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国際特許分類[H05H1/46]の内容

電気 (1,674,590) | 他に分類されない電気技術 (122,472) | プラズマ技術 (5,423) | プラズマの生成;プラズマの取扱い (4,622) | プラズマの発生 (4,176) | 電磁界を用いるもの,例.高周波またはマイクロ波エネルギー (2,260)

国際特許分類[H05H1/46]に分類される特許

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【課題】インピーダンス整合において、インピーダンス整合が配線インダクタンス等による特性インピーダンスからのずれによって制御が不能となることを防ぐことを目的とし、特に安定性の高いシーク制御を行う。
【解決手段】マッチング制御の不良の一要因であるインピーダンス整合回路内の配線インダクタンスの影響を低減するために、インピーダンス整合回路を集中定数でモデル化すると共に配線インダクタンスを未知パラメータとして設定し、この未知パラメータを同定し、同定した未知パラメータを用いてインダクタンス整合回路のインピーダンス可変素子を調整することによってマッチング制御を行う。 (もっと読む)


【課題】マイクロ波放電に用いたマイクロ波のRF給電ラインへの漏洩をライン途中で効果的に遮断してマイクロ波漏洩障害を確実に防止する。
【解決手段】このマイクロ波プラズマ処理装置において、サセプタ12にRFバイアス用の高周波を印加するための給電棒34は、その上端がサセプタ12の下面中心部に接続され、その下端がマッチングユニット32内の整合器の高周波出力端子に接続されている。また、チャンバ10の底面とマッチングユニット32との間には、同軸線路36を形成するために、給電棒34を内部導体としてその周りを囲む円筒状の外部導体38が設けられている。同軸線路36には、チャンバ10内のプラズマ生成空間から線路内に入ってきた不所望なマイクロ波の空間伝播を遮断するためのチョーク機構40が設けられている。 (もっと読む)


【課題】コイルからの誘電結合作用によって広域に均一で旺盛なプラズマを発生させることができるプラズマエッチング装置を提供する。
【解決手段】プラズマエッチング装置は、減圧可能なチャンバー1、チャンバーの内部の下側に設けられ被処理物2を保持する載置部3、チャンバー1の上部開口に臨むように配置され、交流電力が印加されてチャンバー1内の反応ガスを誘導結合によりプラズマ化し、載置部3に保持された被処理物2をエッチングするためのコイル4a,4bを備える。コイル4a,4bは、周辺部側環状域が高密度分布領域である第1のコイル系4aと、中央部側環状領域が高密度分布領域である第2のコイル系4bとを備える。 (もっと読む)


【課題】 誘導結合方式のように電磁界強度が強い場合にも異常放電することなく、試料全面にわたって均一なプラズマ処理が可能なプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】
処理室1と、第1誘電体の真空窓4と、誘導コイル9と、高周波電源13と、ガス供給手段と、被処理体3を載置する試料台20とを備えたプラズマ処理装置において、ガス供給手段は、真空窓4の下方に近接して設置され、中央部にガス放出口を備えた第2誘電体のガス放出板6と、真空窓4とガス放出板6との隙間に設けられ、第1及び第2誘電体よりも比誘電率の高い第3の誘電体の島状の部材とを有する。 (もっと読む)


【課題】 誘導結合型の装置であって、アンテナの実効インダクタンスを小さくしてプラズマ電位を低く抑えることができ、しかも当該アンテナによってその長手方向におけるプラズマ密度分布を制御することができるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】 このプラズマ処理装置は、平面形状がまっすぐなアンテナ30を、基板2の表面に立てた垂線3に沿う方向である上下方向Zに互いに接近して配置されていて、高周波電流IR が互いに逆向きに流される往復導体31、32によって構成している。かつ、往復導体31、32間の上下方向Zの間隔Dを、アンテナ30の長手方向Xにおいて変化させている。 (もっと読む)


