、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂを保護膜１８で覆うようにし、この保護膜１８を、透明電極を構成する材料と同程度の屈折率を有する材料により構成すれば、保護膜１８を共振部の一部とすることができ、好ましい。
【００５７】
また、本発明は、第２電極１７を透明電極により構成すると共に、この透明電極の有機層１６と反対側の端面の反射率が大きくなるように構成し、第１電極１３の発光層１６Ｃ側の端面を第１端部、透明電極の有機層と反対側の端面を第２端部とした共振器構造を構成した場合についても適用することができる。例えば、透明電極を大気層に接触させ、透明電極と大気層との境界面の反射率を大きくして、この境界面を第２端部としてもよい。また、接着層との境界面での反射率を大きくして、この境界面を第２端部としてもよい。さらに、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂを保護膜１８で覆い、この保護膜１８との境界面での反射率を大きくして、この境界面を第２端部としてもよい。
【００５８】
また、上記各実施の形態では、アクティブマトリクス型の表示装置の場合について説明したが、本発明はパッシブマトリクス型の表示装置への適用も可能である。また、アクティブマトリクス駆動のための画素駆動回路の構成は、上記各実施の形態で説明したものに限られず、必要に応じて容量素子やトランジスタを追加してもよい。その場合、画素駆動回路の変更に応じて、上述した信号線駆動回路３０や、走査線駆動回路４０、電源線駆動回路５０のほかに、必要な駆動回路を追加してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る表示装置の構成図である。
【図２】画素駆動回路の一例を表す図である。
【図３】図１のパネル部の平面構成の一例を表す図である。
【図４】図１の有機発光素子の断面構成図である。
【図５】第１電極および補助配線の平面構成図である。
【図６】図３の領域αにおける平面構成の一例を表す図である。
【図７】図６の領域αのＡ−Ａ矢視方向の断面構成図である。
【図８】図６の領域αのＢ−Ｂ矢視方向の断面構成図である。
【図９】図３の領域αにおける平面構成の他の例を表す図である。
【図１０】図９の領域αのＡ−Ａ矢視方向の断面構成図である。
【図１１】図９の領域αのＢ−Ｂ矢視方向の断面構成図である。
【図１２】図１の領域αの平面構成の他の例を表す図である。
【図１３】図６の領域αに異物が混入したときの平面構成の一例を表す図である。
【図１４】図１３の領域αのＡ−Ａ矢視方向の断面構成図である。
【図１５】図１３の領域αのＢ−Ｂ矢視方向の断面構成図である。
【図１６】図９の領域αに異物が混入したときの平面構成の一例を表す図である。
【図１７】図１６の領域αのＡ−Ａ矢視方向の断面構成図である。
【図１８】図１６の領域αのＢ−Ｂ矢視方向の断面構成図である。
【図１９】本発明の第２の実施の形態に係る表示装置の領域αにおける平面構成の一例を表す図である。
【図２０】図２０の領域αのＡ−Ａ矢視方向の断面構成図である。
【図２１】図２０の領域αのＢ−Ｂ矢視方向の断面構成図である。
【図２２】図９の領域αに異物が混入したときの平面構成の一例を表す図である。
【図２３】図２２の領域αのＡ−Ａ矢視方向の断面構成図である。
【図２４】図２２の領域αのＢ−Ｂ矢視方向の断面構成図である。
【図２５】上記各実施の形態の表示装置を含むモジュールの概略構成を表す平面図である。
【図２６】上記各実施の形態の表示装置の適用例１の外観を表す斜視図である。
【図２７】（Ａ）は適用例２の表側から見た外観を表す斜視図であり、（Ｂ）は裏側から見た外観を表す斜視図である。
【図２８】適用例３の外観を表す斜視図である。
【図２９】適用例４の外観を表す斜視図である。
【図３０】（Ａ）は適用例５の開いた状態の正面図、（Ｂ）はその側面図、（Ｃ）は閉じた状態の正面図、（Ｄ）は左側面図、（Ｅ）は右側面図、（Ｆ）は上面図、（Ｇ）は下面図である。
【符号の説明】
【００６０】
１…パネル部、２…積層構造部、１０…画素、１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ…有機発光素子、１１…基板、１１Ａ…表示領域、１１Ｂ…端縁、１１Ｃ…周縁領域、１２…平坦化絶縁膜、１２Ａ，１２Ａ−１，１２Ａ−２…無機絶縁膜、１２Ｂ…有機絶縁膜、１２Ｃ…接続孔、１２Ｄ…溝、１２Ｓ…平坦面、１３…第１電極、１４，２２…補助配線、１４Ａ，１４Ｂ，１５Ａ，１５Ｂ，１７Ｄ…開口、１５…分離絶縁膜、１５Ａ，１５Ｂ…開口、１６…有機層、１６−１，１６Ａ−１…端部、１６Ａ…正孔注入層、１６Ｂ…正孔輸送層、１６Ｃ…発光層、１６Ｄ…電子輸送層、１７…第２電極、１７−１…クランク、１７Ａ…孤立配線、１７Ｂ，１７Ｃ…連結部、１８…保護膜、１９…接着層、２０…封止用基板、２１…カラーフィルタ、３０…信号駆動回路、３０Ａ…信号線、４０…走査線駆動回路、４０Ａ…走査線、５０…電源線駆動回路、５０Ａ…電源線、６０…画素駆動回路、α…領域。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示領域内に形成された複数の駆動トランジスタと、前記複数の駆動トランジスタを覆うと共に前記駆動トランジスタ側とは反対側の表面に平坦面を含む平坦化絶縁膜と、前記複数の駆動トランジスタに接続されると共に前記表示領域内にマトリクス状に配置された複数の有機発光素子を含む積層構造部と、前記複数の駆動トランジスタに接続されると共に前記表示領域から当該表示領域の周縁領域に延在する複数の配線と、前記複数の配線に接続されると共に前記周縁領域に形成された駆動回路とを有するパネル部を備え、
前記平坦化絶縁膜は、前記表示領域を囲む環状の第１開口が前記表示領域のうち前記周縁領域側の端縁と前記駆動回路との間に形成された有機絶縁膜を有し、
前記積層構造部は、前記駆動トランジスタに接続された第１電極と、前記第１開口内に形成された環状の第１補助配線と、前記第１電極との対向領域に第２開口を有すると共に前記第１開口との対向領域のうち少なくとも前記複数の配線との交差領域に第３開口を有し、かつ前記第１電極に対して絶縁性を保って形成された第２補助配線と、前記第１電極を露出させる第４開口および前記第２補助配線のうち前記第２開口の近傍を露出させる第５開口を有する分離絶縁膜と、少なくとも前記第１電極のうち前記第４開口内の露出面を覆うと共に発光層を含む有機層と、少なくとも前記有機層を覆うと共に前記第２補助配線のうち前記第５開口内の露出面を覆う第２電極とを有する
