説明

アンテナアレイ

【課題】アンテナアレイの、大きなスキュー角に対するインピーダンスマッチングを図るフォーム構造を改善する。
【解決手段】規則的な格子に配設された複数のアンテナ素子(SE)を有するアンテナベースプレート(P)と、大きなスキュー角に対してインピーダンスマッチングするために、アンテナ素子(SE)の前方に配設された誘電体WAIM(Wide Angle Impedance Match)層(W)と、を備え、WAIM層(W)が、アンテナ素子(SE)を覆うモノリシック層であり、スペーサ(A)が、WAIM層の材料から規則的な格子に機械加工され、スペーサ(A)の格子は、アンテナ素子(SE)の格子に対応する。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、請求項1のプリアンブルに記載の、大きなスキュー角に対するインピーダンスマッチング用のWAIM層を有するアンテナアレイに関する。
【背景技術】
【0002】
主ビームの電子走査中に、アンテナアレイの伝送挙動に頻繁に見られる1つの現象として、アンテナのスキュー方向に依存した伝送レベルの差がある。通常、アンテナは、規定の偏波アライメント、例えば、垂直偏波または水平偏波を有する。この現象を説明するためには、これらの2つの平面(垂直および水平)に沿って、虚数形態で、アンテナアレイの主ビームを電子的に歪曲すればよい。放出された電界強度のベクトルが、スキュー方向から形成され且つアンテナに対して垂直であるものと定義される、スキュー面内にある場合には、「横磁場(TM)偏波」という用語が使用される。電界強度のベクトルが、この平面に対して直角にある場合には、「横電場(TE)」という用語が使用される。他のすべての可能な偏波状態が、これらの2つの偏波成分に分けられる。原則的に、従来のアンテナアレイ(および、誘電性レードームまたは周波数選択性レードームなどの、関連するタイプの他の構造)は、スキュー角が大きくなるにつれ、TMよりTEの伝送レベルが低くなる傾向がある。
【0003】
アンテナ素子の前方に配設された、いわゆる、WAIM(Wide Angle Impedance Match)層は、この効果を抑制することができる。TEおよびTMの2つの偏波に対して、WAIM層は、並列接続容量としてアンテナの等価線形モデルに類似して作用するものであり、その等価線形モデルの相対サセプタンス(特性インピーダンスに対する相対サセプタンス)は、スキュー角θとともに変動する。WAIM層の誘電率が十分に高く、且つ、WAIM層の厚さが十分に薄ければ、この変化は、TE偏波の場合には、因子1/cos(θ)で起こるが、TM偏波の場合には、因子cos(θ)で起こる。WAIM層の設計が適切であれば、前述した因子の相互関係により、アンテナの伝送レベルは、スキュー中に、TE偏波とTM偏波との間で互いに整合される。これは、例えば、θ=0°からθ=60°までの技術的に検知可能な範囲内の想定され得るすべてのスキュー角に当てはまる。この整合により、すべての重要なセクションレベルにおいて、アンテナアレイのアンテナ素子の個々の極性図が、通常で望ましい広さになる。
【0004】
これまで使用されている解決法は、本質的には、Magill & Wheelerによる理論的研究(E. Magill and H. Wheeler, “Wide−angle impedance matching of a planar array antenna by a dielectric sheet, ”IEEE Transactions on Antennas and Propagation, Vol. 14, No. 1, pages 49−53, 1966)に基づいている。WAIM層とアンテナアレイのアンテナ素子との距離が、短いが、所定の距離に保たれてさえいれば、WAIM層は、TE偏波とTM偏波との間の伝送整合の目的を果たす。
【0005】
必要な物理的分離をもたらすための標準的な解決策は、例えば、US 7,580,003(B1)号のように、RF Foam材料を使用することである。このようなフォームの利用可能性には問題ないが、このようなフォームを使用する過程で、さまざまな欠点が生じる。
‐ 吸湿性:多くのフォームは、時間の経過とともに環境から湿気を吸収する傾向があり、これにより、誘電特性が大幅に変化してしまう。その結果、フォーム層をカプセル化する手段が複雑になる。
‐ 許容範囲:数ミリメートルの厚さのフォーム層は、適度な許容範囲でしか生成できない。
‐ 接着接合:原則的に、WAIM層の適切な標準材料(市販されている高誘電率のRFプリント回路基板材料、例えば、Rogers RT/duroid 6010)は、テフロンを含むが、その標準材料は、フォーム材料に対して、長期にわたり効果を維持し、且つ、高信頼性の接着接合という点では、問題がある。実際のところ、原則的には、このような接着接合の生成は、技術的に実現可能であるが、テフロンを含むWAIM成分のプラズマ活性などの複雑な手段を用いてしか、実現できない。
【0006】
