説明

アロマタアーゼ阻害剤の製造方法

式(II):
【化1】


の化合物を、適当な溶媒の存在下に酸と反応させることを含む、式(I):
【化2】


(式中、R1、R2、R3およびR4は、それぞれ独立して、水素、ハロゲンまたはC1−C6アルキルである)
のアロマターゼ阻害剤を製造する方法。エキセメスタンの新規な結晶形も開示されている。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
この発明は、エキセメスタン(exemestane)のようなアロマタアーゼ阻害剤、6−アルキリデンアンドロスタ−1,4−ジエン−3,17−ジオンの製造方法、およびエキセメスタンの新規な結晶多形に関するものである。
【背景技術】
【0002】
エストロゲン類は、乳癌、子宮癌および卵巣癌のようなある種のホルモン依存性の癌の成長を伴う病原性の細胞変異に関与するホルモンである。エストロゲン類は良性の前立腺肥大の病因にも関与している。
【0003】
内因性のエストロゲン類は、直前の前駆体としてのアンドロステンジオンまたはテストステロンのいずれかから最終的に形成される。中心的で重要な反応は、酵素アロマタアーゼによりなされるステロイド環Aのアロマタイゼーションである。
【0004】
アロマタイゼーションはユニークな反応であり、エストロゲン類の生合成における一連のステップの最後にあるので、アロマタイズ・ステップに相互作用し得る化合物によりもたらされるアロマターゼの効果的な阻害は、循環しているエストロゲン類の量、再生におけるエストロゲン依存性プロセス、およびエストロゲン依存性の腫瘍を制御するのに有用な適用があるものと目論まれてきた。米国特許第4,904,650号第1欄第10〜30行参照。
【0005】
エキセメスタンのような6−アルキリデンアンドロスタ−1,4−ジエン−3,17−ジオンは、アロマタアーゼ阻害活性を有すると報告されている。
【0006】
エキセメスタン(商品名Aromasin(商標))は、化学的には6−メチレンアンドロスタ−1,4−ジエン−3,17−ジオンと記述されている。その分子式はC20242であり、その構造式は次のとおりである。
【0007】
【化1】

【0008】
米国特許第4,876,045号は、17−ヒドロキシ前駆体をホルムアルデヒドおよびアミンと反応させ、得られた化合物を次いで酸化することにより、アンドロスタ−1,4−ジエン−3,17−ジオン類の6−メチレン誘導体を製造する方法を教示している。
【0009】
米国特許第4,990,635号は、アンドロスタ−3,5−ジエン−17−オンをホルムアルデヒドおよびアミンと反応させ、得られた化合物を次いで脱水素することにより、アンドロスタ−1,4−ジエン−3,17−ジオン類の6−メチレン誘導体を製造する方法を教示している。
【0010】
公開されたPCT特許出願WO 2005/070951号は、エキセメスタンを製造する2工程の方法を開示している。
【0011】
その方法は、
1)次の式:
【化2】

の6−ヒドロキシメチル誘導体を脱プロトン化剤(例えばトリアルキルアミン)およびR5SO2X(ここで、R5はC1〜C5のアルキルであり、Xはハロゲンである)とジクロロメタンのような溶媒中で反応させて、次の式:
【化3】

を有するメシレート中間体化合物を得、
2)次いで、上記のメシレート中間体を溶媒中で塩基と反応させてエキセメスタンを製造することを含んでいる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0012】
エキセメスタンのようなアロマタアーゼ阻害剤を製造する種々の方法が先行文献に記載されているが、エキセメスタンのようなアロマタアーゼ阻害剤を高収率および高純度で大量に製造するための簡単で効果的な方法の必要性が依然としてある。
【課題を解決するための手段】
【0013】
したがって、本出願人は、式(I):
【化4】

(式中、R1、R2、R3、R4は、それぞれ独立して、水素、ハロゲンまたはC1〜C6のアルキルである)
のアロマタアーゼ阻害剤を製造する方法を提供する。
【0014】
一つの形態において、アロマタアーゼ阻害剤は、R1、R2、R3、R4がそれぞれ水素であるエキセメスタンである。
【0015】
本発明の一つの実施態様によれば、式(II):
【化5】