【課題】スパッタ効率の高いことよりも、むしろ効率よくプラズマが生成し、かつエネルギー密度の高いプラズマ発生技術が求められている。
しかも安定したプラズマを生成させる際にはトリガーを必要とするため、装置内にトリガーを設置する空間を要すること、及びより装置が複雑になることによって装置が大型化していた。
【解決手段】板状のターゲット側電極の一方の面に、
1つの中心磁石と、該中心磁石の周囲に配置してなり、該中心磁石と極性が異なる1つ以上の周辺磁石との組み合わせからなるターゲット側磁石を設け、
該ターゲット側電極の他方の面にターゲット基板を近接して設けると共に、
該ターゲット基板に対向して試料を設置し、
該試料のターゲット基板に面する側の反対の側にアシスト磁石を設置し、該アシスト磁石の該試料側の極性と、該中心磁石のターゲット側電極側の極性が同じであるプラズマ発生装置。 (もっと読む)


【課題】基板を処理する複数の放電空間毎の処理のばらつきが小さく、パワーロスが小さく、かつ高周波電力を任意の数に均等に分配することができる高周波電力分配装置を提供すること。
【解決手段】高周波電源からの高周波電力を均等に分配して供給する高周波電力分配装置4aは、入力された高周波電力を複数に分岐する分電部材30と、分電部材30で分岐された高周波電力を複数の平行平板電極に伝送する、中心の給電線およびその周囲の接地線からなる同軸伝送線35と、入力側のインピーダンスを調整して電流値を低下させるためのインピーダンス調整機構36とを有し、分電部材30は、板状の導体からなる本体31と、本体31の一方の主面の入力点31aに高周波電力を入力する高周波電力入力部32と、本体31の他方の主面の入力点31aに対応する点を中心とした円周上に等間隔で複数配置された高周波電力出力部33とを有する。 (もっと読む)


【課題】薄膜がアンテナに付着するのを抑制可能なプラズマ装置を提供する。
【解決手段】プラズマ装置は、アンテナ1を備える。アンテナ1は、絶縁管1aと、導体1bと、伝熱材1cとを含む。絶縁管1aは、略U字形状を有し、Alからなる。導体1bは、略U字形状からなり、筒状部分1dを有する。筒状部分1dには、冷却水が流される。そして、導体1bは、絶縁管1a内に挿入される。伝熱材1cは、絶縁管1aと導体1bとの間に充填される。そして、伝熱材1cは、シリコン樹脂からなる。 (もっと読む)


【課題】アシスト放電を行う点火装置では、一方の点火コイルの電圧が他方の点火コイルに流れ込むことを防ぐために双方の点火コイルにダイオードを備えると、それぞれのダイオードの距離が近いとリーク電流の影響を受けて点火装置の出力が低下する問題又はそれぞれのダイオードのリーク電流を考慮してダイオードの配置を構成すると、構造の複雑化や大型化する問題が生じる。
【解決手段】高周波点火コイルの2次高圧側に点火コイルからの大電流の逆流を阻止する逆流防止ダイオードを備え、点火コイル及び高周波点火コイルは1つのケースに収容され、ケース内のコイル収容部に絶縁性モールド樹脂を充填し、ダイオードはケース内に備える。また、高周波点火コイルは点火用スイッチング素子のパルスの立ち下りを検出して高周波用スイッチング素子のパルスを立ち上げて、高周波点火コイルは点火コイルの点火信号が完了してから点火信号を開始する。 (もっと読む)


【課題】矩形基板の外側領域におけるプラズマ分布制御を行うことができる誘導結合プラズマ用アンテナユニットを提供すること。
【解決手段】アンテナユニット50において、アンテナ13は、誘導電界を形成する部分が全体として矩形基板Gに対応する矩形状平面を構成し、かつ、複数のアンテナ線を渦巻状に巻回してなる第1のアンテナ部13aと第2のアンテナ部13bとを有し、第1のアンテナ部13aの複数のアンテナ線は、矩形状平面の4つの角部を形成するとともに、矩形状平面とは異なる位置において、4つの角部を結合するように設けられ、第2のアンテナ部13bの複数のアンテナ線は、矩形状平面の4つの辺の中央部を形成するとともに、矩形状平面とは異なる位置において、4つの辺の中央部を結合するように設けられる。 (もっと読む)


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