米国特許第3,605,098(A)号は、アンテナ層について述べており、そのアンテナ層には、各アンテナ素子の前方に独立したWAIM素子がある。いずれの場合にも、このようなWAIM素子は、アンテナ素子の平面に平行なWAIM層と、WAIM層が配設されたスペーサと、を備える。
【0007】
MCGRATH D T: “Accelerated periodic hybrid finite element method analysis for integrated array element and radome design, PHASED ARRAY SYSTEMS AND TECHNOLOGY, 2000. PROCEEDINGS. 2000 IEEE INTERNATIONAL CONFERENCE ON DANA POINT, CA, USA 21 −25 MAY 2000, PISCATAWAY, NJ, USA, IEEE, US, 21 MAY 2000 (21−05−2000), pages 319−322, XP010504600, DOI;DOI; 10.1109/PAST.2000.858965,ISBN:978−0−7803−6345−8には、アンテナの放射特性を明確に変更するために、誘電体充填素子を有する導波管アンテナ素子を備えるアンテナアレイについて述べている。誘電体充填素子は、アンテナから突出する。WAIM層は、これらの突出する誘電体充填素子に配設される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0008】
【特許文献1】米国特許第7,580,003(B1)号明細書
【特許文献2】米国特許第3,605,098(A)号明細書
【非特許文献】
【0009】
【非特許文献1】E. Magill and H. Wheeler, “Wide−angle impedance matching of a planar array antenna by a dielectric sheet, ”IEEE Transactions on Antennas and Propagation, Vol. 14, No. 1, pages 49−53, 1966
【非特許文献2】MCGRATH D T: “Accelerated periodic hybrid finite element method analysis for integrated array element and radome design, PHASED ARRAY SYSTEMS AND TECHNOLOGY, 2000. PROCEEDINGS. 2000 IEEE INTERNATIONAL CONFERENCE ON DANA POINT, CA, USA 21 −25 MAY 2000, PISCATAWAY, NJ, USA, IEEE, US, 21 MAY 2000 (21−05−2000), pages 319−322, XP010504600, DOI;DOI; 10.1109/PAST.2000.858965,ISBN:978−0−7803−6345−8
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0010】
本発明の目的は、アンテナ素子とWAIM層との間の中間層としてフォームを使用する場合に生じる欠点を回避するWAIM層を有する、アンテナアレイを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0011】
この目的は、請求項1の主題によって達成される。好適な実施形態は、さらなる請求項の主題である。
【0012】
本発明によれば、WAIM層の材料から規則的な格子にスペーサが機械加工される。したがって、スペーサおよびWAIM層は、互いに一体に(モノリシックに)接続され、スペーサの格子は、アンテナ素子の格子に対応する。例示的に、格子は正方形、矩形または六角形であってもよい。特に、スペーサは、断面が円形の円柱の形のものであってもよい。WAIM層は、機械接続手段(例えば、ねじ)によってスペーサ上のアンテナベースプレートに好適に取り付けられ、接続手段が設けられるこのようなスペーサの数は、特定の要件に依存する。したがって、特に、各スペーサに接続手段を設ける必要はない。
【0013】
したがって、本発明によれば、スペーサがすでに集積されたWAIM層の材料のみが、異なる材料を含む既知の多層構造(WAIM層‐接着膜‐フォーム)の代わりとして使用される。スペーサは、WAIM層とアンテナ素子との間に、空気充填セパレータまたは真空充填セパレータを与える。以前使用されていたフォームから生じる前述した欠点は、完全に回避される。さらに、WAIM層をフォームセパレータに接続するための複雑な接着接合プロセスが、必要ない。
【0014】
スペーサは、要求される機械的な堅牢性を、WAIM層に与える。したがって、WAIM層は振動、衝撃などに反応しないため、堅牢性を要する用途にも適している。
【0015】