(式中、R1、R2、R3、R4は、それぞれ独立して、水素、ハロゲンまたはC1〜C6のアルキルであり、Rはメチレンである)
の化合物を、p−トルエンスルホン酸、硫酸、カンファースルホン酸、塩酸、酢酸またはトリフルオロ酢酸のような酸と、トルエン、ベンゼン、キシレン、ジクロロメタン、酢酸エチル、ジオキサン、メチルイソブチルケトン(MIBK)、メチルtert−ブチルエーテル(MTBE)、またはこれらの混合溶媒のような適当な有機溶媒の存在下に反応させて、式(I)のアロマタアーゼ阻害剤を製造する。 式(I)の化合物の合成は、60℃以上の温度で行なうのが好ましい。
【0016】
従来技術の方法と比べて、本発明の方法によれば、式(I)の化合物を高収率で製造することができる。
特に、米国特許第4,876,045号に開示された方法では、アンドロスタ−1,4−ジエン−3,17−ジオン類の6−メチレン誘導体を製造する収率は30.7%(実施例1)であり、その6−メチレン誘導体からエキセメスタンを製造する収率は79%である(実施例2)。
【0017】
しかしながら、出願人の製造ラインから集められた過去のデータによれば、6−ヒドロキシメチル−アンドロスタ−1,4−ジエン−3,17−ジオンを製造する収率は約80%であり、6−ヒドロキシメチル−アンドロスタ−1,4−ジエン−3,17−ジオンからエキセメスタンを製造する収率は約80〜90%である(以下の実施例参照)。
【0018】
さらに、公開されたPCT特許出願WO 2005/070951号に開示されている2工程の方法では、幾種類もの反応試剤や溶媒を用いなければならず、コストが嵩むばかりでなく、それらの反応試剤や溶媒からもたらされる不純物が増える原因ともなる。
【0019】
それとは反対に、反応試剤に加えて、本発明による1工程の方法では、適当な溶媒の存在下に触媒量の酸を必要とするだけである。この1工程の方法は、簡単な操作により行なわれる。したがって、本発明の利点は、簡単な操作、低いコスト、高い純度および高い収率を含む。
【0020】
本発明は、エキセメスタンの新規な結晶形を提供するものでもある。エキセメスタンのこの結晶形の粉末X線回折パターンおよび赤外スペクトルは、この明細書に開示されている。
【0021】
上記の結晶性のエキセメスタンは、10.9±0.1、16.0±0.1、18.2±0.1(2−θ)にピークを有する粉末X線回折パターンにより特徴付けられる。好ましくは、結晶性のエキセメスタンは、さらに14.6±0.1、19.8±0.1、21.5±0.1、23.5±0.1、26.3±0.1および29.3±0.1(2−θ)にピークを有する粉末X線回折パターンを示す。より好ましくは、結晶性の固形のエキセメスタンは、図1に描かれたような粉末X線回折パターンを示す。
【0022】
好ましくは、結晶性の固形のエキセメスタンは、1732±2cm-1、1658±2cm-1、1620±2cm-1にバンドを有する赤外スペクトルを示す。より好ましくは、結晶性の固形のエキセメスタンは、図2に描かれたような赤外スペクトルを示す。
【0023】
本発明により得られる種々の結晶性の固形のエキセメスタンの安定性が、種々の条件下に試験された。試験中のエキセメスタンの分解の度合いを測定するためにHPLCが用いられた。結晶性の固形のエキセメスタンの試料は、25℃/60%RHおよび40℃/75%RHで6か月間それぞれ保管された。
【0024】
これらの試料の純度をHPLCにより試験し、それらの純度の変化を観察した。6か月間の安定性試験の後で集められたこれらの試料の全不純物および安定性試験の前(0日)の不純物は、すべて0.05%未満であった。
【0025】
本発明のもう一つの実施態様によれば、エキセメスタンは、HPLC分析により得られたピーク面積のパーセントに基づいて測定したところ、少なくとも95%の純度を有している。
【0026】
実際、本発明による1工程の方法により製造されるエキセメスタンは、再結晶しなくても高い純度を達成することができる。
以下の実施例1〜3に示されているように、(再結晶される前の)粗エキセメスタンは、HPLCピーク面積により95%より高い純度を達成することができる。
【0027】
本発明を特徴付ける新規な諸々の特性は、本明細書に付随し、その一部を構成する特許請求の範囲において詳細に指摘されている。
本発明、その操作の有利さ、およびその実施により達成される特定の目的をより良く理解するために、本発明の好ましい実施形態が示された図面、および記載された発明の詳細な説明が参照されるべきである。
【図面の簡単な説明】
【0028】
【図1】本発明の一つの実施形態による結晶性固形のエキセメスタンの代表的な粉末X線回折パターンである。
【図2】本発明の一つの実施形態による結晶性固形のエキセメスタンの代表的な赤外スペクトルである。
【発明を実施するための形態】
【0029】
本発明の一つの実施形態によれば、次の反応式に示されるように、6−ヒドロキシメチル中間体から1工程の方法でエキセメスタンを製造することができる。
【0030】
【化6】