ことを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記第１補助配線のうち、前記複数の配線との対向部分を当該第１補助配線の延在方向から挟み込む部分は、当該第１補助配線の他の部分よりも薄くなっている
ことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記第１補助配線のうち、前記複数の配線との対向部分を当該第１補助配線の延在方向から挟み込む部分は、前記複数の配線と同一面内に形成されると共に前記複数の配線に対して絶縁性を保って形成された孤立配線と、この孤立配線に接続された連結部とからなる
ことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項４】
前記第１補助配線のうち、前記第３開口との対向部分は、当該第１補助配線の他の部分よりも薄くなっている
ことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項５】
前記第１補助配線のうち、前記第３開口との対向部分は、前記駆動トランジスタのゲート電極と同一面内に形成されると共にそのゲート電極に対して絶縁性を保って形成された孤立配線と、この孤立配線に接続された連結部とからなる
ことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項６】
前記第２電極は、前記第３開口との対向領域に第６開口を有する
ことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項７】
前記第２電極は、前記表示領域および前記周縁領域のうち前記第１開口で囲まれた領域内にだけ形成されている
ことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項１】
表示領域内に形成された複数の駆動トランジスタと、前記複数の駆動トランジスタを覆うと共に前記駆動トランジスタ側とは反対側の表面に平坦面を含む平坦化絶縁膜と、前記複数の駆動トランジスタに接続されると共に前記表示領域内にマトリクス状に配置された複数の有機発光素子を含む積層構造部と、前記複数の駆動トランジスタに接続されると共に前記表示領域から当該表示領域の周縁領域に延在する複数の配線と、前記複数の配線に接続されると共に前記周縁領域に形成された駆動回路とを有するパネル部を備え、
前記平坦化絶縁膜は、前記表示領域を囲む環状の第１開口が前記表示領域のうち前記周縁領域側の端縁と前記駆動回路との間に形成された有機絶縁膜を有し、
前記積層構造部は、前記駆動トランジスタに接続された第１電極と、前記第１開口内に形成された環状の第１補助配線と、前記第１電極との対向領域に第２開口を有すると共に前記第１開口との対向領域のうち少なくとも前記複数の配線との交差領域に第３開口を有し、かつ前記第１電極に対して絶縁性を保って形成された第２補助配線と、前記第１電極を露出させる第４開口および前記第２補助配線のうち前記第２開口の近傍を露出させる第５開口を有する分離絶縁膜と、少なくとも前記第１電極のうち前記第４開口内の露出面を覆うと共に発光層を含む有機層と、少なくとも前記有機層を覆うと共に前記第２補助配線のうち前記第５開口内の露出面を覆う第２電極とを有する
ことを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記第１補助配線のうち、前記複数の配線との対向部分を当該第１補助配線の延在方向から挟み込む部分は、当該第１補助配線の他の部分よりも薄くなっている
ことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記第１補助配線のうち、前記複数の配線との対向部分を当該第１補助配線の延在方向から挟み込む部分は、前記複数の配線と同一面内に形成されると共に前記複数の配線に対して絶縁性を保って形成された孤立配線と、この孤立配線に接続された連結部とからなる
ことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項４】
前記第１補助配線のうち、前記第３開口との対向部分は、当該第１補助配線の他の部分よりも薄くなっている
ことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項５】
前記第１補助配線のうち、前記第３開口との対向部分は、前記駆動トランジスタのゲート電極と同一面内に形成されると共にそのゲート電極に対して絶縁性を保って形成された孤立配線と、この孤立配線に接続された連結部とからなる
ことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項６】
前記第２電極は、前記第３開口との対向領域に第６開口を有する
ことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項７】
前記第２電極は、前記表示領域および前記周縁領域のうち前記第１開口で囲まれた領域内にだけ形成されている
ことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２８】
【図２９】
【図３０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２８】
【図２９】
【図３０】
【公開番号】特開２００９−２３７５０８（Ｐ２００９−２３７５０８Ａ）
【公開日】平成２１年１０月１５日（２００９．１０．１５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−８６９７１（Ｐ２００８−８６９７１）
【出願日】平成２０年３月２８日（２００８．３．２８）
【出願人】（０００００２１８５）ソニー株式会社 (34,172)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年１０月１５日（２００９．１０．１５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年３月２８日（２００８．３．２８）
【出願人】（０００００２１８５）ソニー株式会社 (34,172)
【Ｆターム（参考）】
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