スペーサが配設される格子が、アンテナ素子の格子に対応するので、アンテナアレイの固有周期性が、阻害されず、結果として、アンテナアレイの想定周波数範囲内では、アンテナ表面で起こるブラッグ反射がない。レーダー後方散乱断面積に受け入れられる必要のある損失はない。レーダー後方散乱断面積(RCS)に対しての要求がそれほど厳しくない場合には、スペーサとアンテナ素子の格子が対応していないような実施形態の代用も、可能である。しかしながら、このように修正された格子の配向は、アンテナ素子の格子と同じままである。この目的のために、スペーサの格子は、n番目のアンテナ素子ごとにのみ対応するスペーサがあるように(さらに、これらのスペーサの他にはさらなるスペーサはないように)、アンテナ素子の格子から得られる。したがって、これは、スペーサの最初の格子からの規定の間引きを表す。言い換えれば、基本的な格子構造は、維持されるが、格子寸法(格子定数)は、係数nだけ変化する。この場合には、nは1より大きな自然数である。
【0016】
WAIM層の記載した形態は、特に、機械的な機械加工技術、例えば、フライス削りなどによって達成されてもよい。WAIM層としての機能に応じて、材料は、可能な限り高い誘電率と、低損失角度と、を有し、層の厚さは、可能な限り薄くするべきである。このような誘電材料は、半完成品として市販されている。
【0017】
WAIM層の1つの適切な材料は、例えば、Cuming Microwave Corporationの誘電材料(製品)「C‐Stock AK」であり、この誘電材料は、顧客固有の誘電率で、且つ、さまざまな半完成品製品のサイズで、入手可能である。このような材料は、機械手段(例えば、フライス削り)を用いて、容易に処理可能である。
【0018】
より高い機械的な堅牢性を与えるために、リブの形態の追加の補強構造が、WAIM層の材料から形成されてもよい。電子スキュー中に、これらの構造がアンテナの伝送レベルに負の影響を与えることを防ぐために、これらの構造は、さらに、アンテナ素子の配列に周期的に従うものでなければならない。リブは、各々が2つの隣接するスペーサと接続するように設計される。
【0019】
WAIM層は、必ずしも平面である必要はない。WAIM層は、構造と共形の湾曲したアンテナアレイとともに使用するために、一次元または二次元の曲面を有してもよい。
【0020】
WAIM層は、追加の誘電体層と接続することによって、多層WAIMブロックを形成するように、拡張されてもよい。
【0021】
以下の記載において、図面を参照しながら、本発明の特定の例示的な実施形態についてさらに詳細に説明する。
【図面の簡単な説明】
【0022】
【図1】周期的に配設されたスペーサを有する、本発明によるWAIM層の三次元図。
【図2a】WAIM層の取り付け手段を示していない、本発明によるアンテナアレイの断面図。
【図2b】後方からWAIM層を取り付けた、本発明によるアンテナアレイの断面図。
【図2c】前方からWAIM層を取り付けた、本発明によるアンテナアレイの断面図。
【図3a】アンテナベースプレートにWAIM層がない、本発明によるアンテナアレイおよび関連するWAIM層の平面図。
【図3b】WAIM層が前方に配設された(WAIM層を透明に図示)、本発明によるアンテナアレイおよび関連するWAIM層の平面図。
【図3c】WAIM層を独自に有する、本発明によるアンテナアレイおよび関連するWAIM層の平面図。
【発明を実施するための形態】
【0023】
図1は、本発明によるWAIM層Wの1例を示す。層Wは、透明に図示されている(紙面にある)。この実施形態では支柱の形状である(円形断面を有する)スペーサAと、各々がそれぞれのスペーサAと接続する強化リブRとは、このWAIM層Wから突出していることが分かる。スペーサAおよび強化リブRは、材料ブロックをフライス削りすることによって作られたものである。
【0024】
図2は、前方にWAIM層Wが配設された、本発明によるアンテナアレイの断面図を示す。アンテナに対して「前方」および「後方」という用語は、「前方」が放出の起こるアンテナの側を意味するものとして使用される。
【0025】
図2は、規則的な格子状に配設されたスペーサAが、個々のアンテナ素子SE間の中間空間に配設され、且つ、アンテナベースプレートPに対して中間空間で当接することを示す。
WAIM層Wは、スペーサAの領域において留められる多数のねじS(図2b、図2c)によって、アンテナアレイの金属アンテナベースプレートPに取り付けられる。この場合には、アンテナの極性図に影響を及ぼさないようにするために、プラスチック材料から成るねじを使用することが好ましい。全体として、ねじSは、WAIM層Wが、ベースプレートPに、極めて堅牢に固定されることを保証する。ねじの材料特性は、WAIM層と可能な限り近い特性であることが好ましい。
【0026】
個々のねじの数および位置は、アンテナの堅牢性の要求に応じて、選択される。特に、すべてのスペーサにねじを設ける必要はない。
【0027】
しかしながら、アンテナの極性図へ及ぼす影響を可能な限り低くするために、アンテナ素子によって予め決められた格子と同じ格子が、ねじの配列に対して選択される。
【0028】
しかしながら、要求されるねじの数が、スペーサの数より少なくなるように選択されれば、ねじの配列の配向は、アンテナ素子の格子と同じままである。次に、ねじの配列は、n(n=2,3,4...)番目のスペーサごとにのみ、ねじが設けられるように、間引きされる。