【0031】
上記の合成方法の一般的な条件は、好ましくは80〜90℃、約330 torr、約10容量部のトルエン、ならびに反応試剤としての5〜15重量%のp−トルエンスルホン酸(p−TsOH)および反応試剤としての化合物3である。
【0032】
これと対比して、6−ヒドロキシメチル中間体からエキセメスタンを製造するWO 2005/070951号の方法では、次の反応式で示されるように、2工程が必要である。
【0033】
【化7】

【0034】
本発明に含まれる中間体は、適当な方法、例えば文献に記載されている方法により製造することができる。
【0035】
例えば、米国特許第3,274,176号は、1,3−ジピロリジル−△3,5−アンドロスタジエン−17−オン(化合物2)を製造する方法を開示している。この方法では、△1,4−アンドロスタジエン−3,17−ジオン(化合物1)をピロリジンとともに還流し、残渣をメタノール中で結晶化して、1,3−ジピロリジル−△3,5−アンドロスタジエン−17−オン(化合物2)を製造している。
【0036】
ドイツ特許DD 258820号では、アンドロスタ−1,4−ジエン−3,17−ジオン(化合物1)から1,3−ジピロリジノアンドロスタ−3,5−ジエン−17−オン(化合物2)を経て、6−ヒドロキシメチル−アンドロスタ−1,4−ジエン−3,17−ジオン(化合物3)を製造している。次の反応式を参照。
【0037】
【化8】