【0029】
図2bおよび図2cは、WAIM層が取り付けられる方向が相違する。この取り付けは、アンテナの背面(図2b)および前面(図2c)の両方から行われ得る。図2bの場合には、ねじSは、ベースプレートPを貫通してスペーサA内に留められる。図2cの場合には、ねじSは、WAIM層Wを貫通してベースプレートP内に留められる。
【0030】
レーダー後方散乱断面積(RCS)を縮小できる点では、後方からねじ留めすることが好ましいが、言うまでもなく、アクセス性の点では、前面からの取り付けに利点がある。
【0031】
図3aは、アンテナ素子SEが規則的な格子に配設されたアンテナベースプレートPの平面図を示す。
【0032】
図3cは、関連するスペーサAとマッチングしたWAIM層Wを示す。この場合には、WAIM層のスペーサAの格子は、アンテナ素子SEの格子に対応する。
図3bでは、WAIM層W(透明なものとして図示)は、アンテナベースプレートP上に載置されており、これにより、2つの格子間の対応性を極めて良く確認することができる。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
‐ 規則的な格子に配設された複数のアンテナ素子(SE)を有するアンテナベースプレート(P)と、
‐ 大きなスキュー角に対してインピーダンスマッチングするために、前記アンテナ素子(SE)の前方に配設された誘電体WAIM(Wide Angle Impedance Match)層(W)と、
を備えるアンテナアレイにおいて、
前記WAIM層(W)が、前記アンテナ素子(SE)を覆うモノリシック層であり、スペーサ(A)が、前記WAIM層(W)の材料から規則的な格子に機械加工され、前記スペーサ(A)の格子が、前記アンテナ素子(SE)の格子に対応することを特徴とする、アンテナアレイ。
【請求項2】
前記アンテナ素子(SE)の格子が、正方形、矩形または六角形であることを特徴とする、請求項1に記載のアンテナアレイ。
【請求項3】
前記スペーサ(A)の格子が、前記アンテナ素子(SE)の格子と同じではなく、前記スペーサ(A)の格子が、n(n=2,3,4...)番目のアンテナ素子(SE)ごとにのみ対応するスペーサ(A)があるように、前記アンテナ素子(SE)の格子から得られることを特徴とする、請求項1または2に記載のアンテナアレイ。
【請求項4】
強化リブ(R)が、前記WAIM層(W)から機械加工され、各々が、2つの隣接するスペーサ(A)を接続することを特徴とする、請求項1から3のいずれか一項に記載のアンテナアレイ。
【請求項5】
前記WAIM層(W)が、機械接続手段(S)によって、複数のスペーサ(A)で、前記アンテナベースプレート(P)に取り付けられることを特徴とする、請求項1から4のいずれか一項に記載のアンテナアレイ。
【請求項6】
前記機械接続手段(S)が、前記スペーサ(A)の格子に対応する格子に配設されることを特徴とする、請求項5に記載のアンテナアレイ。
【請求項7】
前記機械接続手段(S)の格子が、前記スペーサ(A)の格子と同じではなく、前記機械接続手段(S)の格子が、n(n=2,3,4...)番目のスペーサごとにのみ対応する機械接続手段(S)が設けられるように、前記スペーサ(A)の格子から得られることを特徴とする、請求項5に記載のアンテナアレイ。
【請求項8】
前記スペーサ(A)の断面が円形であることを特徴とする、請求項1から7のいずれか一項に記載のアンテナアレイ。

【図1】
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【図2a】
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【図2b】
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【図2c】
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【図3a】
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【図3b】
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【図3c】
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【公開番号】特開2012−165382(P2012−165382A)
【公開日】平成24年8月30日(2012.8.30)
【国際特許分類】
【外国語出願】
【出願番号】特願2012−21836(P2012−21836)
【出願日】平成24年2月3日(2012.2.3)
【公序良俗違反の表示】
(特許庁注:以下のものは登録商標)
1.テフロン
【出願人】(501477864)イーエイーディーエス、ドイチュラント、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツング (10)
【氏名又は名称原語表記】EADS DEUTSCHLAND GMBH
【Fターム(参考)】