【0038】
米国特許第3,274,176号およびドイツ特許DD 258820号の全内容が、ここに参照として組み込まれる。
【0039】
以下の実施例は、本発明をさらに説明するためのものであり、本発明を限定する意図のものではない。
実施例1〜4は、本発明のいくつかの実施形態によるエキセメスタンの合成を示すものである。
比較例1〜2は、WO 2005/070951号に記載の方法に類似の2工程合成方法を示すためのものである。
実施例5〜16は、粗エキセメスタンの再結晶を示すものである。
【実施例】
【0040】
実施例1
6−ヒドロキシメチル−アンドロスタ−1,4−ジエン−3,17−ジオン(10.00g)、p−トルエンスルホン酸(0.50g)およびトルエン(60mL)を適当な反応器に入れた。混合物を約315 torrで減圧下に加熱して4時間以上沸騰させて(トルエンの沸点は315 torrで約80〜90℃である)、ディーン−スタークにより水を除去した。反応終了後、混合物を60℃以下に冷却した。次いで、2.5%炭酸水素ナトリウム溶液(50mL)を加えて混合物を洗浄した。相が分離する前に、反応混合物をプレ−コート・セライト・ベッドを通してろ過した。水相をトルエン(20mL)で再抽出した。
【0041】
2つの有機相を合わせた。次いで、有機相に水(25mL)を加えて洗浄した。洗浄後、体積が約25mLに減少するまで、80℃を超えない温度で減圧下にトルエンを除去した。反応混合物(25mL)にN−ヘプタンを加えて、固形物を生成させた。これをクラウディ・ポイントで0.5時間以上維持した。次いで、室温に冷却し、2時間以上維持した。スラリーをろ過し、トルエン/n−ヘプタン(10mL/15mL)で洗浄して、湿ったケーキ(8.75g)を得た。このケーキを真空下に70℃より低い温度で乾燥して、粗エキセメスタン(7.85g)を得た。この粗エキセメスタンの純度は、HPLC分析により得られるピーク面積パーセンテージに基づいて測定して、約98%であった。本明細書に記載の純度は、ほかに示されていなければ、すべてHPLCに基づいている。
【0042】
スラリーからエキセメスタンを単離する別の方法が以下に記載されている。
スラリーを洗浄しないでろ過し、真空下に乾燥して、湿ったケーキを得る。この湿ったケーキおよびアセトニトリルを適当な反応器に入れ、加熱して溶解する。得られる混合物を約5℃に冷却し、次いでろ過して、精製されたエキセメスタンを得る。
【0043】
実施例2
6−ヒドロキシメチル−アンドロスタ−1,4−ジエン−3,17−ジオン(2.00g)、カンファースルホン酸(0.10g)およびトルエン(20mL)を適当な反応器に入れてよく混合した。この混合物を約90℃に加熱し、その温度で約7時間維持した。反応終了後、2.5%炭酸水素ナトリウム溶液(10mL)を加えて洗浄した。水相をトルエン(5mL)で再抽出した。2つの有機相を合わせ、蒸発乾固した。得られた固形物にイソプロパノール(20mL)を加え、加熱還流して溶解した。この溶液を0℃に冷却した。冷却後、スラリーをろ過し、冷イソプロパノール(4mL)で洗浄した。固形物を真空下に乾燥して、HPLC分析により得られるピーク面積パーセンテージに基づいて測定して97%の純度を有するエキセメスタン1.21g)を得た。
【0044】
実施例3
6−ヒドロキシメチル−アンドロスタ−1,4−ジエン−3,17−ジオン(2.00g)、p−トルエンスルホン酸1水和物(0.10g)およびトルエン(20mL)を適当な反応器に入れ、よく混合した。この混合物を約90℃に加熱し、その温度で約3時間維持した。反応終了後、2.5%炭酸水素ナトリウム溶液(20mL)を加えて洗浄した。有機相をほとんど乾燥するまで蒸留した。得られた固形物にメタノール(20mL)および5%炭酸水素ナトリウム溶液(2mL)を加えた。スラリーを約22mLの残留物になるまで蒸留した。この溶液に水(25mL)を加えた。この溶液を室温まで冷却した。冷却後、スラリーをろ過し、50%(v/v)水性メタノール溶液(4mL)で洗浄した。固形物を真空下に乾燥して、HPLC分析により得られるピーク面積パーセンテージに基づいて測定して96%の純度を有するエキセメスタン(1.27g)を得た。
【0045】
実施例4
6−ヒドロキシメチル−アンドロスタ−1,4−ジエン−3,17−ジオン(2.0g)、(D)(+)−10−カンファースルホン酸(0.1g)および酢酸エチル(30mL)を適当な反応器に入れた。得られた混合物を還流下(約70〜80℃)に32時間反応させた。反応終了後、得られた混合物を真空下に乾燥し、トルエン(30mL)を加えた。得られた溶液を炭酸水素ナトリウム溶液(10mL)および水(5mL)により抽出した。有機層を真空下に乾燥し、次いでメタノール(20mL)を加えた。得られた混合物に水(20mL)を加え、次いで混合物を室温に冷却した。スラリーをろ過し、次いで湿ったケーキを乾燥してエキセメスタンを得た。
【0046】
比較例1
6−ヒドロキシメチル−アンドロスタ−1,4−ジエン−3,17−ジオン(5.00g)およびピリジン(80mL)を適当な反応器に入れ、よく混合した。混合物を0℃に冷却した。トルエンスルホン酸クロライド(6.20g)を加え、0℃で2日間維持した。反応終了後、水(135mL)を加えて、反応を完結させた。メチレンクロライド(20mL)を加えて抽出した。水相をメチレンクロライド(20mL)で再抽出した。2つの有機相を合わせ、食塩水/水(v/v=1/1)(40mL)で洗浄した。残留液が30mLになるまで有機相を蒸留した。この混合物に水/メタノール(v/v=1/1)(60mL)および水酸化カリウム(1.32g)を加え、65℃に加熱した。この混合物を65℃で約2時間維持した。反応終了後、水(130mL)を加え、室温に冷却した。スラリーをろ過し、水/メタノール(v/v=1/1)(30mL)で洗浄した。得られたケーキを50℃より低い温度で真空下に乾燥して、HPLC分析により得られるピーク面積パーセンテージに基づいて測定して約87%の純度を有するエキセメスタン(2.35g)を得た。
【0047】
比較例2
6−ヒドロキシメチル−アンドロスタ−1,4−ジエン−3,17−ジオン(5.00g)およびピリジン(80mL)を適当な反応器に入れた。この混合物を0℃に冷却した。p−トルエンスルホン酸クロライド(6.20g)を加え、0℃で2日間維持した。反応終了後、水(135mL)およびメチレンクロライド(20mL)を加えて抽出した。水相をメチレンクロライド(20mL)で再抽出した。2つの有機相を合わせ、食塩水/水(v/v=1/1)(食塩水は塩化ナトリウム飽和水溶液である)(40mL)で洗浄した。残留液が30mLになるまで、有機相を蒸留した。この混合物に水(30mL)、メタノール(30mL)および水酸化カリウム(1.32g)を加え、65℃に加熱した。この混合物を65℃で約2時間維持した。反応終了後、水(80mL)を加え、室温に冷却した。スラリーをろ過し、メタノール/水(v/v=1/1)(20mL)で洗浄した。得られたケーキを50℃より低い温度で真空下に乾燥して、HPLC分析により得られるピーク面積パーセンテージに基づいて測定して85%の純度を有するエキセメスタン(1.16g)を得た。
【0048】
実施例5
粗エキセメスタン(3.0g)およびアセトン(15mL)を適当な反応器に入れた。得られた混合物を撹拌し、固形物がほとんど溶けるまで50〜60℃に加温した。水(9mL)を50〜60℃で入れ、その温度で0.5時間撹拌した。得られたスラリーを15℃/時間の割合で20〜30℃に冷却し、20〜30℃で1時間以上維持した。このスラリーをろ過し、次いで湿ったケーキを50℃で乾燥して、予想された収率85〜95重量%で純粋なエキセメスタン(約2.72g)を得た。
【0049】
実施例6
粗エキセメスタン(3.0g)およびトルエン(9mL)を適当な反応器に入れた。得られた混合物を撹拌し、固形物がほとんど溶けるまで90〜100℃に加温した。ヘプタン(9mL)を90〜100℃で入れ、その温度で0.5時間撹拌した。得られたスラリーを15℃/時間の割合で20〜30℃に冷却し、20〜30℃で少なくとも1時間維持した。このスラリーをろ過し、次いで湿ったケーキを50℃で乾燥して、予想された収率85〜95%で純粋なエキセメスタン(約2.81g)を得た。
【0050】
実施例7
粗エキセメスタン(3.0g)およびACN(アセトニトリル)(12mL)を適当な反応器に入れた。得られた混合物を撹拌し、固形物がほとんど溶けるまで70〜80℃に加温した。水(15mL)を70〜80℃で入れ、その温度で0.5時間撹拌した。得られたスラリーを15℃/時間の割合で20〜30℃に冷却し、20〜30℃で1時間以上維持した。このスラリーをろ過し、次いで湿ったケーキを50℃で乾燥して、予想された収率85〜95%で純粋なエキセメスタン(2.79g)を得た。
【0051】
実施例8
粗エキセメスタン(20g)およびCH2Cl2(106g)を適当な反応器に入れた。得られた混合物を撹拌し、固形物がほとんど溶けるまで40〜50℃に加温した。ヘプタン(41.0g)を40〜50℃で入れ、その温度で0.5時間撹拌した。得られたスラリーを15℃/時間の割合で20〜30℃に冷却し、20〜30℃で1時間以上維持した。このスラリーをろ過し、次いで湿ったケーキを50℃で乾燥して、予想された収率80〜90%で純粋なエキセメスタン(約16.5g)を得た。
【0052】
実施例9
粗エキセメスタン(5.0g)およびCH2Cl2(20mL)を適当な反応器に入れた。得られた混合物を撹拌し、固形物が実質的に溶けるまで40〜50℃に加温した。MTBE(13mL)を40〜50℃で入れ、その温度で0.5時間撹拌した。得られたスラリーを15℃/時間の割合で20〜30℃に冷却し、20〜30℃で1時間以上維持した。このスラリーをろ過し、次いで湿ったケーキを50℃で乾燥して、予想された収率85〜95%で純粋なエキセメスタン(約4.7g)を得た。
【0053】
実施例10
粗エキセメスタン(3.0g)および酢酸エチル(EtOAc)(15mL)を適当な反応器に入れた。得られた混合物を撹拌し、固形物がほとんど溶けるまで65〜75℃に加温した。ヘプタン(12mL)を65〜75℃で入れ、その温度で0.5時間撹拌した。得られたスラリーを15℃/時間の割合で20〜30℃に冷却し、20〜30℃で1時間以上維持した。このスラリーをろ過し、次いで湿ったケーキを50℃で乾燥して、予想された収率70〜80%で純粋なエキセメスタン(約2.25g)を得た。
【0054】
実施例11
粗エキセメスタン(3.0g)および95%エチルアルコール(EtOH)(12mL)を適当な反応器に入れた。得られた混合物を撹拌し、固形物が実質的に溶けるまで75〜85℃に加温した。水(9mL)を75〜85℃で入れ、その温度で0.5時間撹拌した。得られたスラリーを15℃/時間の割合で20〜30℃に冷却し、20〜30℃で少なくとも1時間維持した。このスラリーをろ過し、次いで湿ったケーキを50℃で乾燥して、予想された収率85〜95%で純粋なエキセメスタン(約2.82g)を得た。
【0055】
実施例12
粗エキセメスタン(2.0g)および酢酸(6mL)を適当な反応器に入れた。得られた混合物を撹拌し、固形物がほとんど溶けるまで40〜50℃に加温した。水(6mL)を40〜50℃で入れ、その温度で0.5時間撹拌した。得られたスラリーを15℃/時間の割合で20〜30℃に冷却し、20〜30℃で少なくとも1時間維持した。このスラリーをろ過し、次いで湿ったケーキを50℃で乾燥して、予想された収率80〜90重量%で純粋なエキセメスタン(約1.73g)を得た。
【0056】
実施例13
粗エキセメスタン(2.0g)およびIPA(イソプロピルアルコール)(10mL)を適当な反応器に入れた。得られた混合物を撹拌し、固形物がほとんど溶けるまで75〜85℃に加温した。得られたスラリーを15℃/時間の割合で20〜30℃に冷却し、20〜30℃で少なくとも1時間維持した。このスラリーをろ過し、次いで湿ったケーキを50℃で乾燥して、予想された収率85〜95%で純粋なエキセメスタン(約1.82g)を得た。
【0057】
実施例14
粗エキセメスタン(3.0g)およびMeOH(18mL)を適当な反応器に入れた。得られた混合物を撹拌し、固形物がほとんど溶けるまで55〜65℃に加温した。水(6mL)を55〜65℃で入れ、その温度で0.5時間撹拌した。得られたスラリーを15℃/時間の割合で20〜30℃に冷却し、20〜30℃で1時間以上維持した。このスラリーをろ過し、次いで湿ったケーキを50℃で乾燥して、予想された収率85〜95%で純粋なエキセメスタン(約2.68g)を得た。
【0058】
実施例15
粗エキセメスタン(2.0g)およびn−ブタノール(6mL)を適当な反応器に入れた。得られた混合物を撹拌し、固形物がほとんど溶けるまで90〜100℃に加温した。得られたスラリーを15℃/時間の割合で20〜30℃に冷却し、20〜30℃で少なくとも1時間維持した。このスラリーをろ過し、次いで湿ったケーキを50℃で乾燥して、予想された収率80〜90%で純粋なエキセメスタン(約1.67g)を得た。
【0059】
実施例16
粗エキセメスタン(3.0g)およびTHF(テトラヒドロフラン)(9mL)を適当な反応器に入れた。得られた混合物を撹拌し、固形物がほとんど溶けるまで40〜50℃に加温した。水(6mL)を40〜70℃で入れ、その温度で0.5時間撹拌した。得られたスラリーを15℃/時間の割合で20〜30℃に冷却し、20〜30℃で少なくとも1時間維持した。このスラリーをろ過し、次いで湿ったケーキを50℃で乾燥して、予想された収率80〜90%で純粋なエキセメスタン(約2.54g)を得た。
【0060】
上記で示されるように、比較例1〜2の2工程方法で得られたエキセメスタンの純度は、本発明(例えば実施例1〜4)により得られたものより極めて低い。
したがって、本発明で開示された1工程方法において形成された副産物あるいは不純物は、2工程方法よりはるかに少ない。
【0061】
特に、実施例1は、エキセメスタンを製造するのに好ましい方法を挙げている。反応溶媒としてトルエンを用い、析出させるためにアンチ溶媒としてn−ヘプタンを用いたときに、より高い収率が得られる。そして、得られた混合物からエキセメスタンを単離するのにアセトニトリルを用いると、より高い純度が得られ、脱色にも有効である。
【0062】
実施例1〜4で挙げられた方法により製造された粗エキセメスタンは、実施例5〜16で挙げられた方法により再結晶されて、図1〜2に示されたXRDパターンおよびIRスペクトルを示す結晶形を生じる。
【0063】
図1を得るために用いられたXRD試験の手順は次のとおりである。
試料を粉砕し、X線機器、Scintag X2 Advance Diffractionのトレー上に均一に置き、2.00 Deg/分の連続スキャン割合で、5.00〜40.00(Deg.)の範囲で、かつ波長1.540562で試験した。
【0064】
図2を得るために用いられたIR試験の手順は次のとおりである。
試料約3mgを秤量し、その試料を乾燥KBr(300mg)錠剤中に均一に分散させ、次いで直ちにディフューズ・リフレクタンス(diffuse reflectance)により400〜4000cm-1の間のスペクトルを記録する。試験は同一試料について1回行なった。
【0065】
IR機器は、Nicolet, Magna−IR 560 Spectrometerであった。サンプル・スキャンの数は32であった。バックグラウンド・スキャン数は32であった。レゾリューション(Resolution)は4であった。サンプル・ゲインは8であった。ミラー・ベロシティ(Mirror velocity)は0.6329であった。アパーチュア(Aperture)は100であった。
【0066】
かくして、本発明の好ましい実施形態に適合して、本発明の新規な基本的特徴が示され、記載され、指摘されてきたが、示された方法の形式および詳細、ならびにその操作における種々の省略、置換および変更は、本発明の精神を逸脱することなく、この技術分野の当業者によって、適宜なされ得るということが理解されるだろう。
【0067】
例えば、同じ結果を達成するための実質的に同じ方法において、実質的に同じ機能を果たす、それらの要素および/または方法のすべての組合せが、本発明の範囲内にあるということは、明確に意図されている。
【0068】
さらに、本発明の開示された形式および実施形態との関連で示され、および/または記載された構成および/または要素および/または方法の工程は、一般的な設計選択事項として、その他の開示され、または記載され、あるいは示唆された形式もしくは実施形態中に組み込まれ得るということは、認識されなければならない。
したがって、本発明は、ここに付随している特許請求の範囲に示されている事項によってのみ制限されるものである。
【0069】
関連出願
この出願は、2007年5月4日に出願された米国仮特許出願60/927,626号に基づく優先権を主張するものであり、仮特許出願60/927,626号の全内容がここに参照として組み込まれる。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
式(II):
【化1】

(式中、R1、R2、R3、R4は、以下に定義されたとおりであり、Rはメチレンである)
の化合物を、溶媒の存在下に、酸と反応させて、式(I):
【化2】

(式中、R1、R2、R3、R4は、それぞれ独立して、水素、ハロゲンまたはC1−C6アルキルである)
のアロマターゼ阻害剤を製造することを含む、式(I)のアロマターゼ阻害剤の製造方法。
【請求項2】
前記の酸が、p−トルエンスルホン酸、硫酸、カンファースルホン酸、塩酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、およびこれらの混合物からなる群から選択される、請求項1に記載の方法。
【請求項3】
前記の溶媒が、トルエン、ベンゼン、キシレン、ジクロロメタン、酢酸エチル、ジオキサン、メチルイソブチルケトン、メチルtert−ブチルエーテル、およびこれらの混合物からなる群から選択される有機溶媒である、請求項1に記載の方法。
【請求項4】
1、R2、R3、R4がそれぞれ水素である、請求項1に記載の方法。
【請求項5】
酸がp−トルエンスルホン酸である、請求項1に記載の方法。
【請求項6】
溶媒がトルエンである、請求項1に記載の方法。
【請求項7】
式(II)の化合物と酸との反応後に形成される混合物にアンチ溶媒を加えて、式(I)のアロマターゼ阻害剤を析出させる工程をさらに含む、請求項1に記載の方法。
【請求項8】
アンチ溶媒がn−ヘプタンである、請求項7に記載の方法。
【請求項9】
(a)式(I)のアロマターゼ阻害剤の析出物を集め、
(b)集められた析出物を高められた温度の下でアセトニトリルとともに溶解し、そして
(c)工程(b)で得られた混合物を冷却して式(I)のアロマターゼ阻害剤を析出させる
工程をさらに含む、請求項7に記載の方法。
【請求項10】
反応が60℃以上の温度で行なわれる、請求項1に記載の方法。
【請求項11】
10.9±0.1、16.0±0.1、18.2±0.1(2−θ)にピークを有する粉末X線回折パターンにより特徴付けられる結晶性のエキセメスタン。
【請求項12】
粉末X線回折パターンが、さらに14.6±0.1、19.8±0.1、21.5±0.1、23.5±0.1、26.3±0.1、29.3±0.1(2−θ)にピークを有する、請求項11に記載の結晶性固形のエキセメスタン。
【請求項13】
粉末X線回折パターンが図1に示される、請求項11に記載の結晶性固形のエキセメスタン。
【請求項14】
1732±2cm-1、1658±2cm-1および1620±2cm-1にバンドを有する赤外スペクトルを有する、請求項11に記載の結晶性固形のエキセメスタン。
【請求項15】
赤外スペクトルが図2に示される、請求項11に記載の結晶性固形のエキセメスタン。
【請求項16】
HPLCピーク面積が95%以上の純度を有するエキセメスタン化合物。

【図1】
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【図2】
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【公表番号】特表2010−526141(P2010−526141A)
【公表日】平成22年7月29日(2010.7.29)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2010−507413(P2010−507413)
【出願日】平成20年5月1日(2008.5.1)
【国際出願番号】PCT/US2008/005646
【国際公開番号】WO2008/137048
【国際公開日】平成20年11月13日(2008.11.13)
【出願人】(507397364)シノファーム タイワン,リミテッド (7)
【氏名又は名称原語表記】SCINOPHARM TAIWAN,LTD.
【住所又は居所原語表記】1,NAN−KE 8TH ROAD,Tainan Science−based Industrial Park,Tainan County,741,TAIWAN
【Fターム(参考)】